专利名称：金属层线宽测量装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及测量设备技术领域，尤其涉及一种金属层线宽测量装置。
背景技术：
在TFT-LCD制造业中，CD设备是基本的监控线宽(CriticalDimension，CD)的测量设备。由于CD设备是通过对灰度图像中光的强弱变化来判定基板中不同膜层的边界的，通过⑶设备在对金属层线宽(Final Inspection⑶，FI⑶)进行测量时，测量结果会受到灯光强弱影响，而且这种光学CD结果与实际值相差较大，影响测量结果的准确性。

实用新型内容(一)要解决的技术问题本实用新型要解决的技术问题是提供一种结构简单、测量准确性高的金属层线宽测量装置。(二)技术方案为解决上述问题，本实用新型提供了一种金属层线宽测量装置，包括光发射装置，包括发射检测光信号的发光单元；光接收装置，与所述光发射装置相对设置，接收所述光发射装置发出的光信号并生成光强信号；所述光发射装置和光接收装置分别位于被测基板两侧；信号处理装置，与所述光接收装置连接，对所述光接收装置接收的光强信号进行处理，得到测量结果。优选地，所述光发射装置进一步包括接收被被测基板反射的光信号并生成光强信号的受光单兀。优选地，所述信号处理装置还与所述受光单元连接，分别对所述光接收装置和受光单元生成的光强信号进行处理，得到测量结果。优选地，进一步包括与所述光发射装置和光接收装置固定、沿被测基板的金属层线宽方向相对于所述被测基板移动的扫描移动装置。优选地，进一步包括供所述被测基板固定、沿被测基板的金属层线宽方向相对于所述光发射装置和光接收装置移动的扫描移动装置。优选地，进一步包括向所述扫描移动装置发送移动控制信号的移动控制装置。优选地，所述移动控制装置还与所述信号处理装置连接，向所述信号处理装置发送移动参数信号，所述信号处理装置根据所述移动参数信号对所述光强信号进行处理，得到所述测量结果。(三)有益效果本实用新型的测量装置可以消除照射灯光对测量结果的影响，避免由于灯光变化或维护后对设备测量结果造成偏差；本实用新型的测量装置得到的测量结果不受金属层折射光影响，与实际结果偏差较小；本实用新型的测量装置的信号数据处理相对灰度图像光强弱分析更加简单。

图1为根据本实用新型实施例一种金属层线宽测量装置的结构示意框图；图2为根据本实用新型实施例另一种金属层线宽测量装置的结构示意框图；图3为根据本实用新型实施例另一种金属层线宽测量装置的测量示意图；图4为根据本实用新型实施例另一种金属层线宽测量装置得到的两个光强信号的曲线图。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明如下。如图1所示，本实施例记载了一种金属层线宽测量装置，包括光发射装置110，包括发射检测光信号的发光单元；光接收装置120，与所述光发射装置110相对设置，接收所述光发射装置110发出的光信号并生成光强信号；所述光发射装置110和光接收装置120分别位于被测基板130两侧；信号处理装置140，与所述光接收装置120连接，对所述光接收装置120发送的光强信号进行处理，得到测量结果。在被测基板130经过所述光发射装置110和光接收装置120之间的部分为不含有金属层的透明层时，所述光发射装置110发射的光信号能被光接收装置120接收到；含有金属层时，所述光发射装置110发射的光信号不能被光接收装置120接收到；所述信号处理装置140根据所述光接收装置120发送的光强信号即可判断被测基板130的该部分是否包含金属层，进而得到整个金属层的线宽。其结构简单、测量结果准确可靠并且对信号的处理也比较容易。如图2所示为本实用新型另一个实施例记载的金属层线宽测量装置。在本实施例中除了图1所示实施例记载的光发射装置210、光接收装置220以及信号处理装置230外，所述测量装置还包括属于光发射装置210、接收被测基板240反射的光信号并生成对应光强信号的受光单元212 ；与所述光发射装置210和光接收装置220固定、沿被测基板240的金属层243线宽方向相对于所述被测基板240移动的扫描移动装置250 ;以及向所述扫描移动装置250发送移动控制信号的移动控制装置260。所述信号处理装置230还分别与所述受光单元212和移动控制装置260连接，用于接收所述受光单元212发送的光强信号以及所述移动控制装置260发送的移动参数信号；再根据所述移动参数信号对所述光接收装置220和受光单元212发送的光强信号进行处理，得到金属层243线宽的测量结果。[0039]例如，所述信号处理装置230根据受光单元212接收较强光强信号和光接收装置220接收较弱光强信号的时间、以及扫描移动装置250移动的速度和移动的方向等移动参数信号，计算出所述扫描移动装置250在金属层243上对应移动的距离，进而得到所述金属层243的线宽。在本实用新型的其它实施例中，所述扫描移动装置250还可以供所述被测基板240固定、沿被测基板240的金属层243线宽方向相对于所述光发射装置210和光接收装置220移动。 如图3和图4所示，在本实施例中，被测基板240包括玻璃基板241、非晶硅(a_Si )层242以及金属层243，其中玻璃基板241和a_Si层242为透明的透光层，光发射装置210和光接收装置220在所述扫描移动装置250的作用下，沿着金属层243的线宽方向a按一定速度同步移动，在没有经过金属层243的位置，光发射装置210的发光单元211发射的光信号被光接收装置220接收后生成图4中实线所示的光强信号输出；在经过金属层243的位置，光发射装置210发送的光信号被所述金属层243反射后，回到光发射装置210，被光发射装置210的受光单元212接收后生成图4中点划线所示的光强信号输出。本实施例通过同时设置受光单元212和光接收装置220，对二者产生的光强信号进行处理，可以使得测量结果的准确性得到更大保障，避免光接收装置220和受光单元212之一收到干扰而产生测量误差。为消除膜层不均匀对结果影响，本实施例可通过所述移动控制装置260设置移动扫描装置在所述被测基板240上扫描一个往返轮回。本实用新型通过光发射装置和光接收装置保持同步扫描金属膜层，通过分析光发射装置和光接收装置接收到的信号强度变化，计算金属层线宽值，结构简单、使用方便、测量结果准确可靠。以上实施方式仅用于说明本实用新型，而并非对本实用新型的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本实用新型的范畴，本实用新型的专利保护范围应由权利要求限定。
权利要求1.一种金属层线宽测量装置，其特征在于，包括 光发射装置，包括发射检测光信号的发光单元； 光接收装置，与所述光发射装置相对设置，接收所述光发射装置发出的光信号并生成光强信号；所述光发射装置和光接收装置分别位于被测基板两侧； 信号处理装置，与所述光接收装置连接，对所述光接收装置接收的光强信号进行处理，得到测量结果。
2.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述光发射装置进一步包括接收被被测基板反射的光信号并生成光强信号的受光单元。
3.如权利要求2所述的测量装置，其特征在于，所述信号处理装置还与所述受光单元连接，分别对所述光接收装置和受光单元生成的光强信号进行处理，得到测量结果。
4.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于，进一步包括与所述光发射装置和光接收装置固定、沿被测基板的金属层线宽方向相对于所述被测基板移动的扫描移动装置。
5.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于，进一步包括供所述被测基板固定、沿被测基板的金属层线宽方向相对于所述光发射装置和光接收装置移动的扫描移动装置。
6.如权利要求4或5所述的测量装置，其特征在于，进一步包括向所述扫描移动装置发送移动控制信号的移动控制装置。
7.如权利要求6所述的测量装置，其特征在于，所述移动控制装置还与所述信号处理装置连接，向所述信号处理装置发送移动参数信号，所述信号处理装置根据所述移动参数信号对所述光强信号进行处理，得到所述测量结果。
专利摘要本实用新型公开了一种金属层线宽测量装置，包括光发射装置，包括发射检测光信号的发光单元；光接收装置，与所述光发射装置相对设置，接收所述光发射装置发出的光信号并生成光强信号；所述光发射装置和光接收装置分别位于被测基板两侧；信号处理装置，与所述光接收装置连接，对所述光接收装置接收的光强信号进行处理，得到测量结果。本实用新型通过光发射装置和光接收装置保持同步扫描金属膜层，通过分析光发射装置和光接收装置接收到的信号强度变化，计算金属层线宽值，结构简单、使用方便、测量结果准确可靠。
文档编号G01B11/02GK202903138SQ20122063733
公开日2013年4月24日 申请日期2012年11月27日 优先权日2012年11月27日
发明者刘杰, 曲泓铭, 安峰, 张光明, 李伟, 宋泳珍, 郑云友, 吴成龙 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司