专利名称：干涉测量光学材料均匀性的方法
技术领域：
本发明涉及光学 材料均匀性，特别是一种干涉测量光学材料均匀性的方法，主要用于光学材料均匀性的测量，适用于一般数字干涉仪，特别适合于测量尺寸超过干涉仪测试口径的待测元件。
背景技术：
光学均匀性的定义是同一光学材料中各点折射率的不一致性，也称为折射率非均匀性，通常以材料最大折射率和最小折射率的差值来表示。在许多光学应用领域，采用几百毫米量级的大尺寸光学元件，对材料的要求较高，需要测试光学均匀性。在先技术包括定性测量和定量测量，定量测量又分为一般测量和绝对测量，一般测量是指测试结果包含样品抛光波面误差或贴置板波面误差及测试仪器标准镜波面误差等。绝对测量是指测试结果去除样品抛光波面误差或贴置板波面误差及测试仪器标准镜波面误差。本发明是一种绝对测量的定量测量方法。在先技术[I](参见GBT 7962. 2-1987无色光学玻璃测试方法光学均匀性平行光管测试方法)中所描述的测试方法采用一对平行光管装置，其一作为准直管，其二作为望远镜，用分辨率法和星点法确定玻璃的均匀性，是一种定性测量方法，不能给出定量结果。在先技术[2](参见GBT 7962. 2-2010无色光学玻璃测试方法光学均匀性斐索平面干涉法)中所描述的测试方法采用斐索平面干涉仪测量无色光学玻璃的光学均匀性，是一种定量测量方法。样品垂直地放置在干涉仪的测试光路中，通过样品的透射波面的波峰-波谷值除以样品厚度，即为光学均匀性。测试结果中包含样品前后表面波面误差和干涉仪的两个标准镜组成的空腔波面误差，是一般测量方法。在先技术[3](参见GBT 7962. 3-2010无色光学玻璃测试方法光学均匀性全息干涉法)中所描述的测试方法是利用全息差分干涉原理，将反射干涉条纹和透射干涉条纹两组条纹记录在一张全息图上，从全息图的再现波面，求得折射率变化和厚度变化的数值。是一种绝对测量的定量测量方法。但是要求样品放置垂直放置在测试光路中，待测元件的口径不能超过干涉仪口径。在先技术[4](参见Johannes Schwider, R. Burow, K. -E. Elssner,R. Spolaczyk, and J.Grzanna,“Homogeneity testing by phase samplinginterferometry”，APPLIED OPTICS, Vol. 24, No. 18，p3059，1985)中所描述的测量方法是利用干涉仪测量材料的光学均匀性，将样品垂直放置在干涉仪的测试光路中，测量样品前表面波面误差，透过材料的后表面波前误差和透过材料的标准反射镜波面误差，然后取出样品测量干涉仪的两个标准镜组成的空腔波面误差。将四次测量的结果通过公式计算得到光学均匀性。是一种绝对测量的定量测量方法。但是要求样品放置垂直放置在测试光路中，待测元件的口径不能超过干涉仪口径
发明内容
本发明要解决的技术问题在于克服上述已有技术困难，提供一种干涉测量光学材料均匀性的方法，通过五次波面测量，计算得到样品的光学均匀性。特别适合于待测元件超过干涉仪测试口径的大口径元件测量。本发明的技术解决方案如下一种干涉测量光学材料均匀性的方法，其特点在于该方法包括下列步骤①将待测的光学材料加工成样品，该样品的前后表面具有一定的夹角α，样品的前后表面的面形应符合干涉测量要求，一般波面误差不大于3. 3微米，满足如下条件，使前后表面的反射光分开
权利要求
1.一种干涉测量光学材料均匀性的方法，采用干涉仪测量光学材料均匀性，其特征在于该方法包括下列步骤 ①将待测的光学材料加工成样品(3),该样品的前后表面具有一定的夹角α,样品的前后表面的面形应符合干涉测量要求，一般波面误差不大于3. 3微米，满足如下条件，使前后表面的反射光分开
2.根据权利要求I所述的干涉测量光学材料均匀性的方法，其特征在于所述的干涉仪为数字干涉仪。
全文摘要
一种干涉测量光学材料均匀性的方法，将光学材料加工成前后表面具有一定的夹角α的样品，利用干涉仪通过五次波面测量，然后计算得到样品的光学均匀性，为绝对测量结果。特别适合于待测元件超过干涉仪测试口径的大口径元件测量。
文档编号G01M11/02GK102928200SQ20121040606
公开日2013年2月13日 申请日期2012年10月22日 优先权日2012年10月22日
发明者栾竹, 刘世杰, 吴福林, 成倩, 白云波 申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所