专利名称：化工装置专有设备热位移测量系统的制作方法
技术领域：
本实用新型属测量领域，具体涉及化工装置专有设备热位移测量系统。
背景技术：
现有的测量装置用于小断面结晶器时，涡流传感器距结晶器法兰及铜管的距离远小于传感器的距离，结晶器的上下振动或传感器至结晶器法兰及铜管的距离的微小变化都将对测量产生很大的干扰，因而制约了对测量的精度。

实用新型内容针对现有技术的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种测量方便、结构合理的化工装置专有设备热位移测量系统。为了实现现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是化工装置专有设备热位移测量系统，包括圆坯结晶器、旋转轴、涡流传感器、数据显示器，所述圆坯结晶器的中部设有旋转轴，圆坯结晶器的两侧设有铜管，所述圆坯结晶器的上部设有法兰。所述涡流传感器通过法兰设置在圆坯结晶器内，所述涡流传感器的一侧设有安装杆。所述圆坯结晶器的一侧设有数据显示器。本实用新型的有益特点是测量方便，制作简单，造价低廉，适合大面积推广使用。
图1为本实用新型的结构示意图；图中，1、圆坯结晶器，2、旋转轴，3、铜管，4、法兰，5、涡流传感器，6、安装杆，7、数据显示器。
具体实施方式
如图所示，化工装置专有设备热位移测量系统，包括圆坯结晶器1、旋转轴2、涡流传感器5、数据显示器7，所述圆坯结晶器I的中部设有旋转轴2，圆坯结晶器I的两侧设有铜管3，所述圆坯结晶器I的上部设有法兰4，其中，所述涡流传感器5通过法兰4设置在圆坯结晶器I内，所述涡流传感器5的一侧设有安装杆6。所述圆坯结晶器I的一侧设有数据显示器7。本实用新型测量方便，制作简单，造价低廉，适合大面积推广使用。上述实施例不作为对本实用新型的限定，凡在本实用新型范围内所作的修改、改进、等同替换均属于本实用新型保护的范围。
权利要求1.化工装置专有设备热位移测量系统，包括圆坯结晶器、旋转轴、涡流传感器、数据显示器，其特征在于，所述圆坯结晶器的中部设有旋转轴，圆坯结晶器的两侧设有铜管，所述圆坯结晶器的上部设有法兰。
2.根据权利要求1所述的化工装置专有设备热位移测量系统，其特征在于，所述圆坯结晶器的一侧设有数据显示器。
3.根据权利要求1所述的化工装置专有设备热位移测量系统，其特征在于所述涡流传感器通过法兰设置在圆坯结晶器内，所述涡流传感器的一侧设有安装杆。
专利摘要本实用新型公开一种化工装置专有设备热位移测量系统，包括圆坯结晶器、旋转轴、涡流传感器、数据显示器，所述圆坯结晶器的中部设有旋转轴，圆坯结晶器的两侧设有铜管，所述圆坯结晶器的上部设有法兰，其中，所述涡流传感器通过法兰设置在圆坯结晶器内，所述涡流传感器的一侧设有安装杆。本实用新型的有益特点是测量方便，制作简单，造价低廉，适合大面积推广使用。
文档编号G01B7/02GK202853562SQ20122056171
公开日2013年4月3日 申请日期2012年10月30日 优先权日2012年10月30日
发明者李仁国, 李计划, 王久春, 黄孝荣, 易炳亮 申请人:中国化学工程第十六建设有限公司