专利名称：在布拉格光栅制造期间监视和校正布拉格光栅的制作方法
技术领域：
本发明涉及在布拉格光栅制造期间用于校正相位误差的处理过程。
背景技术：
光波导(光纤和平面波导)中的布拉格光栅被使用于各种各样的光学处理功能。最通常的应用是在密集波分复用(DWDM)系统中的简单的波长滤波。
在这样的应用中，理想的布拉格光栅滤波器具有形状为矩形并具有陡峭边沿和平坦顶部的频谱响应。通常，在制造过程中的任何相位或幅度误差导致非理想的频谱响应。
而且，随着DWDM信道间隔变得更小，滤波器带宽必须减小相同的量。减小的带宽需要布拉格光栅长度增加。这些要求导致滤波器频谱质量对于制造过程中的任何误差的敏感性大大增加。这样的误差的一个共同的来源是在制造过程中使用的相位掩膜的缺陷。
更普遍的情况是，任何滤波器响应将受到制造过程中误差存在的负面影响。通常，光栅越长，它就对于误差越敏感。
希望有一种能够消除或减小这些误差的处理过程，随着对更复杂光学处理功能的需要，它会变得更有价值。


图1是本发明的一个实施例的示意图；图2是显示以C表示的、本发明的一个实施例的结果和以D表示的、典型的现有技术实施例的结果的图；图3是本发明的另一个实施例的示意图；图4是用来测量向输出场的幅度和相位贡献的设备的示意性框图；图5是本发明的一个实施例的流程图。
具体实施例方式
按照如图1所示的一个实施例，相位校正处理包括移位在紫外线写光束U沿着波导14扫描时照射波导14的干涉图案。紫外线写光束U照射(expose)相位掩膜12。在一个实施例中，紫外线写光束U可以如箭头A所示地沿着掩膜12的长度扫描。在图1所示的写光束U的位置处，在波导14中形成一个光栅16。作为两个例子，波导14可以是光纤，或可以是平面波导。
相位校正处理可以通过对在写光束U沿着波导14扫描时被使用来生成干涉图案的一个或多个相位光栅(例如，掩膜)12相对于波导14的相对位置进行小的调节，如箭头B所示，而达到干涉图案的正确的移位。移位的幅度和方向直接与要被校正的误差函数有关。
在波导布拉格光栅生产中使用的相位掩膜12中典型的相位误差在光栅16长度上是几个弧度的量级。这转变成在光栅16的长度上移位干涉图案几个微米，以便补偿这些误差。
相位误差可被减小的分辨率由用于移位干涉图案的平台(stage)的位置分辨率和光束U的尺寸这两者所限制。平台分辨率越好，且写光束U越小，就可以越精确地控制校正处理的阶段。典型地，纳米分辨率和控制被使用来确定波导14相对于相位掩膜12的位置。
参照图2，以D表示按照现有技术的光栅的反射率与波长的关系，以C表示按照本发明的一个实施例的光栅116的反射率与波长的关系。按照本发明的某些实施例，通过校正相位掩膜误差，可以产生具有如图2中的C所示的更窄频谱的更高质量的光栅。除了校正与相位掩膜和在使用标准相位掩膜方法制造布拉格光栅中使用的平移平台有关的误差以外，在更先进的其它方法中也可以利用按照本发明的实施例的相位校正。例如，在用于布拉格光栅制造的三光栅干涉仪技术中，布拉格干涉波长可以通过几个方法中的任一个方法被调谐，而不用改变任何相位掩膜。一个这样的方法包括如图3所示地在干涉仪100的每个臂上放置棱镜或光楔118、119。棱镜或光楔118、119的旋转导致干涉图案的周期的改变，因此导致布拉格光栅116波长的相应的改变。
设备100包括激光器101(或其他光源)，该激光器产生入射到具有周期口的第一衍射光栅104的激光束102。衍射级106、107(分别是-1和+1衍射级)被产生和指向具有约口/2的光栅周期的光栅108，109。在某些实施例中，光栅108、109可以具有在约口/2的80％-120％的范围内的光栅周期。光束102的未衍射部分111被反射板110阻挡。
由光栅108产生的衍射级114(-1级)和由光栅109产生的衍射级115(+1级)指向圆形的、可旋转的光楔或棱镜118和119。在一个实施例中，光楔118和119被安排成使得它们的二等分线垂直于从光栅108、109到波导112的光线传播方向。通过沿着平行于光线传播方向的轴线向箭头121和122表示的相反方向旋转光楔或棱镜118和119，就可以修正被写入到波导112的布拉格光栅的两个级114、115的相交角(在干涉图案116处)，并由此修正空间频率。
这个处理过程在光束相交的位置上引入小量平移，它可以通过如箭头E所示的波导112的平移而被补偿。为此，光学系统10或波导112可被安装在平移平台117上。在这个技术的某些实施方案中，在光栅116被写入时积累相移，这会使得光栅谱失真。通常，相移与沿着光栅116的位置成线性关系，以及当干涉仪100被调谐成远离它的自然波长(由相位掩膜确定)时，相移对位置的斜率增加。这种类型的相位误差可以通过使用上述的用于相位掩膜误差校正的处理来补偿。因为三光栅干涉仪的灵活性，在上述的处理之外，或替换上述的处理，有可能采用其他方法达到相位校正。例如，因为光楔修正通过它们的光线的相位，有可能通过适当地旋转两个光楔而移位照射的干涉条纹图案的相位，从而移位布拉格光栅的相位。在这种情形下，光楔应当以相同的方向旋转，正好与如上所述的、对于调谐布拉格光栅的频率所需要的相反方向相反。旋转的方向和角度依赖于正在被校正的、特定的相位误差轮廓。在三光栅干涉仪中用于实施相位校正的另一个方法涉及把光学相位调制器放置在干涉仪的一个或两个臂中。这些装置用来以预先规定的方式修正通过它们的光线的光学相位。所以，通过把适当的控制信号加到相位调制器，可以以这样的方式移位布拉格光栅相位，以校正已知的相位误差轮廓。与光学的和/或机械的元件或在布拉格光栅的制造中使用的程序有关的相位误差的其他来源，一旦被量化，就可以通过使用本发明的实施例来消除或减小。
即使相位误差源是事先未知的，仍旧有可能使用这里描述的这种类型的方法来校正或补偿这些误差。在这种情形下，当特定的相位误差函数在光栅制造之前是未知时，可以使用其他方法来确定或估计这个量。一个这样的方法涉及在制造期间或在光栅被写入以后在布拉格光栅上进行各种测量。对布拉格光栅的适当的光学属性的确定可产生有关光栅的相位轮廓的信息，因此，可允许重建在光栅照射期间存在的相位误差函数。
可以使用各种各样的方法来确定布拉格光栅的相位函数，从而确定相位误差。通常，光学相位不是可直接检测的量。所以，用于确定光学相位的方法依赖于间接方法，它们通常可以标为相干的(或相位敏感的)和非相干的。相干方法典型地是更精确的和更直接的，因为它们对于被测量的信号的相位很敏感(虽然它们不直接测量相位)。然而，它们通常很难实施，主要是因为它们涉及干涉仪测量，而干涉仪测量是对于环境影响非常敏感的。可被使用来确定布拉格光栅的相位函数的相干相位测量的两个这样的例子是谱干涉测量法和傅立叶变换光谱测定法。这两个方法被应用到各种各样的光学测量，并且在技术上是已知的。
非相干方法通常不太精确和不太直接，但它们更容易实施，因为它们涉及可容易测量的量，诸如装置的频谱强度和时间响应。然而，因为这些量没有一个唯一地依赖于光学相位，所以从它们确定相位是更难的。因此，为了从非相干方法得到相位，可以使用相位提取处理。相位提取处理的细节取决于可提供的、关于装置的数据类型。通常，可提供的数据越多，相位提取处理越简单，而且结果越精确。理想地，装置的频谱和时间响应是可提供的。在这种情形下，有可能使用相位取回算法，以便提取装置的相位。用于布拉格光栅的相位取回的特定的算法是技术上已知的类似算法的修正版本。在仅仅知道频谱或时间响应的情形下，可以使用有关光栅的其他信息，以便得出相位。很适合于布拉格光栅的方法是其中通过使用例如可调谐的激光源和用来测量来自光栅的反射功率对波长的光电检测器来只测量频谱响应的一个方法。频谱响应本身可能不足以确定光栅的相位函数；然而，因为光栅的制造涉及沿着相位掩膜或掩膜的长度扫描照射光束，所以可以测量对于不同长度的光栅的频谱响应。可以连同相位提取处理一起使用对于不同长度的频谱响应的组，以得到光栅的相位函数的估计。这个方法并不精确，然而，它易于实施，并只需要进行最小量的额外测量来得到光栅的大致的相位函数。
取决于被使用来确定相位函数的方法，可以以几种方式的任何一种方式规定，例如，相位对波长、相位对时间、或相位对沿着光栅的位置。因为相位校正处理从本质上是工作在空间域，所以为了确定相位误差函数，可以使用相位对位置。然而，如果相位提取处理产生不同的相位函数，仍旧有可能通过使用技术上已知的技术把它转换成想要的相位对位置函数。
一旦光栅的相位对位置通过这里描述的任何方法或任何其他方法被确定，则通过简单地比较测量的相位函数与对于光栅设计的特定的空间相位函数，可得到相位误差函数。在许多情形下，想要的相位函数是在光栅上的线性函数(所谓的“变换有限的”光栅)，在这种情形下，从相位提取处理过程确定的相位变化等于相位误差函数。应当指出，相位函数的线性分量通常与相位校正无关，因此可被去除。然而，通常，设计的相位函数可以是任意的。例如，对于色散补偿光栅，设计的相位函数可以是二次方程式对位置。无论哪种设计的相位函数的形式，通过从设计的相位函数中减去提取的相位函数可以得出相位误差函数。结果是在校正处理过程中使用的相位误差函数。
校正处理通过使用相位误差函数如前所述地进行，该相位误差函数或者是直接测量的(或使用其他方法事先已知的)，或者是如上所述从对于光栅本身的测量值中提取的。具体地，在光栅被写入时，把相位校正施加到光栅，它是与相位误差相等的和相反的。相位校正的效果是去除或补偿在制造过程中存在的相位误差。所以，对于变换有限的光栅，只应用相位校正函数。对于具有更复杂的设计的相位轮廓的光栅，设计的相位函数必须在被应用到光栅之前加到相位校正函数上。
参照图4，设备200用来表征或测量对于入射到光学元件202(诸如，衍射光栅或相位掩膜)的光场的空间依赖的幅度和相位贡献。设备200可被使用来量化相位误差，以使得误差可如已描述的那样被校正。设备200可包括限定缝隙204、205的孔径板203。在一个实施例中，很好地对准的光源206，诸如来自波长为入＝633nm的1mW频率稳定的He-Ne(氦-氖)激光器(未示出)的激光束被扩展、对准，并使得入射指向垂直于元件202。透镜208被放置成接收来自缝隙204、205的光的辐射，并使得辐射指向被放置在透镜208的聚焦面211处的检测器阵列210。在一个例子中，缝隙204、205被放置在元件202后面约5mm处，透镜208是具有1m焦距的平凸透镜。透镜208被放置成使得一级衍射的光束指向检测器阵列210。在特定的实施例中，检测器阵列210是HAMAMATSU S3903-256Q二极管阵列，它包括256个具有25μm×500μm的象素尺寸的检测器元件。二极管阵列通过使用HAMAMATSU 4070驱动器放大器板被控制。
相应于在检测器阵列210处的辐射分布的电信号被传送到被配置成存储和分析辐射分布数据的数据处理器214。也可以使用显示单元215。在特定的实施例中，数据处理器214包括National InstrumentsAT-MIO-16XE10数据获取板和计算机。在一个实施例中，通过使用LABVIEW程序用NATIONAL INSTRUMENTS LABVIEW软件执行数据获取、分析和数据操作，该LABVIEW程序可用来确定正弦强度图案的相位、周期和幅度和通过光栅平移得到的图案的相对相移。程序和/或数据可被存储在硬盘，或在软盘或CD-ROM或其他计算机可读的媒体上提供。
强度I0的激光光束206(近似平面波光场)指向元件202。元件202位于平移平台221，并在一个实施例中沿着轴220相对于缝隙204、205平移。在一个实施例中，元件202可包括6个接连的分段222i，i＝1，...6，扫描各个间隔xib-xia。元件202的结构可以是沿着x轴226具有周期性的。
缝隙204、205可以位于元件202的前表面230或后表面232附近。当分段的光栅202相对于缝隙204、205平移时，由缝隙204、205和元件202产生的光场作为远场强度图案在检测器阵列210处被记录。由检测器阵列210接收的辐射图案的分析在下面是参照缝隙204、205讨论的，但将会看到，可以使用其他形状的孔径和结构，而且这样的安排的分析类似于以下的两个缝隙的分析。
如图4所示，在一个实施例中，强度I0的入射光束206以角度θdiff入射到元件202，以使得传播通过元件202和缝隙204、205的光束206的一部分近似垂直于元件202。例如，角度θdiff可相应于在衍射的例子中第n衍射级的衍射角。透镜208和检测器阵列210用来接收相对于轴229以角度θ衍射的部分入射光束。如图2A所示，在衍射实施例中，光束206以与元件202的衍射级有关的角度指向元件202，以使得光束202的明显部分垂直地离开元件202。在一个实施例中，入射光束206可被配置成在不存在孔径板203的情形下，元件202的衍射级以θ＝0的角度θ传播。在另一个实施例中，设备被安排成使得入射和衍射光束形成与元件垂直的相等的角度。这个安排使得平移平台中的线性度的小误差对相位测量的精度的影响最小化。
使用测量和校正布拉格光栅中的误差的能力，允许控制写入条件，以改进布拉格光栅的制造。在某些实施例中，光栅可以在它们被写入时被实时地校正。例如，在某些实施例中，光栅可以通过扫描穿过光栅的多个通道的写光束而写入。在每个通道后，可以进行测量，以使得允许修正以后的通道，校正先前的通道中的误差。这些误差可能起于被使用来写入光栅的系统，在特定的情形下，误差可能起于在写入光栅时使用的掩膜。
因此，这里描述的技术可被利用来在开始光栅写入之前进行校正。然而，这些技术的某些技术和其他技术也可以实时地应用来在光栅被写入时校正光栅。通过使用这个方法，有可能校正制造中的误差，在所述制造期间的误差来源和/或它们的大小可能是未知的，或可能在照射期间变化。
这里描述的技术可应用到校正使用单个相位掩膜写入的光栅。它们也可应用到使用至少两个光栅来写入布拉格光栅的技术。例如，第一光栅可产生两个衍射的写光束，它们以后被衍射，以便在布拉格光栅处互相重叠。衍射光束的重新引导可以通过单个光栅使用该光栅的两个分开的部分或使用两个分开的光栅来完成。
参照图5，在方块312，开始布拉格光栅的写入。这个布拉格光栅写入可包括光栅的单个扫描。在光栅被扫描一次后，在方块314，可收集光学属性。因此，光学属性可以在第一次扫描完成后被收集，或这些属性的某些属性可以在扫描光栅期间被测量。通常，光学属性由传送到刚形成的光栅的光束确定。该光栅对于光束的影响可被测量，以便确定该布拉格光栅的性质，以及具体地，确定在布拉格光栅中是否产生任何误差。
通常，该误差将总计为相位误差或幅度误差。可以利用多种不同的技术来至少近似得出这些误差的性质和幅度。一旦至少近似地知道这些误差的性质和幅度，就可以引入相同幅度和相反方向的相应的改变来补偿这些误差。在某些实施例中，误差也可具有改变速率，以及以相反方向的相同的速率的改变可被利用来校正这些误差。
一旦测量光学属性，在方块316，它们就可以与预期的结果进行比较。如果它们与预期的结果一致，在菱形块318的检验确定对于布拉格光栅的写入是否完成。换句话说，检验确定打算的次数的扫描是否完成，或光栅属性是否达到它们的最后的值。如果没有的话，在方块322继续写入。否则，在方块320，进行最后的测量。
反之，如果结果表示已经产生误差(例如，啁啾)，则在方块324，确定在写参量中需要的改变。因此，写参量可以在方块326被修正，且以后的扫描可引用包含这些校正，以便去除或减小误差的性质。写处理在方块328继续进行，重复直到另一次扫描。
进行校正的方式取决于误差的性质。对于相位校正，在写入光束在波导上进行扫描时，可以利用相位掩膜相对于被写入的基片或波导的运动，来引入具有相同的速率的、与相位误差相同的幅度和相反的方向的相位校正。在幅度误差的情形下，在相位掩膜与波导之间的快速振荡运动(即，抖动)可被使用来通过有效地洗去或部分地擦除由波导记录的干涉条图案而控制布拉格光栅的幅度。对于使用抖动的幅度控制，抖动的速度必须比写光束的扫描更快，以便洗去干涉条纹。增加抖动的幅度将减小布拉格光栅的幅度。通常，希望使用最小的抖动(接近于零)，来达到最大布拉格光栅幅度。在这种情形下，在其中抖动幅度已经是小的情形下要求发生增加幅度的幅度校正几乎是不可能的。如果幅度误差被表示为为了校正需要增加的光栅幅度，则必须把抖动偏向(dither bias)应用于整个光束写入处理过程。这样，抖动幅度可能增加或减小，以便补偿测量的幅度误差。然而，通常，除非绝对必要，应当避免抖动偏向，因为这个方法会限制最终得到的布拉格光栅的质量，特别是在想要高的反射率的情形下。
相位误差通常把由相位掩膜产生的干涉图案向一个方向或向相反方向移位。校正实施与错误的相移相同的幅度的相反的移位。所以，用来产生干涉图案的适当的移位的任何方法可被使用于相位校正。
可以实时地进行多种不同的测量来评估需要实施的校正的性质、幅度和方向。通常，光线可以传送到被写入波导中的光栅，被反射出的部分可被检验，以确定反射谱。具体地，可以测量反射光线的谱强度。虽然相位误差不能专门被确定，但这个反射的谱强度提供了在推导误差的性质时有用的信息。
通过在写处理过程期间把光线射入到光栅，也可以测量群时延或色散。群时延或色散是从被写入的光栅返回的每个谱分量或波长相对于其它分量的相对时延。与谱相位有关的群时延可以通过技术上已知的几种方法的任一种方法被测量。替换地，谱相位(相位对光频率)可以通过使用干涉仪方法(诸如谱干涉仪)更直接地测量，在谱干涉仪中，被光栅反射的光与同一个波长的稳定的基准信号相干涉。最终得到的干涉条纹的相位对波长是与光栅的谱相位有关的。在许多情形下，希望具有恒定的群时延或零群时延色散。换句话说，希望所有的颜色或所有的波长同时从光栅返回。然而，对于某些应用，光栅设计包括特定的、非零色散函数。色散补偿和光相位编码应用是两个这样的例子。
可以进行的另一个测量是时间脉冲响应。时间脉冲响应也关系到相位，但它是由群时延代表的谱域或频域信息的互补物。时间脉冲响应也给出与幅度有关的信息。短脉冲可被发送到正在被写入的光栅，可测量所得结果对时间的关系。这个信息，与测量的谱相结合，通过使用迭代算法可以给出相位的良好的近似。
在某些实施例中，可以把相对运动施加到与被写入的光栅有关的相位掩膜或光栅上。例如，在扫描期间可以利用线性相位斜率。线性相位斜率涉及到写入的光栅或相位掩膜相对于布拉格光栅的位置随着写入光束在布拉格光栅上的位置的线性变化。在不存在误差的情形下，这个过程导致布拉格光栅周期随光栅位置线性地改变。这导致布拉格光栅上的线性啁啾。然而，如果在写入过程中存在同样把啁啾加到布拉格光栅上的相位误差源，这个过程可被使用来补偿这些误差。也就是，通过使用在正在被写入的光栅与被利用来进行写的光栅之间的适当的方向、速率和大小的运动，啁啾可被减小或消除。在其他的实施例中，相位斜率可以与啁啾的实际性质(它可以是线性的或非线性的)相匹配。
可以测量光相位对波长或时间的关系。可以利用某些技术来直接测量相位，而且这个信息可被利用来在扫描期间或在扫描之间作出适当的校正。
为了实施校而可以测量的另一个参量是偏振依赖波长。因为通常不容易控制最终被利用于布拉格光栅的光的偏振，所以造成偏振依赖性。偏振依赖性是其中布拉格光栅依赖于输入光的偏振而产生不同的输出的情形。更希望的是，光栅在被写入后，不管偏振情形而给出相同的结果。这是因为在现实世界中可被加到布拉格光栅的输入光具有各种各样的偏振，且由于花费过高而无法控制这种光的偏振。偏振依赖性是对于平面波导尤为突出的问题。
以上的测量可以完成，但它们可以对于各种不同的偏振重复进行，以便了解每个参量的偏振依赖性。这个信息可被利用于相位和/或幅度校正。
在某些实施例中，写光束的偏振可被改变，以减小最终的布拉格光栅的偏振依赖性。另外，用紫外线照射光栅会引起双折射。应力产生双折射，这导致偏振依赖性。通过控制双折射的幅度和正负号，有可能引入所需量的双折射，所需量的双折射补偿在波导中固有的双折射，或在写入波导布拉格光栅时不利地引入的双折射。作为结果，可以减小偏振依赖性。
相位校正通常可以通过改变相应于干涉条纹在波导上的相应位置的干涉条纹在相位掩膜上的位置而被实施。如果相当快速地改变相位掩膜相对于波导的位置，在所谓的抖动的处理过程中，干涉条纹可被洗去。抖动是干涉图案相对于波导的前后振荡运动(例如，正弦运动)，也就是快到足以减小干涉图案的幅度。幅度被减小，这是因为多个重叠的干涉图案被写入，导致有效地洗去干涉条纹。因此，通过抖动，可以在以后的扫描中生成减小的幅度，这减小或校正在先前的扫描中的幅度偏差。在某些实施例中，抖动是有利的，因为它造成布拉格光栅上平均折射率(n0)的持续改变。这在制造切趾光栅(apodizedgrating)时是特别重要的。平均折射率的变化会在频谱失真方面造成问题。
然而，在某些情形下，幅度和/或相位可以通过修正写光束的强度而校正。这可包括调节写光束的功率和/或持续时间。例如，如果在写光栅或相位掩膜上的衍射效率有变化，则这会由于在写入期间引起照射的变化而导致幅度和/或相位误差。通过控制激光器功率，可以补偿这个效应。
虽然本发明是对于有限数目的实施例描述的，但本领域技术人员将会看到从中作出的多种修正和改变。打算通过附属权利要求来覆盖属于本发明的真实的精神和范围内所有的这样的修正和改变。
权利要求
1.一种方法包括用布拉格光栅写光束来照射波导；测量要被写入所述波导中的布拉格光栅的特性；确定用来校正误差的写光束的参量；以及修正用来校正误差的写光束的参量。
2.根据权利要求1所述的方法，包括在光栅上的多个通道中扫描写光束，以及在以后的通道中校正在先前的通道中的误差。
3.根据权利要求1所述的方法，包括确定与布拉格光栅的相位有关的信息。
4.根据权利要求1所述的方法，包括确定与布拉格光栅的幅度有关的信息。
5.根据权利要求1所述的方法，包括用光线照射布拉格光栅，以及测量光在与布拉格光栅交互作用后的特性。
6.根据权利要求5所述的方法，包括提取有关布拉格光栅的相位的信息，以及在布拉格光栅写入期间使用所述信息来校正布拉格光栅。
7.根据权利要求1所述的方法，包括测量布拉格光栅的反射谱强度以及使用反射谱强度来确定校正。
8.根据权利要求1所述的方法，包括测量群时延，以及在布拉格光栅写入期间使用有关群时延的信息来实施对于光栅的校正。
9.根据权利要求1所述的方法，包括测量时间脉冲响应，以及在布拉格光栅写入期间使用有关时间脉冲响应的信息来进行布拉格光栅的校正。
10.根据权利要求1所述的方法，包括通过造成在被使用来写布拉格光栅的相位掩膜与波导之间的相对运动而校正布拉格光栅。
11.根据权利要求10所述的方法，包括提供相对运动，该相对运动产生与正被写入的布拉格光栅中的相位误差相同幅度但相反方向的相位校正。
12.根据权利要求11所述的方法，包括提供具有与布拉格光栅中的误差相同的改变速率的校正。
13.根据权利要求1所述的方法，包括测量依赖偏振的波长。
14.根据权利要求13所述的方法，包括改变写光束的偏振，以减小布拉格光栅的偏振依赖性。
15.根据权利要求14所述的方法，包括引入双折射来补偿在写波导期间不利地引起的双折射。
16.根据权利要求14所述的方法，包括引入双折射来补偿在波导中的双折射。
17.根据权利要求1所述的方法，包括使用抖动来校正正被写入的波导中的幅度误差。
18.根据权利要求1所述的方法，包括修正写光束的强度，以校正正被写入的波导中的误差。
全文摘要
按照本发明的某些实施例，在基片(14)上写入布拉格(Bragg)光栅(16)的同时，可以进行测量，以便允许在写处理过程中作出改变，从而减小在写入的光栅(16)中可能出现的误差。在一个实施例中，可以使用写光束(U)的多次扫描。在扫描后，可以测量正在写入的光栅(16)的特性，并可以对于以后的扫描实施校正。
文档编号G01M11/00GK1470892SQ0314506
公开日2004年1月28日 申请日期2003年7月2日 优先权日2002年7月2日
发明者J·N·斯维特塞尔, A·格伦内特－耶普森, J N 斯维特塞尔, 啄谔 耶普森 申请人:英特尔公司