专利名称：放射线检查设备的制作方法
技术领域：
本发明通常涉及使用诸如X光、β放射线和Y放射线之类的离子放射线的放射 线检查设备。更具体地说，本发明涉及包括基准检测组件的放射线检查设备，该放射线检查 设备根据基准检测组件所检测的离子放射线的强度来校正由放射源所辐射的离子放射线 的强度分布和强度变化。
背景技术：
近年来，例如在食品、工业、医疗技术、安全等各种研究或检查领域中，已经实现了 检测X光或软X光的放射线检查。在检查领域中，通过观看相对锐利的灰度图像，确定在检 查目标中是否存在某一物体或缺陷。在特定的工业、医疗技术等领域中，医生或实验室技术 人员可以根据灰度相对较轻的灰度图像来进行确定。医生或实验室技术人员考虑到各种元 素，诸如显示监视器的不均勻亮度、图像拾取系统的不均勻亮度以及检查目标所特有的趋 势或可视特性，利用显示监视器观看灰度图像，并且全面而且有选择地进行确定。另一方面，如果通过自动检查而不是通过人的视觉检查来进行确定，则各种校正 是必要的，诸如对图像拾取系统的不均勻亮度的校正、对检测灵敏度的校正、对检查目标所 特有的趋势的校正、灰度图像的灰度值的加重以及有效地提取检查目标的部件的特性的图 像处理。在以下描述中，离子放射线在下文例如被称为X光。在使用X光的检查中，通常把 诸如产品或人体之类的检查目标设置在X光源和检测设备之间，并且根据X光的透射率检 测X光的强度来获得灰度图像。因此，X光源的稳定性非常重要。如果X光源的强度改变 或者稳定性降低，则X光源的强度的不稳定性直接影响到被测图像或者检测的准确性。为了使得X光源稳定地驱动，执行反馈控制、温度控制和对X光取值的监测。不能 忽视X光源辐射的X光的X光取值的降低，这是因为在X光源中使用的X光管寿命较短。例 如，日本未审查专利申请首次公开第2001-198119号披露了一种监测X光取值并且把监测 结果反馈给测量系统的方法。图6Α是示出了在日本未审查专利申请首次公开第2001-198119中披露的X光检 查设备中的基准检测组件的配置结构的示图。X光检查设备包括X光源3、旋转部件2、Χ光 检测器11和基准检测组件12。旋转部件2包括设置有检查目标9的开口 2h。基准检测组 件12对从X光源3辐射的X光的强度进行检测，从而校正从X光源3辐射的X光的强度变 化。基准检测组件12布置在直线段L上，该直线段L连接了 X光源3的焦点和旋转部件2 的开口 2h的外周线或者在直线段L的外部，并且基准检测组件12布置在X光检测器11中 的检测组件的对准圆弧的延伸圆弧上。调整X光检测器11的长度，从而把X光检测器11的两端布置在直线段L上，该直线段L连接了 X光源3的焦点和旋转部件2的开口 2h的外周线或在直线段L的外部。基 准测量组件12布置在X光检测器11的两端上。X光从X光源3辐射并且由X光检测器11和基准检测组件12检测。进入基准检 测组件12的X光通过开口 2h的外部。没有把检查目标9布置在从X光源3的焦点到基准 检测组件12的X光的路径上。因此，检查目标9不会干扰基准检测组件12进行的检测。X 光源3的焦点与基准检测组件12之间的距离等于X光源3的焦点与X光检测器11之间的 距离。因此，进入基准检测组件12的X光量等于进入X光检测器11的X光量。图6B示出了在日本未审查专利申请首次公开第H11-128217中披露的X光检查设 备中的基准检测组件的配置结构的框图。X光检查设备包括X光管1、X光检测单元20、计 算单元23、存储器24、显示单元25和X光控制单元26。检查目标9被置于X光管1与X光 检测单元20之间。X光从X光管1辐射到检查目标9。X光管1和X光检测单元20结合成 一体来旋转，从而能够在360度或180度的方向上获得检查目标9的X光扫描数据。X光检测单元20包括准直仪21和X光检测器22。准直仪22校准入射X光。X光 检测器22检测检测X光。准直仪21和X光检测器22的形状为中心在X光管1处的圆弧。 X光检测器22包括X光检测组件的通道，这些通道被布置成中心在X光管1处的圆弧形状。 X光检测组件的通道数量为500到1000。X光检测组件包括闪烁体组件，其把X光转换成 光线，以及光电二极管，其检测已由闪烁体组件转换的光线来输出电信号。在图中未示出闪 烁体组件和光电二极管。X光检测器22包括成像X光检测通道22a、基准通道22b和监测 X光检测通道22c。基准通道22b和监测X光检测通道22c置于X光检测器22的两端。基准通道22b用于测量来自X光管1的未透射通过检查目标9的X光的强度。监 测X光检测通道22c用于检测X光管1的焦点的移动。计算单元23根据X光检测单元20的检测值计算用于生成X光图像的数据。计算 单元23向包含X光控制单元26的X光检查设备的每个单元输出命令信号。显示单元25 显示X光图像，诸如横截面图像。在以上示例中，X光检查设备被假定为X光CT设备。因此，X光源与检测单元之 间的距离相同。图7是透视图，其示出了当检查目标32为薄片形状并且由布置成平面的测 量X光直线传感器31测量时的X光检查设备的配置结构。在此情况中，检查目标32是由 工业应用的流水生产所生产的纸或薄板。例如，检查目标32的宽度为几米。X光从X光源 30辐射出来。X光透射通过检查目标32并且由布置成平面的测量X光直线传感器31进行 检测。在工业应用中，检查目标32被平面的流水生产传送通过前处理、检查处理和后处 理。因此，很难只把检查设备布置成圆弧的形状。如果使用平面直线传感器，则X光源和中心部分处的检查目标之间的距离与X光 源和外围部分处的检查目标之间的距离不同。类似地，检测单元和中心部分处的检查目标 之间的距离与检测单元和外围部分处的检查目标之间的距离不同。X光，尤其是软X光受到 空气吸收、温度、湿度和大气压的影响。基准单元附近远离检测单元的X光倾向于与检测单 元附近的X光不同。检测单元的入射角会是变化的。X光从X光源放射状地扩散。置于外围部分附近的基准检测单元远离布置在中心 部分附近的测量检测单元。因此，不适合根据基准检测单元的χ光取值来校正测量检测单元的X光取值。在假定X光源的X光的分布不变的情况下，通过根据置于测量检测单元的两 端处的基准检测单元的X光取值的变化估计测量检测单元的X光取值的变化来执行校正。

发明内容
在本发明中，基准检测单元置于检测单元附近，并且处于检测单元与X光源之间。 基准检测单元校正由检测单元检测的所有X光取值。如果有必要，对来自X光源的X光的 放射状分布的变化实时进行校正。随后，能够非常准确地实现测量。一种放射线检查设备，其利用来自放射源的放射线对检查目标进行检查，可以包 括测量放射线检测单元，其检测放射线；基准放射线检测单元，其检测来自放射源的放射 线，所述基准放射线检测单元布置在所述放射源和所述检查目标之间；计算单元，其根据所 述基准放射线检测单元的输出来计算所述放射线的强度变化值；以及放射线控制单元，其 通过根据所述变化值校正所述测量放射线检测单元的输出，来对所述放射线的强度进行校 正。所述放射线检查设备还可以包括放射源单元，其放射状地辐射放射线。所述测量放射线检测单元可以是直线传感器。所述基准放射线检测单元可以与从所述放射源到所述测量放射线检测单元的放 射路径相邻，以防止所述基准放射线检测单元妨碍从所述放射源到所述测量放射线检测单 元的放射线。所述测量放射线检测单元和所述基准放射线检测单元可以共用同一硬件元件。所述基准放射线检测单元可以是矩形形状，并且与所述测量放射线检测单元在检 测组件的尺寸、斜度和长度方面不同。所述基准放射线检测单元可以是包括闪烁体的光电传感器。可以实时计算所述基准放射线检测单元的输出的时序变化，并且可以根据所述基 准放射线检测单元的输出的时序变化的计算结果对所述测量放射线检测单元的输出进行 实时校正。可以按照恒定时间段计算所述基准放射线检测单元的输出的时序变化，并且可以 根据所述基准放射线检测单元的输出的时序变化的计算结果的同一校正值对所述测量放 射线检测单元的输出进行校正，直到执行所述基准放射线检测单元的输出的时序变化的下 一次计算为止。可以在所述放射源与所述检查目标之间布置密封结构。所述密封结构可以充满气 体。所述密封结构可以包括来自所述放射源的放射线的入射窗；第一出射窗，其把用于测 量检测的放射线输出到所述测量放射线检测单元；以及第二出射窗，其把用于基准检测的 放射线输出到所述基准放射线检测单元。所述第一出射窗与所述测量放射线检测单元之间的第一距离可以等于所述第二 出射窗与所述基准放射线检测单元之间的第二距离。可以与所述放射源相邻地布置准直仪，并且所述准直仪可以包括第一辐射窗，其 输出用于测量检测的放射线；以及第二辐射窗，其输出用于基准检测的放射线。如果所述放射源由辐射放射线的反射型放射管以及反射来自所述放射管的放射 线的放射目标组成，并且使用薄片型物体作为所述检查目标，那么所述放射目标的反射面几乎可以平行于所述薄片型物体的移动方向，所述反射面反射放射线。所述基准放射线检测单元可以沿着两个方向中的一个方向移动，一个方向平行于 所述测量放射线检测单元的长边和一行多个光电二极管中的至少之一，另一个方向几乎垂 直于所述检查目标的移动。所述基准放射线检测单元的输出可以被存储在存储单元中作为 每次移动所述基准放射线检测单元时的测量数据。可以根据所述基准放射线检测单元的一 个以上的测量数据计算所述基准放射线检测单元的测量误差。如果确定了所述放射源的 强度分布的时序变化，则可以根据所述时序变化对所述测量放射线检测单元的输出进行校 正，通过从所述基准放射线检测单元的测量数据推导测量误差来获得所述强度分布。可以通过间歇进给和周期连续往复进给中的一种方式来移动所述基准放射线检 测单元。可以根据几乎相同时刻在所述基准放射线检测单元的不同区域的一个以上的测量 数据来计算所述放射源的强度分布。可以在多个测量点测量所述基准放射线检测单元的移动的数量。可以根据所述基 准放射线检测单元的机构来确定所述多个测量点。所述基准放射线检测单元可以在所述多 个测量点中的每一个处停止。可以根据在所述多个测量点处的一个以上的测量数据来计算 所述放射源的强度分布。所述基准放射线检测单元可以连续移动。可以在不同测量点测量所述基准放射线 检测单元的移动的数量。可以根据在所述不同测量点处的一个以上的测量数据来计算所述 放射源的强度分布。可以通过最小二乘法、均值法、移动平均偏差法中的至少一个以及最小二乘法、均 值法、移动平均偏差法中一个以上的组合来对一个以上的测量数据求平均，从而计算具有 最小偏差的中间值。可以根据所述中间值的时间变化获得所述放射源的强度分布。—种放射线检查设备，其利用来自放射源的放射线对检查目标进行，可以包括测 量放射线检测单元，其检测所述放射线；以及基准放射线检测单元，其检测来自所述放射源 的放射线，所述基准放射线检测单元布置在所述放射源与所述检查目标之间，所述基准放 射线检测单元与从所述放射源到所述测量放射线检测单元的放射路径相邻，以防止所述基 准放射线检测单元妨碍从所述放射源到所述测量放射线检测单元的放射线。一种放射线检查设备，其利用来自放射源的放射线对检查目标进行检查，可以包 括计算单元，其根据用于基准检测的放射线计算所述放射线的强度变化值；以及放射线 控制单元，其通过根据所述变化值校正用于测量检测的放射线，来对所述放射线的强度进 行校正。


通过结合附图对特定优选实施例所做的以下描述，本发明的上述特征和优点将变 得明显，其中图IA是示出了根据本发明的第一优选实施例的X光检查设备的正视图；图IB是示出了图IA的X光检查设备的侧视图；图2是示出了根据本发明的第二优选实施例的X光检查设备的侧视图；图3是示出了根据本发明的第三优选实施例的X光检查设备的透视图；图4A是示出了图3的X光检查设备中的测量X光直线传感器的输出与测量X光直线传感器的横跨宽度的位置之间的关系曲线；图4B是示出了图3的X光检查设备中的基准X光直线传感器的输出与基准X光 直线传感器的横跨宽度的位置之间的关系曲线；图5是示出了根据本发明的第四优选实施例的X光检查设备的透视图；图6A是示出了根据相关技术的X光检查设备中的基准检测组件的配置结构的示 图；图6B是示出了根据相关技术的X光检查设备中的基准检测组件的配置结构的框 图；以及图7是示出了在检查目标为薄片形状并且由布置成平面的X光直线传感器测量时 的X光检查设备的配置结构的透视图。
具体实施例方式在此将参考示意性实施例描述本发明。本领域技术人员将会认识到，能够利用本 发明的指教实现许多替代实施例，而且并没有将本发明限制于为了说明目的而例证的实施 例。在以下描述中，在根据本发明的优选实施例的放射线检查设备中使用X光，但是 在根据本发明的优选实施例的放射线检查设备中使用的离子放射线并没有被限制于X光， 而可以是诸如β放射线、Y放射线等之类的任何类型的离子放射线。第一优选实施例将描述本发明的第一优选实施例。图IA是示出了根据本发明的第一优选实施例 的X光检查设备的正视图。图IB是示出了图IA的X光检查设备的侧视图。X光检查设备 包括X光源30、朝向X光源30布置的测量X光直线传感器31、不同于测量X光直线传感器 31的基准X光直线传感器33、置于X光源30附近的准直仪34、计算单元23和X光控制单 元26。测量X光直线传感器31在下文被称为测量传感器31。基准X光直线传感器33在 下文被称为基准传感器33。检查目标32被设置靠近测量传感器31并且远离X光源30。 检查设备32沿几乎以垂直于X光的路径的方向S移动，并且由测量传感器31检查或测量。 准直仪34可以包括，或者可以不包括一个或两个透射单元、测量X光辐射窗和基准X光辐 射窗。测量传感器31包括X光进入的入射窗31a。基准传感器33包括X光进入的入射窗 33a ο本发明的第一优选实施例与现有技术的不同之处在于，在本发明的第一实施例中 布置了基准传感器33。基准传感器33不同于测量传感器31。如图IB所示，在透射通过检 查目标32之前，基准传感器33检测X光。基准传感器33置于靠近X光源30的位置P与 靠近检查目标32的位置P’之间。在进入测量传感器31的X光不被基准传感器33妨碍的 情况下，使得入射窗31a的中心与入射窗33a的中心之间的距离尽可能的小。测量传感器31包括与入射窗31a —起布置的检测组件。基准传感器33包括与入 射窗33a —起布置的检测组件。检测组件的通道数量为500到1000。检测组件可以彼此相 同。检测组件可以是超高灵敏的光电二极管和闪烁体的组合，或者可以包括另一闪烁体薄 片。检测组件的尺寸或数量可以彼此不同。对检测组件的输出功率的差值进行校正，并且 随后存储在诸如存储器之类的存储介质中。
基准传感器33检测的区域的宽度需要等于或大于测量传感器31检测的区域的宽 度。基准传感器33被设置在位置P和位置P’之间，并且基准传感器33检测的区域的必要 宽度根据设置了基准传感器33的位置而变化。基准传感器33可以短小而廉价，或者可以 非常准确并且具有高稳定性。如果与测量传感器31相同的基准传感器33被布置在最靠近检查目标32的位置 P’处，则基准传感器33与测量传感器31几乎一一对应，并且能够得到X光的强度分布或不 均勻度，以校正每个测量检测组件的测量值。像素A和像素B被布置在测量传感器31上。像素A’处于基准传感器33和连接 在像素A与X光源30之间的直线的交叉点。像素B’处于基准传感器33和连接在像素B 与X光源30之间的直线的交叉点。通过使用像素A’处的基准传感器33的输出对像素A 处的测量传感器31的输出进行校正。通过使用像素B’处的基准传感器33的输出对像素B 处的测量传感器31的输出进行校正。随后，对测量传感器31的检测范围的分布进行校正。 具体地说，实时计算基准传感器33的输出值与测量传感器31的输出值之间的差，去除X光 源的不稳定分量，并且能够非常准确地测量检测目标32的透射特性。计算单元23执行基 准传感器33的输出值与测量传感器31的输出值之间的差的计算。在测量时不是连续执行差值的计算，而是按照周期的循环来执行。通过使用相同 校正值在某一时间段内执行校正，直到执行下一次计算为止。X光控制单元26执行校正。 执行校正的设备和在校正中所使用的校正公式属于现有技术，在此省略对其的描述。如上所述，通过使用根据本发明的第一优选实施例的X光检查设备1.能够检测从X光源30放射状辐射的X光的分布变化或不均勻度。通过计算每 个检测组件处的测量传感器31的测量值与基准传感器33的测量值之间的差，能够实时计 算检查目标32中的X光的吸收量。2.能够改进测量的灵敏度。3.能够排除温度、湿度和大气压变化的影响，并且能够期待稳定的测量结果。4.即使测量传感器33为平面形状，也能够执行校正。第二优选实施例将描述本发明的第二优选实施例。图2是示出了根据本发明的第二优选实施例的 X光检查设备的侧视图。如果在检查设备中使用诸如包括软X光的X光或β放射线之类的放射线，则空气 会吸收数量可观的放射线。如果从某一距离辐射X光或β放射线，则无法获得足够量的放 射线，并且很难由检查设备进行测量。通过在放射源与检查目标之间布置充满氦气(He)的 腔室，能够抑制空气对放射线的吸收，并且可以从某一距离辐射放射线。图2示出了根据本发明的第二优选实施例的X光检查设备的结构，其中氦气(He) 腔室35被添加到图1的X光检查设备中。在本发明的第二优选实施例中，氦气腔室35被 布置在X光源30的输出窗附近。氦气腔室35充满氦气。氦气腔室35包括来自X光源30 的X光进入的入射窗35a、输出用于测量检测的X光的出射窗35b以及输出用于基准检测的 X光的出射窗35c。为了抑制空气的吸收，优选地使得测量传感器31的入射窗31a与氦气腔室35的 出射窗35b之间的距离η尽可能的小。设置基准传感器33，使得距离η等于基准传感器33的入射窗33a与氦气腔室35的出射窗35c之间的距离m。通过上述配置，能够使得空气吸收量对测量传感器31的影响等同于空气吸收量 对基准传感器33的影响。因此，能够消除温度、湿度、大气压和空气清洁度的影响。第三优选实施例 将描述本发明的第三优选实施例。图3是示出了根据本发明的第三优选实施例的 X光检查设备的透视图。在本发明的第三优选实施例中，基准传感器33以沿垂直于方向S的方向C移动， 方向S代表检查目标32的移动方向。通过使用图中未示出的诸如汽缸和电动机之类的致 动器、偏心凸轮和改变直线运动的机构来移动基准传感器33。基准传感器33的移动受到图 中未示出的直线导轨的限制，使得基准传感器33的高度不会变化，并且基准传感器33不会 摇摆。因此，基准传感器33能够在图3中的位置Q与位置Q’之间精确地移动。通过间歇进给和周期连续往复进给中的一种方式来移动基准传感器33。通过以相 对快的速度移动基准传感器，例如，通过使其在每秒钟内往返多次，根据几乎同时在基准传 感器33的不同区域中的一个以上的测量数据来计算来自X光源30的X光的分布。在根据基准放射线检测单元的机构所确定的多个测量点来为基准传感器33的移 动的数量计数。基准放射线检测单元在多个测量点的每一个处停止。根据在多个测量点处 的一个以上的测量数据计算来自X光源30的X光的分布。基准传感器33可以连续移动，可以在不同的测量点为基准传感器33的移动的数 量计数，并且根据在不同测量点处的一个以上的测量数据来计算来自X光源30的X光的分布。通过最小二乘法、均值法、移动平均偏差法中的至少一个以及最小二乘法、均值 法、移动平均偏差法中一个以上的组合来对一个以上的测量数据求平均，从而计算具有最 小偏差的中间值。根据中间值的时间变化获得来自X光源30的X光的分布。每次移动基准传感器33时，基准传感器33的输出数据被存储在存储单元中。根据 至少一个以上的测量数据计算由基准传感器33的检测组件的感测误差产生的测量误差。 通过从基准传感器33的输出推导测量误差获得来自X光源30的X光的分布。如果确定了 来自X光源30的X光的分布的时序变化，则根据来自X光源30的X光的分布的变化值校 正测量传感器31的输出。图4A是示出了图3的X光检查设备中的测量传感器31的输出与测量传感器31 的横跨宽度的位置之间的关系曲线。图4B是示出了图3的X光检查设备中的基准传感器 33的输出与基准传感器33的横跨宽度的位置之间的关系曲线。透射通过检查目标32的外部并且到达测量传感器31的X光没有被检查目标32 衰减，并且测量传感器31的输出值变高。测量传感器31的输出e的波形在波形的中间部 分为低，其对应于透射通过检查目标32的X光，而在波形的两端为高，其对应于未透射通过 检查目标32的X光。测量传感器31的输出包括X光源30的分布或不均勻度以及检查目 标32的吸收特性或不均勻厚度的影响。在由测量传感器31进行的测量中，假定在X光检 查设备执行校正时事先测量的X光源30的分布不随时间变化。如果X光源30的强度或强度分布在中途发生变化，则错误地测量出检查目标32 的厚度。如果监测出对应于未透射通过检查目标32的X光的测量传感器31的两端的输出
10变化，则通过反馈能够控制由温度或大气压所引起的X光源30或测量传感器31的输出变 化或灵敏度变化。然而，不能够控制X光源30的分布。因此，精确地测量波形两端的测量传感器31的输出变化。图4B示出的基准传感器33的输出示出了，尽管基准传感器33的单个形状发生变 化，仍在所有基准传感器33上测量出X光的分布。如果监测到该分布的变化，则能够实时 获得X光源30的分布。如果基准传感器33所监测的X光源30的变化被馈送到测量传感器31，则能够实 时测量已经对X光源的变化进行校正的检查目标32的透射特性。由于测量传感器31不同 于基准传感器33，所以基准传感器33的特性的变化所造成的结果可以被反馈作为X光源 30的分布变化。该特性的变化例如是由闪烁体的局部劣化造成的。为了避免上述现象，沿位置Q与位置Q’之间的方向C移动基准传感器33。方向C 垂直于透射检查目标32的方向S。随后，处于不同位置处的多个检测组件测量相同X光的 强度。由两个不同的检测组件测量出的强度差值被看作是基准传感器33的灵敏度误差，并 且能够不用考虑。为了通过改变基准传感器33的位置来测量相同X光的强度，优选地以相对快的步 长移动基准传感器33。获得去除了基准传感器33的测量误差分量的强度分布作为X光源 30的分布。在以上描述中，基准传感器33测量两个位置(位置Q和位置Q’)处的X光的 强度。基准传感器33测量X光的强度的位置数量不限于两个，并且可以是多于两个。通过 在多个位置测量X光的强度，能够非常准确地消除基准传感器33的灵敏度误差。对应于基 准传感器33中的检测组件的曝光时间的读取速度足够快，例如为每秒几千次。不必需要间 歇进给，并且基准传感器33可以一直往返移动。第四优选实施例将描述本发明的第四优选实施例。图5是示出了根据本发明的第四优选实施例的 X光检查设备的透视图。在第四优选实施例中，反射型X光管36被用作X光源。检查目标 32为薄片形物品。反射型X光管36包括辐射X光的电子枪36a和从电子枪36a反射X光 的目标36b。反射X光的目标36b的反射面几乎平行于检查目标32的移动方向。如这里所使用的，下面的方向术语“向前、向后、向上、向下、垂直、水平、在…的下 面和横向”以及其他任何类似的方向术语指的是配置了本发明的设备的那些方向。因此，用 来描述本发明的这些术语应当被解释为与配置了本发明的设备相关。术语“配置成”被用来描述包括被构造和/或编程来执行期望功能的硬件和/或 软件的装置的元件、部分或部件。而且，在权利要求中表达为“装置+功能”的术语应当包括能够被用来执行本发明 的那部分的功能的任何结构。这里使用的诸如“基本上”、“大约”、“几乎”和“近似”之类的程度术语表示所修改 的术语的合理的偏差量，使得最终结果不会明显变化。例如，如果该偏差不会否定所修改的 词语的意义，则这些术语能够被理解为包括所修改的术语的至少士5%的偏差。尽管以上描述并举例说明了本发明的优选实施例，应当理解，这些实施例是本发 明的示例，并且不应当被认为是限制本发明。在上述优选实施例中，从放射线检查设备的放 射源辐射的放射线为X光，但放射线也可以是β放射线等。能够在不脱离本发明的精神或范围的情况下进行添加、省略、替代和其他变型。因此，本发明不应当被认为由以上描述来 限定，而仅仅由所附权利要求的范围来限定。
权利要求
一种放射线检查设备，其利用来自放射源的放射线对检查目标进行检查，包括测量放射线检测单元，其检测放射线；基准放射线检测单元，其检测来自放射源的放射线，所述基准放射线检测单元布置在所述放射源和所述检查目标之间；计算单元，其根据所述基准放射线检测单元的输出来计算所述放射线的强度变化值；以及放射线控制单元，其通过根据所述变化值校正所述测量放射线检测单元的输出，来对所述放射线的强度进行校正。
2.如权利要求1所述的放射线检查设备，还包括放射源单元，其放射状地辐射放射线。
3.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中所述测量放射线检测单元为直线传感ο
4.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中所述基准放射线检测单元与从所述放射 源到所述测量放射线检测单元的放射路径相邻，以防止所述基准放射线检测单元妨碍从所 述放射源到所述测量放射线检测单元的放射线。
5.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中所述测量放射线检测单元和所述基准放 射线检测单元共用同一硬件元件。
6.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中所述基准放射线检测单元为矩形形状， 并且与所述测量放射线检测单元在检测组件的尺寸、斜度和长度方面不同。
7.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中所述基准放射线检测单元是包括闪烁体 的光电传感器。
8.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中实时计算所述基准放射线检测单元的输 出的时序变化，并且根据所述基准放射线检测单元的输出的时序变化的计算结果对所述测 量放射线检测单元的输出进行实时校正。
9.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中按照恒定时间段计算所述基准放射线检 测单元的输出的时序变化，并且根据所述基准放射线检测单元的输出的时序变化的计算结 果的同一校正值对所述测量放射线检测单元的输出进行校正，直到执行所述基准放射线检 测单元的输出的时序变化的下一次计算为止。
10.如权利要求1所述的放射线检查设备，在所述放射源与所述检查目标之间布置密 封结构，所述密封结构充满气体，所述密封结构包括来自所述放射源的放射线的入射窗； 第一出射窗，其把用于测量检测的放射线输出到所述测量放射线检测单元；以及第二出射 窗，其把用于基准检测的放射线输出到所述基准放射线检测单元。
11.如权利要求10所述的放射线检查设备，其中所述第一出射窗与所述测量放射线检 测单元之间的第一距离等于所述第二出射窗与所述基准放射线检测单元之间的第二距离。
12.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中与所述放射源相邻地布置准直仪，并且 所述准直仪包括第一辐射窗，其输出用于测量检测的放射线；以及第二辐射窗，其输出用 于基准检测的放射线。
13.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中如果所述放射源由辐射放射线的反射 型放射管以及反射来自所述放射管的放射线的放射目标组成，并且使用薄片型物体作为所2述检查目标，那么所述放射目标的反射面几乎平行于所述薄片型物体的移动方向，所述反 射面反射放射线。
14.如权利要求1所述的放射线检查设备，其中所述基准放射线检测单元沿着两个方 向中的一个方向移动，一个方向平行于所述测量放射线检测单元的长边和一行多个光电二 极管中的至少之一，另一个方向几乎垂直于所述检查目标的移动，所述基准放射线检测单 元的输出被存储在存储单元中作为每次移动所述基准放射线检测单元时的测量数据，根据 所述基准放射线检测单元的一个以上的测量数据计算所述基准放射线检测单元的测量误 差，并且如果确定了所述放射源的强度分布的时序变化，则根据所述时序变化对所述测量 放射线检测单元的输出进行校正，通过从所述基准放射线检测单元的测量数据推导测量误 差来获得所述强度分布。
15.如权利要求14所述的放射线检查设备，其中通过间歇进给和周期连续往复进给中 的一种方式来移动所述基准放射线检测单元，并且根据几乎相同时刻在所述基准放射线检 测单元的不同区域的一个以上的测量数据来计算所述放射源的强度分布。
16.如权利要求14所述的放射线检查设备，其中在多个测量点测量所述基准放射线检 测单元的移动的数量，根据所述基准放射线检测单元的机构来确定所述多个测量点，所述 基准放射线检测单元在所述多个测量点中的每一个处停止，根据在所述多个测量点处的一 个以上的测量数据来计算所述放射源的强度分布。
17.如权利要求14所述的放射线检查设备，其中所述基准放射线检测单元连续移动， 在不同测量点测量所述基准放射线检测单元的移动的数量，根据在所述不同测量点处的一 个以上的测量数据来计算所述放射源的强度分布。
18.如权利要求14所述的放射线检查设备，其中通过最小二乘法、均值法、移动平均偏 差法中的至少一个以及最小二乘法、均值法、移动平均偏差法中一个以上的组合来对一个 以上的测量数据求平均，从而计算具有最小偏差的中间值，并且根据所述中间值的时间变 化获得所述放射源的强度分布。
19.一种放射线检查设备，其利用来自放射源的放射线对检查目标进行检查，包括测量放射线检测单元，其检测所述放射线；以及基准放射线检测单元，其检测来自所述放射源的放射线，所述基准放射线检测单元布 置在所述放射源与所述检查目标之间，所述基准放射线检测单元与从所述放射源到所述测 量放射线检测单元的放射路径相邻，以防止所述基准放射线检测单元妨碍从所述放射源到 所述测量放射线检测单元的放射线。
20.一种放射线检查设备，其利用来自放射源的放射线对检查目标进行检测，包括计算单元，其根据用于基准检测的放射线计算所述放射线的强度变化值；以及放射线控制单元，其通过根据所述变化值校正用于测量检测的放射线，来对所述放射 线的强度进行校正。
全文摘要
本发明公开了一种放射线检查设备，其包括放射源、具有长边的矩形形状的测量放射线检测单元和布置在放射源与检查目标之间的基准放射线检测单元，基准放射线检测单元布置在与从放射源到测量放射线检测单元的放射路径相邻的位置，从而不会妨碍从放射源到测量放射线检测单元的放射线。通过从基准放射线检测单元的输出计算强度变化值和强度分布，并且通过根据该变化值校正测量放射线检测单元的输出，来对放射线的强度进行校正。
文档编号G01T1/16GK101957451SQ20101022949
公开日2011年1月26日 申请日期2010年7月13日 优先权日2009年7月16日
发明者大日方祐彦, 市泽康史 申请人:横河电机株式会社