专利名称：控制涂施设备的方法
技术领域：
本发明涉及一种控制涂施设备(coating apparatus)的方法，且更明确地说，涉 及一种控制用于涂施密封剂的密封分配器(seal dispenser)的喷嘴(nozzle)与传感器 (sensor)之间的距离的方法。
背景技术：
迄今通常使用阴极射线管(cathode ray tube,CRT)作为显示装置。然而，由于其 缺点(例如体积大且重量重)，针对包含液晶显示器(liquid crystal display, LCD)、等 离子体显示面板(plasma display panel, PDP)、有机发光装置(organic light emitting device, 0LED)等在内的平板显示器(flat panel display)的市场正在增长。上文所描述的平板显示器通常是通过连结一对平坦衬底来制造的。举例来说，就 液晶显示面板(liquid crystal display panel)而论，首先制造上面形成有多个薄膜晶体 管(thin film transistor)和像素电极(pixel electrode)的下部衬底以及上面形成有 彩色滤光片(color filter)和共用电极(common electrode)的上部衬底。接着，将液晶 滴落在下部衬底上，且在下部衬底的边缘区中涂施密封剂。此后，将下部衬底的上面形成有 像素电极的表面与上部衬底的上面形成有共用电极的表面定位成面向彼此、附接在一起且 密封，以便制造液晶显示面板。在制造过程期间，使用涂施设备来涂施密封剂，且需要所述设备使用精确地控制 密封剂注射喷嘴(sealant injection nozzle)与衬底之间的间隙的技术。举例来说，当衬 底与喷嘴之间的间隙非常小时，所涂施的密封剂的图案的宽度变宽，且图案的高度变低。然 而，当衬底与喷嘴之间的间隙过大时，衬底上的涂施材料图案的宽度变窄，且有时涂施材料 图案可能具有不连贯的区段。在将密封剂涂施在衬底上以形成涂施材料图案的情况下，当衬底的表面不平或衬 底的表面上的一部分中形成额外膜层时，可能会无意地改变喷嘴与衬底之间的间隙。因此，新近涂施设备中的一些设备经配置以包含用于测量喷嘴与衬底之间的间隙 的传感器。在密封剂的涂施期间，使用传感器来周期性地测量喷嘴与衬底之间的间隙，使得 衬底与喷嘴之间的间隙可保持恒定。由此，可抑制在涂施材料图案中产生缺陷。然而，因为喷嘴与传感器组合并安装到涂施设备，所以喷嘴与传感器之间的实际 距离变得不同于原始既定的距离。所述距离可能在例如更换喷嘴等任何操作期间改变。由于喷嘴与间隙传感器之间的距 离的差异，传感器的测量点可能改变。在此情况 下，从传感器发射的光可能到达非既定衬底区，这导致涂施材料图案的变化。举例来说，由 于喷嘴与传感器之间的距离的差异，传感器可能测量衬底与喷嘴之间对应于上面涂施有膜 层的衬底区的间隙，而不是测量衬底与喷嘴之间对应于衬底的密封剂涂施区的间隙。因此， 需要精确地测量喷嘴与传感器之间的距离。为了测量喷嘴与传感器之间的距离，通常已使用例如视觉相机(vision camera) 等额外装置。然而，在此情况下，应另外提供用于测量喷嘴与传感器之间的距离的视觉相机，这伴有用于制造分配器的成本增加或设备的体积增加的缺点。

发明内容
本发明提供一种控制涂施设备的方法，所述方法能够通过使用测量衬底与涂施 构件之间的距离的传感器测量光点(optical spot)与涂施材料图案(coating material pattern)之间的距离来增强测量所述距离的准确性。根据示范性实施例，一种控制包含用于将涂施材料涂施在衬底上的涂施构件以及 具有用于测量衬底与涂施构件之间的距离的传感器的分配器的涂施设备的方法可包含使 用涂施构件在衬底上形成涂施材料图案；通过使用传感器将光照射到衬底来获得光点与涂 施材料图案之间的距离相对于涂施构件的垂直位置的变化率；基于所获得的光点与涂施材 料图案之间的距离相对于涂施构件的垂直位置的变化率，计算相对于既定在实际过程中使 用的涂施构件的垂直位置的光点与涂施材料图案之间的距离；将所计算的光点与涂施材料 图案之间的距离与预设距离值进行比较；以及基于比较结果，通过控制传感器与涂施构件 之间的距离来控制光点与涂施材料图案之间的距离。从传感器照射的光相对于衬底可具有在50度到70度的范围内的恒定倾角。使用涂施构件在衬底上形成涂施材料图案可包含控制涂施构件的垂直位置，使 其与既定在实际过程中使用的涂施构件的垂直位置相同；以及形成涂施材料图案。获得光点与涂施材料图案之间的距离相对于涂施构件的垂直位置的变化率可包 含升高或降低涂施构件，以使涂施构件相对于衬底定位在两个或两个以上不同位置处； 以及测量相对于涂施构件的相应垂直位置的光点与涂施材料图案之间的距离，以便获得光 点与涂施材料图案之间的距离相对于涂施构件的垂直位置的变化率。使用涂施构件的两个或两个以上不同垂直位置处的光点与涂施材料图案之间的 距离来计算相对于既定在实际过程中使用的涂施构件的垂直位置的光点与涂施材料图案 之间的距离。假定将涂施构件的垂直位置表示为H，将相对于涂施构件的垂直位置的光点与涂 施材料图案之间的距离表示为X，那么可将垂直位置表达为等式H = AX+B。使用所述等式 来计算相对于既定在实际过程中使用的涂施构件的垂直位置的光点与涂施材料图案之间 的距离。测量相对于涂施构件的相应垂直位置的光点与涂施材料图案之间的距离可包含 控制涂施构件的垂直位置；使用传感器将光照射到衬底上；将从传感器照射到衬底上的光 所形成的光点位于其上的第一点设置为虚拟坐标系上的参考坐标；通过在连续照射光的同 时移动分配器且使用所述光来检测涂施材料图案的中心点，且在虚拟坐标系上标记所述中 心点；以及计算设置在虚拟坐标系上的参考坐标与标记在虚拟坐标系上的涂施材料图案的 中心点的坐标之间的差异。检测涂施材料图案的中心点可包含水平移动分配器，且使用分配器的传感器连 续地照射光，以检测涂施材料图案的具有最大厚度的位置；以及将具有最大厚度的位置的 中心设置为中心点。或者，检测涂施材料图案的中心点可包含使用传感器来测量涂施材料图案的线 宽；以及将所测量的涂施材料图案的线宽的中心设置为中心点。
在控制涂施构件的垂直位置期间，控制涂施构件的垂直位置使其高于既定在实际 过程中使用的涂施构件的垂直位置。


可从结合附图进行的以下描述更详细地理解示范性实施例，在附图中图1是说明根据示范性实施例的涂施设备的示意性概念图。图2是说明根据示范性实施例的分配器的截面图。图3是示出根据示范性实施例的控制分配器的涂施构件以及传感器的方法的流 程图。图4是说明根据示范性实施例使用分配器的涂施构件在测试衬底上形成涂施材 料图案的图。图5和图6是循序地说明在假定涂施构件的垂直位置为Hl的情况下测量涂施材 料图案与光点之间的距离的图。图7是示出当涂施构件的垂直位置为Hl时涂施材料图案和光点的坐标的图。图8和图9是循序地说明在假定涂施构件的垂直位置为H2的情况下测量涂施材 料图案与光点之间的距离的图。图10是示出当涂施构件的垂直位置为H2时涂施材料图案和光点的坐标的图。
具体实施例方式在下文中，将参看附图详细描述示范性实施例。然而，本发明可以许多不同形式体 现，且不应被解释为限于本文所陈述的示范性实施例。相反，提供这些示范性实施例是为了 使本揭示内容将为全面且完整的，且将把本发明的概念完全传达给所属领域的技术人员。图1是说明根据示范性实施例的涂施设备的示意性概念图。图2是说明根据示范 性实施例的分配器的截面图。参看图1和图2，根据示范性实施例的涂施设备包含台(stage) 100，衬底10安 放于所述台100上；分配器(dispenser)200，其用于将涂施材料涂施在安放于台上的衬 底上；驱动单元(driving unit) 500，其用于升高和降低分配器200 ；传送单元(transfer unit) 300，其用于水平传送台100和分配器200 ；以及控制单元(controlling unit) 400，其 用于控制传送单元300、台100和分配器200。尽管在示范性实施例中将密封剂用作涂施材 料，但不限于此，且可将各种材料用作涂施材料。台100可在χ和y方向上移动，以沿衬底10的边缘区的周长形成涂施材料图案。 或者，分配器200可在χ和y方向上移动，以将涂施材料涂施在衬底10上，或台100和分配 器200两者均可在χ和y方向上移动以涂施涂施材料，或台100可在一个方向上移动，而分 配器200在另一方向上移动，以涂施涂施材料。传送单元300使用电动机或轨道来移动台 100和分配器200。可使用另一各种构件来移动台100和分配器200。分配器200包含涂施构件210、传感器220和支撑部件(supporting member) 230。 涂施构件210包含注射器(syringe) 212，其中储存涂施材料(例如，密封剂)；主体部分 (body part) 213，注射器212安装并固定在其中；以及喷嘴211，其安置在主体部分213下 方，且将储存在注射器212中的涂施材料涂施到衬底10上。传感器220检测涂施构件210的喷嘴211与衬底10之间的距离。支撑部件230安置在涂施构件210与传感器220之间， 使得传感器220可安装并固定到支撑部件230。涂施构件210的喷嘴211和注射器212可附接到主体部分213且可从主体部分213 拆卸，以实现喷嘴211和注射器212的更换。另外，传感器220可附接到支撑部件230且可 从支撑部件230拆卸，且支撑部件230可附接到分配器210的主体部分213且可从分配器 210的主体部分213拆卸。传感器安装并固定到其上的支撑部件230与分配器210的主体 部分213可使用耦合部件(coupling member)(未图示)(例如螺丝)彼此连接。由此，可 通过控制耦合部件(未图示)来控制安装到支撑部件230的传感器220与喷嘴211之间的 距离。分配器200随着其在χ和y方向上移动而经由喷嘴211将注射器212中的涂施材 料涂施到衬底10上。同时，传感器220测量衬底10与喷嘴211之间的距离，且基于测量结 果，使用驱动单元在向上和向下方向上移动分配器200，以使衬底10与喷嘴211之间的距离 保持恒定。以此方式，可使沿衬底的边缘的周长形成的涂施材料图案维持为均一线性形状。根据示范性实施例的传感器使用(例如)利用激光的距离测量传感器(distance measuring sensor)。尽管未图示，但此类型的传感器包含发光部分(light emitting part)(未图示)，其用于朝衬底10发射距离测量光(distance measuring light)；以及光 接收部分(light receiving part)(未图示)，其用于接收从发光部分(未图示)发射的 光。发光部分(未图示)和光接收部分(未图示)可一体式形成，且彼此间隔开预定距离。如前面所提到，当从传感器220照射到衬底10的亮点(light spot)与涂施材料 图案之间的距离变得超出预设距离值时，可能产生涂施材料图案的缺陷。出于所述原因，根据示范性实施例，在衬底10上实际上形成涂施材料图案之前， 获得从传感器220照射的光点203与涂施材料图案202之间的距离。图3是示出根据示范性实施例的控制分配器的涂施构件以及传感器的方法的流 程图。图4是说明根据示范性实施例使用分配器的涂施构件在测试衬底上形成涂施材料图 案的图。图5和图6是循序地说明在假定涂施构件的垂直位置为Hl的情况下测量涂施材 料图案与光点之间的距离的图。图7是示出当涂施构件的垂直位置为Hl时涂施材料图案 和光点的坐标的图。图8和图9是循序地说明在假定涂施构件的垂直位置为H2的情况下 测量涂施材料图案与光点之间的距离的图。图10是示出当涂施构件的垂直位置为H2时涂 施材料图案和光点的坐标的图。 在下文中，将参看图3到图10来阐释控制涂施构件210与传感器220之间的距离。
根据示范性实施例，控制涂施构件210与传感器220之间的距离包含将测试衬底 201定位在台100上。可使用与实际过程中使用的衬底10相同类型的衬底作为测试衬底 201。如图3和图4中所说明，在测试衬底201上形成涂施材料图案202(S100)。将涂施构 件210的垂直位置设置为Ht，且从涂施构件210释放密封剂以形成涂施材料图案202，用于 测量测试衬底201上的距离。如前面所提到，根据示范性实施例，涂施 构件210的用于释放 涂施材料的喷嘴211安装在主体部分213下方，且涂施材料202使用喷嘴211形成于衬底 201上。因此，可能优选的是涂施构件210的喷嘴211相对于衬底201的垂直位置为Ht。 Ht与如图1中所说明的当在实际过程期间在衬底上形成涂施材料图案202时所使用的喷 嘴211的垂直位置相同，这允许涂施材料图案202在与实际过程相同的条件下形成于测试衬底201上。Ht可在20微米到70微米的范围内。根据示范性实施例，涂施材料图案202 形成为圆形形状，且如图4中所说明测量涂施材料图案202与光点203之间的距离。然而， 本发明不限于此，且涂施材料图案202可以预定杆(或条)形状形成于测试衬底201上。
此后，使用传感器220获得光点203与涂施材料图案202之间的距离相对于喷嘴 211的垂直位置的变化率(S120)。为此，如图5和图8中所说明，将喷嘴211的垂直位置设 置于两个不同位置Hl和H2，且计算相对于喷嘴211的垂直位置Hl和H2的光点203与涂施 材料图案202之间的距离Xl和X2。用等式H = AX+B来获得光点203与涂施材料图案202 之间的距离相对于喷嘴211的垂直位置的变化率。H表示喷嘴211的垂直位置，且X表示光 点203与涂施材料图案202之间的距离。A和B是表征涂施材料图案202与光点203之间 的距离相对于喷嘴211的垂直位置的变化率的系数。为了获得A和B的值，根据示范性实 施例，测量相对于喷嘴211的垂直位置Hl和H2的光点203与涂施材料图案202之间的距 离Xl和X2。将所测量的值应用于等式H = AX+B,以将所述等式表达为Hl = AX1+B和H2 = AX2+B。可通过求解以上联立等式来获得系数A和B。以此方式，可获得光点203与涂施 材料图案202之间的距离相对于喷嘴211的垂直位置的变化率。下文中将给出更详细的阐释。如图5中所说明，使用驱动单元500来升高和降低分配器200，以将喷嘴211定位 于相对于测试衬底201的垂直位置Hl处。换句话说，将测试衬底201与喷嘴211之间的距 离设置为HI。可能优选的是Hl大于上文所述的Ht。当喷嘴211的垂直位置等于或低于Ht 时，可能难以测量光点203与涂施材料图案202之间的距离。也就是说，喷嘴211可能在测 量光点203与涂施材料图案之间的距离的过程期间刮伤测试衬底201，或涂施在测试衬底 201上的涂施材料图案202可能污染喷嘴211的末端。此后，使用传感器220将光(例如，激光)照射到测试衬底201上。从传感器220 照射的光相对于测试衬底201的倾角可在50度到70度的范围内，且优选为60度。根据示 范性实施例，如图7中所说明，将从传感器220照射的光最初入射到的衬底201的点设置为 零点(0，0)。可能优选的是将最初照射到测试衬底201的光点203的中心点设置为零点(0， 0)。此后，搜索涂施材料图案202的中心点。为此，如图6中所说明，使用传送单元300 和控制单元400来水平传送分配器200，同时使用传感器220连续地将光照射到测试衬底 201。可通过测量涂施材料图案202的厚度以找出最高点来搜索涂施材料图案202的中心 点。为此，如前面所提到那样传送分配器200，以找出传感器220显示最低输出的区。将传 感器220显示最低输出的区设置为涂施材料图案202的中心点。尽管图中未示出，但可通过测量涂施材料图案202的线宽来找出涂施材料图案 202的中心点。因为涂施在测试衬底201上的涂施材料图案202经形成为具有实质上恒定 的宽度，所以可通过使用传感器220测量涂施材料图案202的线宽且将所测量的涂施材料 图案202的线宽的中心设置为中心点来找出涂施材料图案202的中心点。接着，如图7中所说明，将使用传感器220找出的涂施材料图案202的中心点(Xx， Yy)标记在虚拟坐标系上。在虚拟坐标系上，还标记最初照射到测试衬底201的光点203的 中心点，即零点(0，0)。因此，可通过检测光点203的中心所位于的零点(0，0)以及涂施材 料图案202的中心点(Xx，Yy)来计算光点203与涂施材料图案202之间的距离值XI。光点203与涂施材料图案202之间的距离值Xl对应于喷嘴211的垂直位置HI。
接着，将喷嘴211的垂直位置改变为与以上描述的Hl不同的位置，且计算相对于 改变的垂直位置的光点203与涂施材料图案202之间的距离值。具体地说，使用传送单元500来升高或降低分配器200，直到喷嘴211的垂直位置 变为H2为止，如图8中所说明。H2可大于以上描述的Ht，且不同于HI。在示范性实施例 中，将H2设置为大于HI。接着，使用传感器220将光照射到测试衬底201。如图10中所说 明，将从传感器220照射的光最初入射到的测试衬底201的点设置为零点(0，0)。可能优选 的是将最初照射到测试衬底201的光点203的中心点设置为零点(0，0)。此后，搜索涂施材料图案202的中心点。为此，如图9中所说明，使用传送单元300 和控制单元400来水平传送分配器200，同时使用传感器220连续地将光照射到测试衬底 201。可通过测量涂施材料图案202的厚度以找出最高点来搜索涂施材料图案202的中心 点。为此，如前面所提到那样传送分配器200，以找出传感器220显示最低输出的区。将传 感器220显示最低输出的区设置为涂施材料图案202的中心点。接着，如图10中所说明，将使用传感器220找出的涂施材料图案202的中心点 (Xx，Yy)标记在虚拟坐标系上。在虚拟坐标系上，还标记最初照射到测试衬底201的光点 203的中心，即零点(0,0)o因此，可通过检测光点203的中心所位于的零点(0,0)以及涂 施材料图案202的中心点(Xx，Yy)来计算光点203与涂施材料图案202之间的距离值X2。 光点203与涂施材料图案202之间的距离值X2对应于喷嘴211的垂直位置H2。根据示范性实施例，将喷嘴211的垂直位置设置于不同位置Hl和H2，以测量相对 于相应位置Hl和H2的光点203与涂施材料图案202之间的距离值Xl和X2。然而，本发明 不限于此，且可将喷嘴211控制为处于两个或两个以上不同垂直位置，以便计算相对于喷 嘴211的垂直位置的光点203与涂施材料图案202之间的距离值。一旦相对于喷嘴211的垂直位置Hl和H2测量了光点203与涂施材料图案202之 间的距离值，便可基于所测量的值获得光点203与涂施材料图案202之间的距离值相对于 喷嘴211的垂直位置的变化率。这可表达为等式H = AX+B，其中H表示喷嘴的垂直位置， 且X为光点203与涂施材料图案202之间的距离。A和B是表征涂施材料图案202与光点 203之间的距离相对于喷嘴211的垂直位置的变化率的系数。为了获得A和B的值，如前面 所提到，测量相对于喷嘴211的垂直位置Hl和H2的光点203与涂施材料图案202之间的 距离Xl和X2。将所测量的值应用于等式H = AX+B,以将所述等式表达为Hl = AX1+B和H2 = AX2+B。可通过求解以上联立等式来获得系数A和B。以此方式，可获得光点203与涂施 材料图案202之间的距离相对于喷嘴211的垂直位置的变化率。举例来说，当Hl为500um，Xl为1. 5mm, H2为700um，且X2为1. 7mm时，所述等式 可表达为500um = 1. 5Amm+B和700um = 1. 7Amm+B。通过求解联立等式，A经计算为1000， 且B经计算为-1000。因此，相对于H的光点203与涂施材料图案202之间的距离X可表达 为等式H = 1000X-1000。A和B的值可根据喷嘴211与传感器220之间的距离而改变。另外，用既定在实际过程中使用的喷嘴211的垂直位置Ht代替等式(H = 1000X-1000)中的H，以计算照射到衬底10上的光点203与涂施材料图案202之间的距离 Xt(S120)。举例来说，当喷嘴211的垂直位置Ht在实际过程中为30um时，根据以上等式， 光点203与涂施材料图案202之间的距离Xt经计算为1. 03mm。
在计算相对于既定在实际过程中使用的喷嘴211的垂直位置的光点203与涂施材 料图案202之间的距离之后，将所计算的值与预设距离值进行比较(S130)。如果两个值相 同，那么完成对光点203与涂施材料图案202之间的距离的调整。如果两个值不同，那么控 制传感器与涂施构件之间的距离，以调整光点203与涂施材料图案202之间的距离(S140)。可通过精细地控制连接传感器220安装到其上的支撑部件230与涂施构件210的 耦合部件(未图示)来调整光点203与涂施材料图案202之间的距离。连接支撑部件230 与涂施构件210的耦合部件(未图示)可包含呈螺纹形状的χ轴和y轴主体，所述主体与支 撑部件230和涂施构件210组合以精细地控制所述距离。也就是说，通过旋转所述主体，传 感器安装到其上的支撑部件230可移动。用于精细地控制所述距离的构件不限于此，且可 使用各种构件。可通过仅移动喷嘴211来控制喷嘴211与传感器220之间的距离。或者， 喷嘴211和传感器220两者均可移动。当调整喷嘴211与传感器220之间的距离时，重复图4到图10中所说明的前述过 程。也就是说，以喷嘴211与传感器220之间经调整的距离来测量涂施材料图案202与光 点203之间的距离。如前面在示范性实施例中提到，使用传感器220来获得光点203与涂施材料图案 202之间的距离，且根据所测量的值来控制传感器220与涂施构件210之间的距离。因此， 可在无额外仪器的情况下测量光点203与涂施材料图案202之间的距离，且可改进测量所 述距离的准确性。针对控制用于涂施密封剂的涂施设备的方法阐释了示范性实施例。但所述方法不 限于此， 且可应用于各种类型的涂施设备。如上文所陈述，根据先前实施例，使用用于测量衬底与涂施构件之间的距离的传 感器来测量光点与涂施材料图案之间的距离。可基于所测量的值来控制传感器与涂施构件 之间的距离。以此方式，可在无额外仪器的情况下测量光点与涂施材料图案之间的距离，且 可改进测量所述距离的准确性。因此，可使衬底与涂施构件之间的距离在涂施材料的涂施 期间保持恒定，且可避免涂施材料图案中的缺陷。另外，在无额外仪器的情况下使用传感器来测量从传感器照射到衬底上的光点与 喷嘴之间的距离，可降低制造分配器的成本。
权利要求
一种控制涂施设备的方法，所述涂施设备包括用于将涂施材料涂施在衬底上的涂施构件以及包含用于测量所述衬底与所述涂施构件之间的距离的传感器的分配器，所述方法包括使用所述涂施构件在所述衬底上形成涂施材料图案；通过使用所述传感器将光照射到所述衬底上来获得光点与所述涂施材料图案之间的距离相对于所述涂施构件的垂直位置的变化率；基于所述所获得的所述光点与所述涂施材料图案之间的所述距离相对于所述涂施构件的所述垂直位置的变化率，计算相对于既定在实际过程中使用的所述涂施构件的垂直位置的所述光点与所述涂施材料图案之间的距离值；将所述所计算的所述光点与所述涂施材料图案之间的距离值与预设距离值进行比较；以及基于比较结果，通过控制所述传感器与所述涂施构件之间的距离来控制所述光点与所述涂施材料图案之间的所述距离。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于从所述传感器照射的所述光相对于所述衬 底具有在50度到70度的范围内的恒定倾角。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于使用所述涂施构件在所述衬底上形成所述 涂施材料图案包括控制所述涂施构件的所述垂直位置，使其与既定在实际过程中使用的 所述涂施构件的所述垂直位置相同；以及在所述衬底上形成所述涂施材料图案。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于获得所述光点与所述涂施材料图案之间的 所述距离相对于所述涂施构件的所述垂直位置的所述变化率包括升高或降低所述涂施构件，以使所述涂施构件相对于所述衬底定位在两个或两个以上 不同位置处；以及测量相对于所述涂施构件的相应垂直位置的所述光点与所述涂施材料图案之间的所 述距离，以便获得所述光点与所述涂施材料图案之间的所述距离相对于所述涂施构件的所 述垂直位置的所述变化率。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于使用所述涂施构件的所述两个或两个以上 不同垂直位置处的所述光点与所述涂施材料图案之间的距离值来计算相对于既定在实际 过程中使用的所述涂施构件的所述垂直位置的所述光点与所述涂施材料图案之间的所述 距离值。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于假定将所述涂施构件的所述垂直位置表示 为H，将相对于所述涂施构件的所述垂直位置的所述光点与所述涂施材料图案之间的所述 距离值表示为X，那么可将所述垂直位置表达为等式H = AX+B,且使用所述等式来计算相对 于既定在实际过程中使用的所述涂施构件的所述垂直位置的所述光点与所述涂施材料图 案之间的所述距离值。
7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于测量相对于所述涂施构件的所述相应垂直 位置的所述光点与所述涂施材料图案之间的所述距离包括控制所述涂施构件的所述垂直位置；使用所述传感器将光照射到所述衬底上； 将从所述传感器照射到所述衬底上的所述光所形成的所述光点最初位于所述衬底上的点设置为虚拟坐标系上的参考坐标；通过在连续照射所述光的同时移动所述分配器且使用所述光来检测所述涂施材料图 案的中心点，且在所述虚拟坐标系上标记所述中心点；以及计算设置在所述虚拟坐标系上的所述参考坐标与标记在所述虚拟坐标系上的所述涂 施材料图案的所述中心点的坐标之间的差异。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于检测所述涂施材料图案的所述中心点包括水平移动所述分配器，且使用所述分配器的所述传感器连续地照射光，以检测所述涂 施材料图案的具有最大厚度的位置；以及将具有所述最大厚度的所述位置的中心设置为所述中心点。
9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于检测所述涂施材料图案的所述中心点包括使用所述传感器来测量所述涂施材料图案的线宽；以及将所述所测量的所述涂施材料图案的线宽的中心设置为所述中心点。
10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于在控制所述涂施构件的所述垂直位置期 间，控制所述涂施构件的所述垂直位置使其高于既定在实际过程中使用的所述涂施构件的 所述垂直位置。
全文摘要
本发明提供一种控制涂施设备的方法，所述方法包含使用涂施构件在衬底上形成涂施材料图案；通过使用传感器将光照射到衬底来获得光点与涂施材料图案之间的距离相对于涂施构件的垂直位置的变化率；基于所获得的光点与涂施材料图案之间的距离相对于涂施构件的垂直位置的变化率，计算相对于既定在实际过程中使用的涂施构件的垂直位置的光点与涂施材料图案之间的距离值；将所计算的光点与涂施材料图案之间的距离值与预设距离值进行比较；以及基于比较结果，通过控制传感器与涂施构件之间的距离来控制光点与涂施材料图案之间的距离。可在无额外仪器的情况下测量光点与涂施材料图案之间的距离，且可改进测量所述距离的准确性。
文档编号G01B11/02GK101987317SQ201010240769
公开日2011年3月23日 申请日期2010年7月28日 优先权日2009年7月29日
发明者吴昇勋, 成元珉, 申庆澈, 金光贤 申请人:Ap系统股份有限公司