专利名称：瓷砖尺寸检测设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及建筑行业所用的设备，具体地说，是涉及瓷砖尺寸检测设备。
背景技术：
陶瓷墙地砖的尺寸误差对瓷砖的质量影响很大。大多数厂家采用人工测量瓷砖的尺寸，测量的准确度、稳定性以及效率都存在很多问题。因此，人们急需研制一种高效率、高精度的机器检测设备，对陶瓷生产质量控制起重要作用。

发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的不足之处，而提供一种制备简便，使用效果较好的瓷砖尺寸检测设备。
本实用新型目的可以通过如下措施来实现瓷砖尺寸检测设备是由密闭的测量箱、同步皮带、位移传感器和光源制成，测量箱置于同步皮带上方，测量箱与同步皮带之间放入被测瓷砖和光源，其中，测量箱将平面反射镜、镜头和线阵CCD传感器密封，线阵CCD传感器位于测量箱左侧，镜头在测量箱的左上方，二个平面反射镜分别位于测量箱右上方、右下方，测量箱底部的进光口由平面透镜密封，平面透镜对应测量箱位置，安装平面反射镜，平面反射镜安在测量箱内，平面反射镜均有一个角度，同步皮带运输瓷砖，旋转编码器驱动在同步皮带轴上；同步测量，用移动传感器均布在被测量瓷砖的上面，以测量瓷砖的厚度和表面平整度。
本实用新型相比现有技术采用人工测量瓷砖的尺寸，具有如下优点本实用新型采用机器视觉的方法，检测瓷砖的长度、宽度、厚度、边直度、角直度、表面平整度等几项指标，系统根据每块瓷砖的实际尺寸，并将瓷砖分为不同的等级，以便后工序的工作，同时，大大提高了测量的准确度、稳定性以及效率，降低成本，增加经济效益。


图1本实用新型瓷砖尺寸检测设备图2本实用新型瓷砖尺寸检测设备的使用状态图中1、线阵CCD传感器 2、镜头 3、4、5、平面反射镜 6、光源 7、平面透镜 8、瓷砖 9、旋转编码器 10、同步皮带 11、测量箱12、位移传感器具体实施方式
下面列举一个实施例，对本发明加以进一步说明。但本实用新型不只限于该实施例。
实施例1本实用新型采用高像素点的线阵CCD(电荷耦合器件)1，镜头2采用固定焦距镜头，为减少设备的体积，增加光学器件的机械稳定性，系统采用一组平面反射镜延长物距。CCD1、镜头2和平面反射镜组3、4、5被密封在一个测量箱内，以减少外界灰尘和光线对测量的干扰。LED或者荧光光源安置在测量箱底部，测量箱进光窗口的宽度可调，并且进光窗口有透光性高的平面透镜7密闭。测量箱11作为一个组件，便于现场安装。光源的角度、平面反射镜组的反射角度以及像距都可调。
本实用新型采用一组位移传感器，以测量瓷砖的厚度和表面平整度，传感器均布于瓷砖上部。
瓷砖的输送采用同步皮带输送。CCD测量方向与沿输送方向垂直，即横向尺寸。纵向的位移采用旋转编码器测量，并且编码器的输出脉冲触发CCD的测量，使两个方向测量保持同步。
检测设备的基本原理图如图所示，瓷砖8由同步皮带10输送，光源6的光线经瓷砖8表面反射进入测量箱11内部。测量箱进光口由平面透镜7密闭。光线经平面反射5、4和3，水平进入镜头2，然后CCD传感器1上成像。旋转编码器9用于测量输送位移，并触发CCD传感器1的测量。
本实用新型测量部件由线阵CCD、位移传感器12和旋转编码器9组成，密闭的测量箱11将反射镜组3、4、5、镜头2和CCD传感器1密封，反射镜组成用于增加物距，光源采用LED光源或者荧光光源。同步测量，用移动传感器12均布在被测量瓷砖的上面，以测量瓷砖的厚度和表面平整度。
权利要求1.瓷砖尺寸检测设备，其特征在于它是由密闭的测量箱(11)、同步皮带(10)位移传感器(12)和光源(6)制成，测量箱置于同步皮带上方，测量箱与同步皮带之间放入被测瓷砖(8)和光源(6)，其中，测量箱将平面反射镜(3)、(4)、(5)镜头(2)和线阵CCD传感器(1)密封，线阵CCD传感器位于测量箱左侧，镜头(2)在测量箱的左上方，平面反射镜(3)、(4)分别位于测量箱右上方、右下方，测量箱底部的进光口由平面透镜(7)密封，平面透镜(7)对应测量箱位置安装平面反射镜(5)平面反射镜安在测量箱内，平面反射镜(3)、(4)、(5)均有一个角度，同步皮带(10)输送瓷砖(8)，旋转编码器(9)驱动在同步皮带轴上；同步测量，用移动传感器(12)均布在被测瓷砖的上面，以测量瓷砖的厚度和表面平整度。
专利摘要本实用新型涉及瓷砖尺寸检测设备，它是由检测箱、同步皮带、位移传感器和光源制成，详细结构见说明书。本实用新型制备简便，测量准确，稳定性好，效率高，该仪器测量代替人工测量。本实用新型用于瓷砖尺寸检测，测定瓷砖长度、宽度、厚度、边直度、角直度、表面平整度等。
文档编号G01B11/30GK2676144SQ20032012206
公开日2005年2月2日 申请日期2003年11月20日 优先权日2003年11月20日
发明者曹健 申请人:曹健