专利名称：用于分析分子污染物从样本除气的装置和方法
技术领域：
本发明涉及用于分析分子污染物从样本除气(out-gas )的装置和方法。
背景技术：
诸如航空航天和先进半导体加工之类的要求极高的清洁度的环境中使用的部件和设备的分子污染水平的控制对于成功的制造是关键的。例如，极紫外(EUV)光刻中使用非常短的波长增加了 EUV光刻装置中的光学部件和设备上的污染物的光化学分解和随后的沉积。这导致EUV光刻装置的成品率损失、寿命缩短并且长期设备可靠性降低。因此，对这些部件施加了关于分子污染物的除气率的非常严格的规定。例如，EUV光刻中的硅化合物的最大允许除气率对于(子)组件大约为10_15mbar*l/sec (毫巴·升/秒)。部件除气率的合格证明可以利用残余气体分析(RGA)来完成，残余气体分析是基于四极质谱分析术且用于标识真空环境中存在的气体的技术。使用RGA的除气率的检测极限不足以允许精确地测量要求极高的清洁度的环境(例如EUV光刻)中使用的部件的所需最大除气率。影响该测量的精度的另一个因素是测量装备本身的除气。尤其是对于负载锁 (load-lock)对于其不可行的大的部件而言，必须分析的部件或样本在大气条件下被装载到RGA测量装备中，从而使测量装备的内表面暴露于大气条件。这造成具有例如有机物种的测量装备内表面的污染，导致测量装备内表面的可以为大约IO-9Hibarq/sec的除气率， 从而干扰必须分析的样本的除气。因此，确定样本的除气特性的精度受到测量装备本身的除气的负面影响。

发明内容
本发明的目的是提供一种以改进的精度分析分子污染物从样本除气的装置。本发明由独立权利要求限定。从属权利要求限定了有利的实施例。这个目的是通过提供一种用于分析分子污染物从样本除气的装置来实现的，其中该装置包括
-用于容纳样本的低压腔室，其中该低压腔室内部的压力介于10-3mbar与IOmbar之
间；
-用于在低压腔室中提供层状(laminar)气流的构件，其中气流的第一部分捕获和运输从样本除气的分子污染物；
-样本下游第一位置处的用于接收气流的第一部分的构件；以及 -用于分析气流的第一部分的内含物(content)的分析器。通过在低压腔室内部提供层状的气流，从低压腔室内表面除气的分子污染物与从样本除气的分子污染物的混合被最小化。气流包含适合于捕获和运输除气的分子污染物的目的的载气物种，例如氦或氩。这种混合的进一步降低通过在低压腔室内部提供高于 10-3mbar的压力来实现，在该压力下除气的分子污染物的平均自由程(mean free path) 小得足以将该混合最小化成在大多数实际情况下足够的水平，因为平均自由程与压力成反比。取决于尤其是分子污染物的类型，除气的分子污染物的平均自由程在10-3mbar下典型地大约为50mm。因此，除气的分子污染物的平均自由程不大于近似50mm，从而最小化了从样本除气的分子污染物与其他除气的分子污染物的混合量，所述其他除气的分子污染物例如从低压腔室内表面除气的分子污染物。低压腔室内部的层状气流的第一部分流过样本，并且从样本除气的分子污染物由该气流第一部分捕获和运输到接收该气流第一部分的构件。从样本除气的分子污染物的平均自由程应当足够大以便提供层状气流的第一部分对这些除气的分子污染物的捕获，该第一部分流过样本并且因而包含从样本除气的分子污染物。这是通过在低压腔室内部提供低于IOmbar的压力来实现的，在该压力下除气的分子污染物的平均自由程大得足以最大化层状气流对除气的分子污染物的捕获率。取决于尤其是分子污染物的类型，除气的分子污染物的平均自由程在IOmbar下典型地为大约5 μ m。因此，平均自由程不小于近似5 μ m以便最大化层状气流对除气的分子污染物的捕获效率。因此，对于介于10-3mbar与IOmbar 之间的依照本发明的压力范围，取决于尤其是分子污染物的类型，除气的分子污染物的平均自由程典型地介于近似5 μ m与50mm之间。依照本发明，从样本除气的分子污染物由气流的第一部分捕获和收集。气流的第一部分因而不包含或者仅包含最小化数量的从低压腔室内表面除气的分子污染物。通过这种方式，样本的除气特性的分析不受低压腔室内表面的除气或者不来源于样本的其他不希望的除气的分子污染物的影响，或者仅在最小化数量上受其影响，从而改善了样本除气分析的精度。本发明提供了通过设置低压腔室内部的适当压力捕获从样本除气的分子污染物的相当部分。该压力范围确保从样本除气的分子污染物的平均自由程一方面高得足以实现这些分子污染物的捕获效率提高，并且另一方面小得足以实现从样本除气的分子污染物与从不同于样本的其他设备或部件，例如从低压腔室的壁的内表面除气的分子污染物的混合最小化。在接收包含从样本除气的分子污染物的气流的第一部分之后，分析器用来分析气流第一部分中存在的除气的分子污染物的内含物和特性。在依照本发明的装置的一个实施例中，低压腔室内部的压力介于10-2mbar与 Imbar之间。这进一步改善了分子污染物从样本除气的分析的精度，因为对于该压力范围而言，取决于尤其是分子污染物的类型，除气的分子污染物的平均自由程典型地介于近似 50 μ m与5mm之间。该压力和平均自由程范围进一步提高了从样本除气的分子污染物的捕获效率并且进一步降低了从样本除气的分子污染物与从不同于样本的设备或部件除气的分子污染物的混合。在依照本发明的装置的一个实施例中，该装置进一步包括沿着低压腔室内表面的下游第二位置处的用于接收气流的第二部分的构件，所述第二部分捕获和运输从低压腔室内表面除气的分子污染物。通过这种方式，层状气流被分为主要包含从样本除气的分子污染物的第一部分以及主要运输从低压腔室内表面除气的分子污染物的第二部分。因此，气流的第一部分不包括或者仅仅包含和运输最小化数量的从低压腔室内表面除气的分子污染物，并且气流的第二部分不包括或者仅仅包含最小化数量的从样本除气的分子污染物。 通过按照这种方式分裂层状气流，实现了将从样本除气的分子污染物运输到分析器且由分析器接收，并且从低压腔室内表面或者从测量装备的其他部分除气的分子污染物不被运输到分析器且由分析器接收，或者仅仅在最小化程度上被运输到分析器且由分析器接收，因为从低压腔室内表面除气的分子污染物在下游第二位置处接收，所述第二位置不同于其中接收样本的分子污染物的第一位置。气流的第二部分因而捕获从低压腔室内表面除气的分子污染物，从而减少了到达气流第一部分的这些分子污染物的数量并且降低了从样本除气的分子污染物与从低压腔室内表面除气的分子污染物的混合。在依照本发明的装置的一个实施例中，该装置进一步包括样本下游第三位置处的预集中(pre-concentration)设备，该设备用于将除气的分子污染物与气流的第一部分分离并且用于在一定时间段期间收集除气的分子污染物。极低的除气率，例如要求极高的清洁度的环境(例如半导体制造)中使用的部件或样本的除气率可以受益于预集中设备的使用以提供用于分析的足够材料。预集中设备捕获分子污染物并且将这些分子污染物与气流中包含的载气分离。预集中设备在一定时间段期间收集分子污染物，该时间段取决于尤其是分子污染物的除气率。通过这种方式，进一步改善了除气的分析精度，因为作为预集中设备在其间收集分子污染物的时间段的增量的函数，除气的分子污染物的量的检测极限减小并且因而改善。在另一实施例中，所述装置进一步包括用于加热预集中设备的构件。增加预集中设备的温度提供了将分子污染物从预集中设备释放，其后在分析器中表征释放的分子污染物。通过这种方式，不需要将预集中设备从低压腔室移到另一位置，并且可以在原位进行除气的分子污染物的分析。此外，该实施例允许在除气测量开始之前原位清洁预集中设备。在依照本发明的装置的一个实施例中，该装置进一步包括隔离阀，该隔离阀用于将低压腔室分成用于容纳样本的第一部分，该第一部分包括用于在低压腔室中提供层状气流的构件；以及第二部分，其包括用于接收气流第一部分的构件。通过在将样本装载到低压腔室第一部分中期间关闭隔离阀，低压腔室的第二部分不暴露于大气条件，从而避免了低压腔室第二部分的污染的增加并且降低了低压腔室内部的总污染。在依照本发明的装置的一个实施例中，用于在低压腔室中提供层状气流的构件包括用于向低压腔室供应气流的第一入口以及用于使得气流为层状的一组叶片。这是消除湍流气流并且在低压腔室内部提供层状气流的方便方式。在另一实施例中，第一入口用于供应气流的第一部分并且所述装置进一步包括低压腔室中用于向低压腔室供应气流第二部分的第二入口。通过这种方式，已经在第一和第二入口处将气流分成两个单独的气流，一个沿着低压腔室的壁的内表面或者平行于该内表面流动并且捕获和运输相应的分子污染物， 另一个流过样本的表面并且捕获和运输从样本除气的分子污染物。在这里，也可以使用叶片以消除湍流气流。在依照本发明的装置的一个实施例中，样本下游位置处的用于接收气流第一部分的构件包括漏斗。该漏斗提供了接收包含从样本除气的分子污染物的气流部分的方便方式。此外，该漏斗提供了对于从低压腔室内表面除气的分子污染物的屏蔽，从而降低了从样本除气的分子污染物与从低压腔室内表面除气的分子污染物的混合。在依照本发明的装置的一个实施例中，所述分析器包括适合于检测气流中的特定元素的检测器。对于特定元素或化合物类别敏感的检测器在定位特定污染物的来源中可能是非常有帮助的。此外，这些检测器进一步提高了确定样本的除气特性的精度。这允许标识包含特定目标元素的化合物。在另一实施例中，检测器为原子发射检测器(AED)。所述目的也通过一种用于分析分子污染物从样本除气的方法来实现，其中该方法包括步骤
a)在低压腔室中容纳样本；
b)在低压腔室内部提供Krtibar与IOmbar之间的压力；
c)在低压腔室中提供层状气流，该气流具有捕获和运输从样本除气的分子污染物的第一部分；
d)在样本下游第一位置处接收气流的第一部分；以及
e)分析气流的第一部分的内含物。在依照本发明的方法的一个实施例中，步骤C)包括步骤提供气流的第一部分以及捕获和运输从低压腔室内表面除气的分子污染物的气流的第二部分。通过这种方式，降低了从样本除气的分子污染物与从低压腔室内表面除气的分子污染物的混合量，因为存在捕获和运输从低压腔室内表面除气的分子污染物的单独的气流。


图1示意性地示出了依照本发明的装置的一个实施例的截面；以及图2示意性地示出了依照本发明的装置的另一个实施例的截面。在附图中，相似的附图标记表示相同或相似的部件。
具体实施例方式图1示出了依照本发明一个实施例的装置100的示意性截面。装置100包括腔室1，其内部通过使用常规的泵浦方法和图1中未示出的设备而设置在介于10-3mbar与 IOmbar之间、优选地介于10-2mbar与Imbar之间的低压下。在腔室1中，装载和容纳了样本2。例如，将样本2装载到卡盘或者适合于在装置100内部的固定位置上保持和容纳样本2的任何其他设备上(未示出)。腔室1包括用于向腔室1供应气流11的入口 4，该气流包含适合于捕获和运输除气的分子污染物的载气，例如氦或氩。在该实例中，气流11经由一组叶片5转换成层状气流12，所述叶片消除了气流11中的任何湍流。在这种情况下，层状气流12流经腔室1的整个内部体积并且其方向主要平行于腔室1的壁。如图1中利用卷曲箭头21、22所示，腔室1的壁的内表面对壁分子污染物21除气并且样本2通过除气产生样本分子污染物22。层状气流12的一部分沿着腔室1的壁的内表面流动并且通过这种方式捕获除气的壁污染物21。这些污染物21经由层状壁气流14进一步向下游运输，而层状壁气流14也捕获在更远的下游除气的壁污染物21。气流12的另一部分流过样本2并且通过这种方式捕获除气的样本分子污染物22。层状样本气流13然后向样本2的更远的下游运输这些除气的样本污染物22。在样本2下游的特定位置处，层状样本气流13将到达分析器3，分析器接收和收集由层状样本气流13运输的样本分子污染物22。包含壁分子污染物21的层状壁气流14不到达分析器3。因此，分析器3主要捕获从样本2除气的样本分子污染物22。分析器3能够分析由分析器3捕获的分子污染物22的内含物并且从而提供样本2的除气特性的分析。例如，分析器3可以包括元素特定检测器，例如原子发射检测器 (AED)，以便分析样本分子污染物22中存在的特定元素的量。气流14以及作为没有样本分子污染物22的气流13剩余部分的气流15例如通过泵(未示出)经由出口 6离开。腔室1内部的压力确定除气的分子污染物21、22的平均自由程。除气的分子污染物21、22的平均自由程应当大得足以最大化由层状气流12捕获的样本分子污染物22的量，并且也应当小得足以最小化壁分子污染物21与样本分子污染物22之间的混合的量。 由层状气流12捕获的样本分子污染物22的量应当最大，以便获得样本2的除气率的精确分析。理想地，所有除气的样本分子污染物22都被层状气流12捕获并且被层状样本气流 13运输到分析器3。壁分子污染物21与样本分子污染物22之间的混合的量应当最小，因为任何混合干扰样本2的除气特性的分析。如果平均自由程太大，那么部分壁分子污染物 21也被流过样本2的层状气流12部分捕获。在这种情况下，层状样本气流13不仅运输样本分子污染物22，而且运输壁分子污染物21。此外，由于平均自由程太大，一些样本分子污染物22被靠近腔室1内表面流动的层状气流12部分捕获并且因而不被流过样本2的层状气流12部分捕获。因此，在这种情况下，层状样本气流13并不捕获所有的样本分子污染物 22并且也将包含壁分子污染物21。这导致样本2除气特性的不那么精确的分析。依照本发明，这通过将低压腔室1内部的压力设置为高于10-3mbar的值来防止和改善。对于该压力范围，除气的分子污染物的平均自由程小得足以将所述混合最小化为大多数实际情况下的足够水平，因为平均自由程与压力成反比。取决于尤其是分子污染物的类型，除气的分子污染物的平均自由程在10-3mbar下典型地为大约50mm。因此，对于该压力范围而言，除气的分子污染物的平均自由程不大于近似50mm，从而最小化分子样本污染物22与除气的壁分子污染物21的混合的量。为了进一步改善精度并且降低混合机会，压力高于10-2mbar， 其相应于低于近似5mm的平均自由程。为了最优化捕获除气的分子污染物的机会，除气的分子污染物的平均自由程应当大于近似5Mm，这依照本发明通过将低压腔室1内部的压力设置为低于IOmbar的值来实现。除气的分子污染物的捕获机会的进一步增加通过将低压腔室1内部的压力设置为低于 Imbar的值来实现，其相应于除气的分子污染物的大于近似50μπι的平均自由程。图2示出了依照本发明的另一个实施例的装置200的示意性截面。如图2中利用卷曲箭头21、22所示，腔室1的壁的内表面对壁分子污染物21除气并且样本分子污染物22 从样本2除气。在该实施例中，腔室1由隔离阀8分成两个部分。隔离阀8在将样本2装载到腔室1的装载部分中的情况下是封闭的，从而防止腔室1的第二部分暴露于大气条件，该第二部分通过使用常规的泵浦方法以及图2中未示出的设备设置在介于10-3mbar与IOmbar之间、优选地介于10-2mbar与Imbar之间的低压下。在将样本2装载和容纳到腔室1中之后， 将腔室1的装载部分泵浦到与腔室1的第二部分类似的低压条件，之后打开隔离阀8。这降低了低压腔室1内部的污染水平并且因而降低了壁分子污染物21的量，因为当把样本2装载到腔室1中时腔室1的一部分不暴露于大气条件，从而降低了可能依附到腔室1内表面的分子污染物1进入腔室1的流入量。此外，可以在每次分析之前调节腔室1的第二部分， 例如真空烘焙，以便提供腔室1壁的内表面的除气率的进一步降低。腔室1包括用于向腔室1供应第一气流31的第一入口 9，该第一气流包含适合于捕获和运输除气的分子污染物的载气，例如氦或氩。第一气流31在到达样本2之前经由例如一组叶片5转换成层状第一气流33。叶片5与第一入口 9的结合进一步规定了朝向且越过样本2并且基本上平行于腔室1壁的内表面的层状第一气流33的方向。此外，层状第一气流33在相距腔室1内壁的一定距离上流动，使得壁分子污染物21不被层状第一气流33捕获或者仅在最少的量下被其捕获。第二入口 7向腔室1供应第二气流32，该第二气流与第一气流31包含相似的载气。第二气流32被转换成层状壁气流34，该层状壁气流34流向基本上平行于低压腔室1内表面的方向并且在相距该内表面一定距离上流动，使得层状壁气流34对壁分子污染物21的捕获率最大化。在操作中，即在装载样本2并且设置了腔室1的装载部分内部的适当压力之后，打开隔离阀8，从而将腔室1的装载部分设置成与腔室1的第二部分直接连接。流过样本2的层状第一气流33捕获除气的样本分子污染物22 并且经由样本气流35将捕获的样本分子污染物22运输到样本2的更远的下游。层状壁气流34沿着且靠近腔室1壁的内表面流动并且通过这种方式捕获除气的壁污染物21且将其运输到更远的下游位置。漏斗45在样本2的下游位置提供并且位于腔室1的第二部分内， 该第二部分在样本2装载到腔室1中时不暴露于大气条件。漏斗45具有这样的形状，例如锥形，使得层状样本气流35被接收并且引导到其中对样本气流35进行分析的位置。漏斗 45仅接收包含除气的样本污染物22的样本气流35，并且不接收或者接收和捕获仅仅最少数量的包含除气的壁污染物21的层状壁气流34。因此，漏斗45提供了壁气流34和样本气流33的改善的分离，从而降低了除气的壁分子污染物21与除气的样本分子污染物22的混合并且从而提高了除气的样本污染物22的分析精度。层状壁气流34由第一出口 41接收， 该第一出口例如经由泵(未示出)将层状壁气流34引导出腔室。在该实施例中，样本气流35由漏斗45引导到预集中设备40。该预集中设备40提供了用于层状运输的气体和样本分子污染物22的分离。此外，预集中设备40在一定时间段期间捕获和收集样本分子污染物22。在该时间段之后，收集的样本分子污染物22例如通过在相对较短的时间间隔内加热而从预集中设备40释放并且经由第二出口 43运输(由箭头39所示)到其中对分子污染物22进行分析的部分(未示出)。该分析例如通过诸如AED 之类的元素特定检测器来执行。进一步在预集中设备40的下游位置的第二阀46能够切换到其中样本分子污染物22在其从预集中设备40释放之后经由第二出口 43运输到分析器 (未示出)的第一状态，并且能够切换到其中不包含样本分子污染物22的预集中后的气流38 例如通过泵(未示出)被运输到第三出口 42的第二状态。通过使用其中在特定时间段期间利用预集中设备40收集样本分子污染物22的预集中方法，更大数量的分子污染物22可以用于分析。因此，样本分子污染物22的低除气率通过在特定时间段期间捕获样本分子污染物22，使得足够的样本分子污染物22可用于以改善的且可接受的精度进行分析而被补偿。 收集的样本分子污染物22从预集中设备40的释放可以利用标准的可用方法来执行，所述方法例如加热预集中设备40，其后可以分析释放的样本分子污染物22。通过这种方式，无需从低压腔室1中卸载预集中设备40以便在另一位置执行分析，并且可以在原位进行样本分子污染物22的分析。然而，在一个可替换的实施例中，从腔室1移除预集中设备40以便提供收集的分子污染物22的异位分析。在这种情况下，不需要第二出口 43和开关阀46。此外，应当指出的是，如果很好地表征了低压腔室1壁的内表面的除气，那么分成层状壁气流和层状样本气流并非严格必要。在这种情况下，具有仅仅一个层状气流的装置是本发明的另一个实施例。总的说来，本发明涉及一种用于分析分子污染物从样本除气的装置。该装置包括用于容纳样本的低压腔室，其中低压腔室内部的压力介于10_3mbar与IOmbar之间。此外， 该装置包括用于在低压腔室内提供层状气流的构件，其中气流的第一部分捕获和运输从样本除气的分子污染物；以及在样本下游第一位置的用于收集气流第一部分的构件。分析器分析气流第一部分的内含物。通过这种方式，实现了样本除气特性的更精确的分析。低压方法被选择，以便最小化对于除气过程的影响。尤其是对于负载锁对于其不可行的大的部件或子组件而言，引入这样的气流，该气流流过样本以便夹带(entrain)和收集除气的物种或分子污染物并且该气流沿着真空腔室壁的表面流动以便夹带和转移壁表面的除气。气流的布局和条件应当允许最大地夹带来自样本的除气物种以及从壁除气的物种或分子污染物与从样本除气的物种或分子污染物之间的最小混合。最后，应当指出的是，在本申请中，措词“包括/包含”并没有排除其他的元件或步骤，“一”或“一个”并没有排除复数，并且单个处理器或其他单元可以实现若干构件的功能。 本发明存在于每一个新颖的特性特征以及特性特征的每一种组合之中。而且，权利要求中的附图标记不应当被视为限制了其范围。
权利要求
1.一种用于分析分子污染物(22)从样本(2)除气的装置(100，200)，该装置(100， 200)包括-用于容纳样本(2)的低压腔室(1)，其中该低压腔室(1)内部的压力介于IO-3Hibar与 IOmbar 之间；-用于在低压腔室(1)中提供层状气流(12，33，34)的构件(4，5，7，9)，其中气流的第一部分(13，35 )捕获和运输从样本(2 )除气的分子污染物(22 )；-样本(2)下游第一位置处的用于接收气流的第一部分(13，35)的构件(3，40);以及-用于分析气流的第一部分(13，35)的内含物的分析器(3)。
2.依照权利要求1的装置(100，200)，其中低压腔室(1)内部的压力介于10_2mbar与 Imbar之间。
3.依照权利要求1的装置(100，200)，其中该装置(100，200)进一步包括沿着低压腔室(1)内表面的下游第二位置处的用于接收气流的第二部分(14，34)的构件(41)，所述第二部分(14，34)捕获和运输从低压腔室(1)内表面除气的分子污染物(21)。
4.依照权利要求1的装置(200)，进一步包括样本(2)下游第三位置处的预集中设备 (40)，该设备用于将除气的分子污染物(22)与气流的第一部分(13，35)分离并且用于在一定时间段期间收集除气的分子污染物(22 )。
5.依照权利要求4的装置(200)，进一步包括用于加热预集中设备(40)的构件。
6.依照权利要求1的装置(200)，进一步包括隔离阀(8)，该隔离阀用于将低压腔室 (1)分成用于容纳样本(1)的第一部分，该第一部分包括用于向低压腔室(1)提供层状气流(12，33，34)的构件(4，5，7，9);以及第二部分，其包括用于接收气流第一部分(13，35)的构件(3，40)。
7.依照权利要求1的装置(100，200)，其中用于在低压腔室中提供层状气流(12，33， 34)的构件(4，5，7，9)包括用于向低压腔室(1)供应气流(11，31，32)的第一入口(4，9)以及用于使得气流(11，31，32)为层状的一组叶片(5)。
8.依照权利要求7的装置(200)，其中第一入口(4，9)用于供应气流的第一部分(33) 并且其中所述装置(200)进一步包括低压腔室(1)中用于向低压腔室(1)供应气流第二部分(34)的第二入口(7)。
9.依照权利要求1的装置(200)，其中样本(2)下游位置处的用于接收气流第一部分 (13，35)的构件(3，40)包括漏斗(45)。
10.依照权利要求1的装置(100，200)，其中分析器(3)包括适合于检测气流中的特定元素的检测器。
11.依照权利要求10的装置(100，200)，其中所述检测器为原子发射检测器。
12.一种用于分析分子污染物(22)从样本(2)除气的方法，该方法包括步骤a)在低压腔室(1)中容纳样本(2);b)在低压腔室(1)内部提供IO-3Hibar与IOmbar之间的压力；c)在低压腔室(1)中提供层状气流(12，33，34)，该气流具有捕获和运输从样本(2)除气的分子污染物(22)的第一部分(13，35)；d)在样本(2)下游第一位置处接收气流的第一部分(13，35)；以及e)分析气流的第一部分(13，35)的内含物。
13.依照权利要求12的方法，其中步骤c)包括步骤提供气流的第一部分(33)以及捕获和运输从低压腔室(1)内表面除气的分子污染物(21)的气流的第二部分(34)。
全文摘要
本发明涉及一种用于分析分子污染物(22)从样本(2)除气的装置(100，200)和方法。该装置(100，200)包括用于容纳样本(2)的低压腔室(1)，其中该低压腔室(1)内部的压力介于10-3mbar与10mbar之间。此外，该装置(100，200)包括用于在低压腔室(1)中提供层状气流(12，33，34)的构件(4，5，7，9)，其中气流的第一部分(13，35)捕获和运输从样本(2)除气的分子污染物(22)；以及样本(2)下游第一位置处的用于接收气流的第一部分(13，35)的构件(3，40)。分析器(3)分析气流的第一部分(13，35)的内含物。
文档编号G01N1/22GK102246020SQ200980149157
公开日2011年11月16日 申请日期2009年12月1日 优先权日2008年12月8日
发明者K 德博克斯 P., V. E. 克鲁泽曼 P., J. T. 索尔斯 R., H. J. 比肖普斯 T. 申请人:皇家飞利浦电子股份有限公司