专利名称：磁通密度及构件损耗测量定位装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及ー种磁通密度及构件损耗测量定位装置，属于电磁测量技术领域。
背景技术：
目前，电磁装置结构件杂散损耗测量手段是将被试构件中的损耗从所测得的总损耗中分离，通过基于漏磁通补偿的构件杂散损耗的测量装置实现。在测量过程中，往往需要多次測量，由于放置位置不可能完全一致，会产生测量误差，并且构件定位过程繁琐，所需的时间较长。在构件外部磁通密度测量时，高斯计探头位置定位困难，且重复性差
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种磁通密度及构件损耗测量定位装置，解决了构件及高斯计探头定位不准而导致的测量误差问题。本实用新型的技术方案为磁通密度及构件损耗测量定位装置，包含四个结构件支架、定位夹件、定位板和磁屏蔽，在四个结构件支架的顶部分别设置定位夹件，若干定位板分别与磁屏蔽一起设置在定位夹件上，定位板大小与磁屏蔽相同，在定位板的一面设有若干规则排列的槽，槽的宽度、高度正好可容纳高斯计探头进出，每个定位板上所开槽的深度不同。在测量过程中，每次只用ー块定位板，根据磁屏蔽下不同位置磁通密度的測量需要，选取开槽深度不同的定位板。所说的在四个结构件支架的顶部分别设置定位夹件，是通过定位螺栓定位固定，结构件支架的顶部打孔，定位夹件上设有对应的长方形孔，留出一定的调节裕量，方便对定位板及构件作位置调整。所说的定位夹件、定位螺栓、定位板为绝缘非铁磁材料，不会对磁场分布造成影响。定位板所开槽，槽与槽之间的中心间距相同，根绝测量需要可取不同的中心间距值。对每个槽标号，方便測量及数据核对。本实用新型是在基于漏磁通补偿的构件杂散损耗的測量装置的基础上，设计出的用于磁通密度定位測量及提高构件杂散损耗测量准确度的装置。磁通密度测量是在负载情况下进行。构件杂散损耗的測量装置在测量过程中主要有空载和负载两种情況。本实用新型用于磁通密度和构件损耗测量都是用在负载情况下。在磁通密度测量时,其使用步骤如下①根据实验需要，选择所需开槽深度的定位板，将长宽尺寸相同的磁屏蔽与定位板叠在一起，上下对齐，定位板开槽的一面朝向磁屏蔽并紧贴构件，这样，在槽中插入高斯计探头时，可以保证探头紧贴磁屏蔽。②将对齐叠在一起的磁屏蔽及定位板放到构件杂散损耗的測量装置的结构支架上，调节并确定测量位置，用定位螺栓固定。③测量磁通密度吋，将高斯计探头依次插入已标号的槽中，记录所测得的測量数值。 在构件杂散损耗测量时，其实用步骤如下①将长宽尺寸相同的磁屏蔽与任意定位板叠在一起，上下对齐。②将对齐叠在一起的磁屏蔽及定位板放到构件杂散损耗的測量装置的结构支架上，调节并确定测量位置，用定位螺栓固定。③测量负载损耗时，定位板位置不动，可在定位板上侧放置不同的结构件，保证结构件同定位板对齐。④测量并记录数据。本实用新型的积极效果是(I)在磁屏蔽构件的外部测通密度測量是通过高斯计实现的，是将高斯计探头放置到所需测量的位置。由于空间、视野等的限制，測量位置会有误差，测量的可重复性差。定位板上所开的槽正好可容纳高斯计探头的进出。这样，在定位板位置固定不变的前提下，便可准确测量特定位置的磁通密度，提高了测量的准确性及可重复性。(2)构件杂散损耗测量装置在測量损耗过程中，不能完全保证每次所放置的构件在完全一致的位置，因此引入了测量误差，本实用新型的定位夹件及定位板将构件位置固定，提高了测量的准确度和可重复性。(3)本实用新型所采用的定位构件料均为非铁磁材料，不会影响原来測量系统的磁场分布。

图I为本实用新型在构件杂散损耗测量装置上放置后的结构示意图；图2为不同开槽深度的定位板结构示意图；图3为磁屏蔽及定位板对齐叠在一起的结构示意图；图中1、定位夹件；2、定位夹件；3、定位夹件；4、定位夹件；5、定位板；6、定位板；7、定位板；8、定位板；9、定位板；10、磁屏蔽；11、定位板；12、结构件支架。
具体实施方式
以下结合附图，通过实施例对本实用新型做进ー步说明。磁通密度及构件损耗测量定位装置，包含四个结构件支架12、定位夹件、定位板和磁屏蔽，在四个结构件支架的顶部分别设置定位夹件1、2、3、4，若干层定位板与磁屏蔽一起设置在定位夹件上，定位板大小与磁屏蔽相同，在定位板的一面设有若干规则排列的槽，槽的宽度、深度正好可容纳高斯计探头进出，根据测量需要，在不同的定位板上开深度不同的槽。所说的在四个结构件支架的顶部分别设置定位夹件，是通过定位螺栓定位固定，结构件支架的顶部打孔，定位夹件上设有对应的长方形孔，留出一定的调节裕量，方便对定位板及构件作位置调整。所说的定位夹件、定位螺栓、定位板为绝缘非铁磁材料，不会对磁场分布造成影响。參照附图1、2、3，在四个结构件支架12上打定位孔，安装定位夹件1、2、3、4在确定位置准确后用定位螺栓固定。定位板5、6、7、8、9长宽尺寸同磁屏蔽10相同。
权利要求1.一种磁通密度及构件损耗测量定位装置，其特征在于包含四个结构件支架(12)、定位夹件、定位板和磁屏蔽，在四个结构件支架的顶部分别设置定位夹件(1、2、3、4)，若干定位板分别与磁屏蔽一起设置在定位夹件上，定位板大小与磁屏蔽相同，在定位板的一面设有若干规则排列的槽。
2.根据权利要求I所述之磁通密度及构件损耗测量定位装置，其特征在于所说的在四个结构件支架的顶部分别设置定位夹件，是通过定位螺栓定位固定。
3.根据权利要求2所述之磁通密度及构件损耗测量定位装置，其特征在于结构件支架的顶部打孔，定位夹件上设有对应的长方形孔。
4.根据权利要求2所述之磁通密度及构件损耗测量定位装置，其特征在于所说的定位夹件、定位螺栓、定位板为绝缘非铁磁材料。
5.根据权利要求I或2所述之磁通密度及构件损耗测量定位装置，其特征在于定位板所开槽，槽与槽之间的中心间距相同。
专利摘要本实用新型涉及一种磁通密度及构件损耗测量定位装置，属于电磁测量技术领域。技术方案是包含四个结构件支架(12)、定位夹件、定位板和磁屏蔽，在四个结构件支架的顶部分别设置定位夹件(1、2、3、4)，每个定位板分别与磁屏蔽一起设置在定位夹件上，定位板大小与磁屏蔽相同，在定位板的一面设有若干规则排列的槽，槽正好容纳高斯计探头进出。本实用新型的积极效果是解决了构件损耗和磁通密度测量过程中，测量结果准确度较低，重复性较差的问题。尤其是在磁通密度测量上，可较大程度地提高测量准确度。另外，上述所有结构件均为非铁磁材料，避免了新加结构件后对原系统测量结果的影响。
文档编号G01R33/12GK202404220SQ20112055370
公开日2012年8月29日 申请日期2011年12月27日 优先权日2011年12月27日
发明者刘兰荣, 刘涛, 李 杰, 王晓燕, 程志光, 范亚娜 申请人:保定天威集团有限公司