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硅片清洗机纯水入口水质检测装置的制作方法

时间:2025-05-10    作者: 管理员

专利名称:硅片清洗机纯水入口水质检测装置的制作方法
技术领域
本实用新型涉及光伏行业硅片制造设备领域中的一种水质检测装置,具体是涉及硅片清洗机纯水入口水质检测装置。
背景技术
硅片清洗是硅片制造工序中的最后环节,前期硅片生产质量完好,如后期清洗因纯水质量影响损坏硅片,是很遗憾的事,水质的酸碱度及硬度对硅片的清洗影响很大,因此水质检测是不可少的步骤,而现有设备中均无此检测设备。
发明内容本实用新型的目的就是针对现有技术存在的不足,提供一种具有水质检测功能的硅片清洗机纯水入口水质检测装置。技术方案包括硅片清洗机及纯水管,在纯水管的入口处加设水质检测仪,水质检测仪的探头设置在入口开关的前面。有益效果此技术能检测纯水管入口处的水质情况,如水质合格,即可打开入口开关,有效保证了硅片清洗的安全性,且此装置加装方便,成本低,相较与硅片的损坏是非常有必要加装此装置的。

附图是本实用新型的安装效果示意图。
具体实施方式
参照附图,本实用新型主要包括硅片清洗机1及纯水管2,在纯水管2的入口处加设水质检测仪4,水质检测仪4的探头设置在入口开关3的前面。
权利要求1.硅片清洗机纯水入口水质检测装置,包括硅片清洗机及纯水管,其特征是在纯水管的入口处加设水质检测仪,水质检测仪的探头设置在入口开关的前面。
专利摘要本实用新型涉及光伏行业硅片制造设备领域中的一种水质检测装置,具体是涉及硅片清洗机纯水入口水质检测装置。技术方案包括硅片清洗机及纯水管,在纯水管的入口处加设水质检测仪,水质检测仪的探头设置在入口开关的前面。有益效果此技术能检测纯水管入口处的水质情况,如水质合格,即可打开入口开关,有效保证了硅片清洗的安全性,且此装置加装方便,成本低,相较与硅片的损坏是非常有必要加装此装置的。
文档编号G01N33/18GK202330405SQ201120529958
公开日2012年7月11日 申请日期2011年12月9日 优先权日2011年12月9日
发明者李军, 肖凯 申请人:山东大海新能源发展有限公司

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