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缺陷检测方法

时间:2025-05-20    作者: 管理员

专利名称:缺陷检测方法
技术领域
本发明涉及半导体领域,特别涉及一种对衬底的缺陷检测方法。
背景技术
随着超大规模集成电路ULSI (Ultra Large Scale Integration)的飞速发展,集 成电路工艺制作工艺变得越来越复杂和精细,这就要求以更高的精度和更好的均匀性形成 半导体器件,而在实际集成电路生产过程,由于工艺和设备等不同因素的影响,往往在衬底 表面会形成不可预期的缺陷,例如颗粒缺陷,最终导致产品良率的降低,因此,在集成电路 生产中半导体衬底的缺陷检测也变得至关重要。
图1为现有技术缺陷检测方法的流程示意图,包括步骤S101,提供阈值;S102,获 得单元片上一个区域的待检像素和相邻单元片上一个区域参考像素;S103,根据单元片上 一个区域的待检像素的灰度值和相邻单元片上一个区域参考像素的灰度值,获得整个单元 片的待检值和相邻单元片的参考值,并获得所述待检值和参考值的之间差值,所述差值为 绝对值;S104,比较所述差值与阈值的大小,当差值大于阈值时,判定有缺陷的存在。灰度值 表示像素的技术为公知的技术在此不再详述。所述整个单元片的待检值为所述单元片上一 个区域的待检像素的灰度值的加权平均值。
更多关于缺陷检测的方法请参考专利号为US5995218A的美国专利。
现有技术中所述单元片的待检值为根据单元片上一个区域的灰度值获得,虽然能 提高扫描速率,但是待检值不能准确反映单元片的实际形貌特征,缺陷扫描时,极易造成缺 陷的不正确检测,降低了缺陷扫描的准确性和效率。发明内容
本发明解决的问题是提供了一种缺陷检测方法,提高了缺陷检测的正确率和效率。
为解决上述问题,本发明提供了一种缺陷检测方法,包括步骤
提供母本衬底一目标单元片上多个区域的区域母本阈值;
提供待检衬底,选定所述待检衬底上一待检单元片和相邻单元片;
将所述待检单元片和相邻单元片划分为多个区域,并获取所述待检单元片上每个 区域的区域待检像素和相邻单元片上的每个区域的区域参考像素;
根据所述区域待检像素和区域参考像素,计算待检单元片和相邻单元片上每个区 域的区域待检值和区域参考值,获得所述区域待检值和区域参考值的之间的差值并以之作 为区域差值,所述区域差值为绝对值;比较所述区域差值与区域母本阈值的大小,当所述区 域差值大于区域母本阈值时,判定有缺陷的存在。
可选的,所述母本衬底和待检衬底上有多个具有相同构图的单元片。
可选的,所述待检衬底上待检单元片的区域待检值为区域待检像素的灰度值、区 域待检像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域待检像素灰度值的平均值或区域待检像素灰度值的方差值。
可选的,所述待检衬底上相邻单元片的区域参考值为区域参考像素的灰度值、区 域参考像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域参考像素灰度值的平均值或区域参考 像素灰度值的方差值。
可选的,所述相邻单元片的数量等于或大于I。
可选的,所述区域母本阈值的获得方法为提供母本衬底;选定所述母本衬底上 一目标单元片和相邻单元片;将所述目标单元片和相邻单元片划分为数量和位置相同的N 个区域,获得所述目标单元片第I N个区域的区域母本已检像素和相邻单元片上相应第 I N个区域的区域参考像素;根据所述区域母本已检像素和区域参考像素的灰度值,计算 所述目标单元片第I N个区域的区域母本已检值和相邻单元片相应第I N个区域的区 域参考值;获得所述目标单元片上第I N个区域的区域母本已检值和相邻单元片上对应 第I N个区域的区域参考值的之间差值,以所述差值作为区域母本阈值,所述区域母本阈 值为绝对值。
可选的,所述第N区域的区域母本已检值为第I N-1个区域的区域母本已检值 的加权平均值。
可选的,所述第N区域的参考值为第I N-1个区域的参考值的加权平均值。
可选的,所述母本衬底目标单元片上区域的划分为用户通过人机界面单元实现。
可选的,所述母本衬底目标单元片和相邻单元片上区域的划分数量N等于或大于 3。
可选的,还包括,存储所述区域母本已检值、区域母本阈值和母本衬底上目标单元 片的区域划分线位置信息。
可选的,所述母本衬底上目标单元片的区域母本已检值为区域母本已检像素的 灰度值、区域母本已检像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域母本已检像素灰度值 的平均值或区域母本已检像素灰度值的方差值。
可选的,所述母本衬底上相邻单元片的区域参考值为区域参考像素的灰度值、区 域参考像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域参考像素灰度值的平均值或区域参考 像素灰度值的方差值。
可选的,所述区域母本阈值为用户通过人机界面单元输入的值。
可选的,所述待检衬底上待检单元片和相邻单元片上区域划分的数量和位置与母 本衬底一目标单元片上区域划分的数量和位置相同。
可选的,还包括,给出缺陷存在的报警信号。
与现有技术相比,本发明技术方案具有以下优点
对所述待检衬底上单元片进行多区域的划分,并根据每一区域的待检像素灰度值 获得相应区域的待检值,所述多个区域的待检值构成整个单元片的待检值,相比于现有技 术由一个区域的灰度值获得整个单元片的待检值,更能准确反映所述待检单元片的实际形 貌特征,因此,在缺陷扫描时,提高缺陷扫描时的准确率和效率。
进一步,所述区域的划分为用户通过人机界面单元实现,用户根据单元片上图形 的重复性、密集度、图形的材质和工艺的特点来确定区域划分的数量和位置,提高了用户操 作的选择性,并且所述区域母本阈值为用户通过人机界面单元输入的值,用户可以参考母本衬底上目标单元片的区域母本已检值与相邻单元片的区域参考值之间的差值来设定区 域母本阈值,用户认为工艺过程中比较重要的区域相应的区域母本阈值设定为比所述差值 小5 % 20 %的值,不重要的区域相应的区域母本阈值设定为比所述差值大5 % 20 %的 值,避免真实缺陷检测不到的问题,提高了缺陷扫描的准确率和效率。


图1是现有技术缺陷检测方法的流程示意图2是本发明缺陷检测方法的流程示意图3为本发明缺陷检测工具的结构简要示意图4 图8为本发明母本衬底和待检衬底结构示意图。
具体实施方式
发明人在检测半导体衬底上缺陷的过程中发现,现有技术中单元片的待检值为根 据单元片上一个区域的灰度值获得,而产品单元片上区域的差异化比较明显,所述待检值 不能准确反映单元片的实际形貌特征,缺陷扫描时,极易造成缺陷的不正确检测,缺陷检测 效率和准确率低,为解决以上问题,发明人提出一种缺陷检测方法。
参考图2,为本发明缺陷检测方法实施例的流程示意图。
步骤S201,提供母本衬底一目标单元片上多个区域的区域母本阈值;
步骤S202,提供待检衬底,选定所述待检衬底上一待检单元片和相邻单元片;
步骤S203,将所述待检单元片和相邻单元片划分为多个区域,并获取所述待检单 元片上每个区域的区域待检像素和相邻单元片上的每个区域的区域参考像素;
步骤S204,根据所述区域待检像素和区域参考像素,计算待检单元片和相邻单元 片上每个区域的区域待检值和区域参考值,获得所述区域待检值和区域参考值的之间的差 值并以之作为区域差值,所述区域差值为绝对值;
步骤S205,比较所述区域差值与区域母本阈值的大小,当所述区域差值大于区域 母本阈值时,判定有缺陷的存在。
参考图3,为本发明所使用的缺陷扫描工具的结构简要示意图,包括图像采集单 元310,用于扫描衬底的表面,采集信息;中央处理单元311,用于与所述图像采集单元310 进行通信并处理分析图像采集单元310所采集的信息,所述中央处理单元311还具有存储 相关信息的功能;人机界面单元312,用于显示所述中央处理单元311的分析结果和图像采 集单元310的采集信息,及作为用户终端与中央处理单元311进行通信。
步骤S201,提供母本衬底一目标单元片上多个区域的区域母本阈值。
参考图4,提供母本衬底30,所述母本衬底30上形成有许多具有相同构图的单元 片(Die),例如单元片301、单元片302、单元片303。所述单元片(Die)上形成有类似的图 形,例如图5所示的L型和I型的图形。注意每个单元片中可包括大量的图形,这些图形又 分为许多层,作为沟槽、通孔或者栅极等的一部分。
选定所述母本衬底30上一目标单元片和相邻单元片,所述目标单元片一般位于 所述母本衬底30中间,也可以位于其他位置;所述相邻单元片位于所述目标单元片左侧或 右侧。本实施例选定的目标单元片为301,相邻单元片为302。
参考图6,用户通过人机界面单元312(图3所示)将所述目标单元片301划分为 多个区域,所述区域的划分数量N等于或大于3,所述区域划分线的形状为矩形,或者是其 他合适的图形,本实施例中所述目标单元片301区域划分的数量为3个,其中包括第一区域 3030、第二区域3040、第三区域3050,所述第一区域3030、第二区域3040为用户通过所述人 机界面单元312确定划分,所述第三区域3050为所述缺陷扫描工具自行确认,为所述目标 单元片301上除第一区域3030、第二区域3040以外的其他区域;保存所述第一区域3030、 第二区域3040、第三区域3050区域划分线的位置信息,所述区域划分线位置信息的确定方 法为以所述第二区域3040划分线位置信息为例,选择所述目标单元片301上的一个点作 为原点,如20为原点,原点的坐标为(0,O),计算所述第二区域3040划分线构成的矩形的四 个顶点50、60、70、80的坐标位置,所述四个顶点的坐标位置即为第二区域3040区域划分线 位置信息;获得并存储所述第一区域3030、第二区域3040、第三区域3050的区域母本已检 像素,所述区域母本已检像素为灰度值,即用灰度值表示像素,用灰度值表示像素的技术为 公知的技术在此不再详述,本发明中所有的像素都是用灰度值表示;选定相邻单元片302, 并将所述相邻单元片302根据存储的所述目标单元片301的区域划分线位置信息划分为相 同的3个区域,包括第一区域3060、第二区域3070、第三区域3080,并同时获得相应区域的 区域参考像素。所述目标单元片301上区域数量和位置的选择由用户根据单元片上图形的 重复性、密集度或者图形的材质以及图形在工艺步骤中的重要性确定。
根据所述目标单元片301上区域母本已检像素和相邻单元片302上区域参考像 素,计算所述目标单元片301上第一区域3030、第二区域3040、第三区域3050的区域母本 已检值和相邻单元片302上第一区域3060、第二区域3070、第三区域3080的区域参考值; 获得所述目标单元片301的区域母本已检值与所述相邻单元片302上相应的区域参考值之 间的差值,以所述差值作为区域母本阈值,所述区域母本阈值为绝对值,存储所述区域母本 阈值。
所述区域母本阈值也可以由用户通过人机界面单元输入,用户根据工艺特点认为 比较重要的区域的区域母本阈值设定小一点,例如目标单元片301和相邻单元片302上的 第一区域中主要为存储区(包括大量重复图形的区域),则对应第一区域的区域母本阈值 设置为比所述目标单元片301上第一区域3030区域母本已检值与相邻单元片302上第一 区域3060区域参考值之间的差值的小5% 20%的值;不重要的区域的区域母本阈值设定 大一点,例如目标单元片301和相邻单元片302上第三区域主要为背景区域(一般为非 常光滑的区域),则对应第三区域的区域母本阈值设置为比所述目标单元片301上第三区 域3050区域母本已检值与相邻单元片为302上第三区域3080区域参考值之间的差值的大 5% 20%的值,采用这样的设置,避免真实的缺陷检测不到的问题,提高了缺陷扫描的准 确性和效率。
母本衬底上目标单元片的区域母本已检值为区域母本已检像素的灰度值、区域 母本已检像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域母本已检像素灰度值的平均值或区 域母本已检像素灰度值的方差值。例如所述目标单元片301上第一区域3030的区域母本 已检值为第一区域3030母本已检像素的灰度值、第一区域3030母本已检像素的最大灰度 值和最小灰度值的差值、第一区域3030母本已检像素灰度值的平均值或第一区域3030母 本已检像素灰度值的方差值。
本实施例中所述区域母本已检值为区域母本已检像素灰度值的方差值。
母本衬底上相邻单元片的区域参考值为区域参考像素的灰度值、区域参考像素 的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域参考像素灰度值的平均值或区域参考像素灰度值 的方差值。
所述母本衬底上相邻单元片的区域参考值的选择与目标单元片的区域母本已检 值的选择相对应,本实施例中所述相邻单元片的区域参考值为区域参考像素灰度值的方差值。
在其他实施例中,所述目标单元片301上第三区域3050的区域母本已检值为第一 区域3030的区域母本已检值和第二区域3040区域母本已检值的加权平均值。在实际生产 过程中,第三区域3050被视为对缺陷要求相对偏低,通过第一区域3030的区域母本已检值 和第二区域3040区域母本已检值的加权平均值获得的第三区域3050区域母本已检值基本 能反映第三区域3050的形貌特征,而不需要通过第三区域3050母本已检像素获得,节省了 计算时间,提高了效率。所述相邻单元片302上第三区域3080的区域参考值为第一区域 3060和第二区域3070区域参考值的加权平均值,所述加权平均值的权数与目标单元片301 上第三区域3050母本已检值计算的权数相同。
步骤S202,提供待检衬底,选定所述待检衬底上一待检单元片和相邻单元片。
参考图7和图8,提供待检衬底40,所述待检衬底40形成有与所述母本衬底30 (图 4所示)相同构图的单元片(Die)。
所述相邻单元片的数量等于或大于1,本实施例中所述相邻单元片的数量为2个。
所述待检衬底40上的单元片401、单元片402、单元片403定义为待检衬底40上 的第一个单元片、第二个单元片、第三个单元片,其它单元片的顺序依次类推。相邻单元片 的选择方式有两种情况当所述第一个单元片作为待检单元片,选择第二个单元片和第三 个单元片作为相邻单元片;当所述第二个单元片作为待检单元片时,以第一个单元片和第 三个单元片作为相邻单元片,此种方式适用于第一个单元片外的所有单元片,即选择待检 单元片的前一个单元片和后一个单元片作为相邻单元片。本实施例中以单元片401作为待 检单元片。
步骤S203和步骤S204,将所述待检单元片和相邻单元片划分为多个区域,并获取 所述待检单元片上每个区域的区域待检像素和相邻单元片上的每个区域的区域参考像素; 根据所述区域待检像素和区域参考像素,计算待检单元片和相邻单元片上每个区域的区域 待检值和区域参考值,获得所述区域待检值和区域参考值的之间的差值并以之作为区域差 值,所述区域差值为绝对值。
参考图8,选定所述待检单元片401,缺陷扫描工具根据存储的母本衬底上目标单 元片301的区域划分线位置信息将所述待检单元片401划分为三个区域,包括第一区域 4030、第二区域4040、第三区域4050,同时获得所述第一区域4030、第二区域4040、第三区 域4050的区域待检像素,根据第一区域4030、第二区域4040、第三区域4050的区域待检 像素计算所述第一区域4030、第二区域4040、第三区域4050的区域待检值;选定所述相邻 单元片402,缺陷扫描工具根据存储的母本衬底上目标单元片301的区域划分线位置信息 将所述相邻单元片402划分为三个区域,包括第一区域4060、第二区域4070、第三区域 4080,同时获得第一区域4060、第二区域4070、第三区域4080区域参考像素,根据第一区域4060、第二区域4070、第三区域4080的区域参考像素计算所述第一区域4060、第二区域 4070、第三区域4080的区域参考值;选定所述相邻单元片403,缺陷扫描工具根据存储的母 本衬底上目标单元片301的区域划分线位置信息将相邻单元片403划分为三个区域,包括 第一区域4090、第二区域4010、第三区域4020,同时获得第一区域4090、第二区域4010、第 三区域4020的区域参考像素,根据第一区域4090、第二区域4010、第三区域4020的区域参 考像素获得所述第一区域4090、第二区域4010、第三区域4020的区域参考值;获得所述待 检单元片401与所述相邻单元片402相应区域的区域待检值和区域参考值之间的差值作为 区域差值1,获得所述待检单元片401与所述相邻单元片403相应区域的区域待检值和区域 参考值之间的差值作为区域差值2。所述区域差值1、区域差值2均为绝对值。对所述待检 衬底上单元片进行多区域的划分,并根据每一区域的待检像素灰度值获得相应区域的待检 值,所述多个区域的待检值构成整个单元片的待检值,相比于现有技术由一个区域的灰度 值获得整个单元片的待检值,更能准确反映所述待检单元片的实际形貌特征,因此,在缺陷 扫描时,提高缺陷扫描时的准确率和效率。
待检衬底上待检单元片的区域待检值为区域待检像素的灰度值、区域待检像素 的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域待检像素灰度值的平均值或区域待检像素灰度值 的方差值。例如所述待检单元片401上第一区域4030的区域待检值为第一区域4030 待检像素的灰度值、第一区域4030待检像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、第一区域 4030待检像素灰度值的平均值或第一区域4030待检像素灰度值的方差值。
待检衬底上待检单元片的区域待检值的选择与母本衬底上目标单元片的区域母 本已检值的选择相对应,本实施例中所述待检衬底上待检单元片的区域待检值为区域待检 像素灰度值的方差值。
待检衬底上相邻单元片的区域参考值为区域参考像素的灰度值、区域参考像素 的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域参考像素灰度值的平均值或区域参考像素灰度值 的方差值。
所述待检衬底上相邻单元片的区域参考值的选择与母本衬底上目标单元片的区 域母本已检值的选择相对应,本实例中所述待检衬底上相邻单元片的区域参考值为区域参 考像素灰度值的方差值。
执行步骤S205,比较所述区域差值与区域母本阈值的大小,当所述区域差值大于 区域母本阈值时,判定有缺陷的存在。
判断缺陷的具体过程为当所述区域差值I小于所述区域母本阈值时,则所述待 测单元片401没有缺陷的存在;当所述区域差值I大于所述区域母本阈值时,且所述区域差 值2大于区域母本阈值,则所述待检单元片401相应区域有缺陷的存在;当所述区域差值 I大于所述区域母本阈值时,而所述区域差值2小于所述区域母本阈值,则所述待检单元片 401没有缺陷的存在。
当缺陷存在时,所述缺陷检测工具给出缺陷存在的报警信号。
综上,采用本发明提供的缺陷检测方法,对所述待检衬底上单元片进行多区域的 划分,并根据每一区域的待检像素灰度值获得相应区域的待检值,所述多个区域的待检值 构成整个单元片的待检值,相比于现有技术由一个区域的灰度值获得整个单元片的待检 值,更能准确反映所述待检单元片的实际形貌特征,因此,在缺陷扫描时,提高缺陷扫描时的准确率和效率。
进一步,所述区域的划分为用户通过人机界面单元实现,用户根据单元片上图形 的重复性、密集度、图形的材质和工艺的特点来确定区域划分的数量和位置,提高了用户操 作的选择性,并且所述区域母本阈值为用户通过人机界面单元输入的值,用户可以参考目 标单元片上区域母本已检值与相邻单元片上区域的参考值之间的差值来设定区域母本阈 值,用户认为工艺过程中比较重要的区域相应的区域母本阈值设定为比所述差值小5% 20%的值,不重要的区域相应的区域母本阈值设定为比所述差值大5% 20%的值,避免 真实缺陷检测不到的问题,提高了缺陷扫描的准确率和效率。
本发明虽然已以较佳实施例公开如上,但其并不是用来限定本发明,任何本领域 技术人员在不脱离本发明的精神和范围内,都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本发 明技术方案做出可能的变动和修改,因此,凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明 的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰,均属于本发明技术方案 的保护范围。
权利要求
1.一种缺陷检测方法,其特征在于,包括步骤提供母本衬底一目标单元片上多个区域的区域母本阈值;提供待检衬底,选定所述待检衬底上一待检单元片和相邻单元片;将所述待检单元片和相邻单元片划分为多个区域,并获取所述待检单元片上每个区域的区域待检像素和相邻单元片上的每个区域的区域参考像素;根据所述区域待检像素和区域参考像素,计算待检单元片和相邻单元片上每个区域的区域待检值和区域参考值,获得所述区域待检值和区域参考值的之间的差值并以之作为区域差值,所述区域差值为绝对值;比较所述区域差值与区域母本阈值的大小,当所述区域差值大于区域母本阈值时,判定有缺陷的存在。
2.如权利要求1所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述母本衬底和待检衬底上有多个具有相同构图的单元片。
3.如权利要求1所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述待检衬底上待检单元片的区域待检值为区域待检像素的灰度值、区域待检像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域待检像素灰度值的平均值或区域待检像素灰度值的方差值。
4.如权利要求1所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述待检衬底上相邻单元片的区域参考值为区域参考像素的灰度值、区域参考像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域参考像素灰度值的平均值或区域参考像素灰度值的方差值。
5.如权利要求1所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述相邻单元片的数量等于或大于I。
6.如权利要求1所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述区域母本阈值的获得方法为提供母本衬底;选定所述母本衬底上一目标单元片和相邻单元片;将所述目标单元片和相邻单元片划分为数量和位置相同的N个区域,获得所述目标单元片第I N个区域的区域母本已检像素和相邻单元片上相应第I N个区域的区域参考像素;根据所述区域母本已检像素和区域参考像素的灰度值,计算所述目标单元片第I N个区域的区域母本已检值和相邻单元片相应第I N个区域的区域参考值;获得所述目标单元片上第I N个区域的区域母本已检值和相邻单元片上对应第I N个区域的区域参考值的之间差值,以所述差值作为区域母本阈值,所述区域母本阈值为绝对值。
7.如权利要求6所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述第N区域的区域母本已检值为第I N-1个区域的区域母本已检值的加权平均值。
8.如权利要求6所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述第N区域的参考值为第I N-1个区域的参考值的加权平均值。
9.如权利要求6所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述母本衬底目标单元片上区域的划分为用户通过人机界面单元实现。
10.如权利要求6所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述母本衬底目标单元片和相邻单元片上区域的划分数量N等于或大于3。
11.如权利要求6所述的缺陷检测方法,其特征在于,还包括,存储所述区域母本已检值、区域母本阈值和母本衬底上目标单元片的区域划分线位置信息。
12.如权利要求6所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述母本衬底上目标单元片的区域母本已检值为区域母本已检像素的灰度值、区域母本已检像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域母本已检像素灰度值的平均值或区域母本已检像素灰度值的方差值。
13.如权利要求6所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述母本衬底上相邻单元片的区域参考值为区域参考像素的灰度值、区域参考像素的最大灰度值和最小灰度值的差值、区域参考像素灰度值的平均值或区域参考像素灰度值的方差值。
14.如权利要求1所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述区域母本阈值为用户通过人机界面单元输入的值。
15.如权利要求1所述的缺陷检测方法,其特征在于,所述待检衬底上待检单元片和相邻单元片上区域划分的数量和位置与母本衬底一目标单元片上区域划分的数量和位置相同。
16.如权利要求1所述的缺陷检测方法,其特征在于,还包括,给出缺陷存在的报警信号。
全文摘要
一种缺陷检测方法,包括步骤提供母本衬底一目标单元片上多个区域的区域母本阈值;提供待检衬底,选定所述待检衬底上一待检单元片和相邻单元片;将所述待检单元片和相邻单元片划分为多个区域,并获取所述待检单元片上每个区域的区域待检像素和相邻单元片上的每个区域的区域参考像素;根据所述区域待检像素和区域参考像素,计算待检单元片和相邻单元片上每个区域的区域待检值和区域参考值,获得所述区域待检值和区域参考值的之间的差值并以之作为区域差值,所述区域差值为绝对值;比较所述区域差值与区域母本阈值的大小,当所述区域差值大于区域母本阈值时,判定有缺陷的存在。采用本发明的方法,提高了缺陷检测的正确率和效率。
文档编号G01N21/95GK103018260SQ20111029824
公开日2013年4月3日 申请日期2011年9月27日 优先权日2011年9月27日
发明者叶林, 徐萍, 朱瑜杰, 陈思安 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

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  • 专利名称:一种圆柱形试样防漏气装置的制作方法技术领域:本实用新型属于土工试验技术领域,特别涉及一种圆柱形试样防漏气装置。 背景技术:1933年,德国人沙菲尔特(Seffert)曾在普鲁士水道试验站用三轴仪研究土的固结,其目的是为了减少试样的
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