专利名称：一种累积检测整体漏率装置的制作方法
技术领域：
本实用新型主要涉及质谱分析领域，具体是一种累积检测整体漏率的装置。
背景技术：
真空检漏就是用一定的手段将示漏的物质加到被检工件器壁的某一侧，用仪器或某一方法在另一侧怀疑有漏的地方检测通过漏溢出的示漏物质，从而达到检漏的目的。目前真空系统所普遍采用的检漏方法，通常采用氦质谱检漏仪进行检漏，方法是将氦质谱检漏仪连接到真空系统抽空机组的前级泵的高真空端，用示漏物质氦气喷吹可能泄露的位置，通过氦质谱检漏仪的读数变化是否有漏。这种方式的不足之处在于结构复杂，成本高。实用新型内容 本实用新型目的就是为了弥补已有技术的缺陷，提供提供结构简单、低成本的一种累积检测整体漏率的装置。本实用新型是通过以下技术方案实现的累积检测整体漏率的装置，包括有氦质谱检漏仪、吸枪，所述氦质谱检漏仪与吸枪连接，其特征在于还包括有箱体、工件，所述工件位于箱体内，所述箱体的一侧开有一个小孔，所述吸枪的吸枪头通过箱体上的小孔深入到箱体内，所述箱体上的小孔与吸枪之间密封。所述的一种累积检测整体漏率装置，其特征在于所述的箱体为密封件。本实用新型的工作原理为工件内充入氦气放置箱体内，一段时间后，如工件有漏，氦气就会从工件漏孔渗出被吸枪吸入，根据氦质谱检漏仪的度数判断出漏率值。本实用新型的优点是本实用新型结构简单，而且与现在的真空检漏系统相比至少减少了一套泵组大大节约了检漏的成本。


图I为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图I所示，累积检测整体漏率的装置，包括有氦质谱检漏仪3、吸枪4，所述氦质谱检漏仪3与吸枪4连接,还包括有箱体2、工件I,所述工件I位于箱体2内，所述箱体2的一侧开有一个小孔，所述吸枪4的吸枪头通过箱体2上的小孔深入到箱体2内，所述箱体2上的小孔与吸枪4之间密封。所述的箱体2为密封件。
权利要求1.一种累积检测整体漏率的装置，包括有氦质谱检漏仪、吸枪，所述氦质谱检漏仪与吸枪连接，其特征在于还包括有箱体、工件，所述工件位于箱体内，所述箱体的一侧开有一个小孔，所述吸枪的吸枪头通过箱体上的小孔深入到箱体内，所述箱体上的小孔与吸枪之间密封。
2.根据权利要求I所述的一种累积检测整体漏率装置，其特征在于所述的箱体为密封件。
专利摘要本实用新型公开了一种累积检测整体漏率的装置，包括有氦质谱检漏仪、吸枪，所述氦质谱检漏仪与吸枪连接，其特征在于还包括有箱体、工件，所述工件位于箱体内，所述箱体的一侧开有一个小孔，所述吸枪的吸枪头通过箱体上的小孔深入到箱体内，所述箱体上的小孔与吸枪之间密封。本实用新型结构简单，而且与现在的真空检漏系统相比至少减少了一套泵组大大节约了检漏的成本。
文档编号G01M3/20GK202372317SQ20112043599
公开日2012年8月8日 申请日期2011年11月7日 优先权日2011年11月7日
发明者张志 , 胡眉 申请人:安徽皖仪科技股份有限公司