专利名称：一种用于轴类中心孔深度控制的比对量具的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及轴类测量领域，尤其涉及到ー种用于轴类中心孔深度控制的比对量具。
背景技术：
在轴类エ件的加工过程中，中心孔通常被做为定位基准。中心孔的深浅在制程中会直接影响到轴向尺寸的精度。因此，保证中心孔深度的稳定性是必要的。目前通用的測量中心孔都是采用传统的借用游标卡尺进行定位、画线，此法过于 繁琐，而且精度不能保证，产生的误差较大。

实用新型内容本实用新型的目的在于克服上述现有技术中的不足之处而提供ー种结构简单、操作简单、測量方便快捷、实用的用于轴类中心孔深度控制的比对量具。本实用新型是通过如下方式实现的ー种用于轴类中心孔深度控制的比对量具，其特征在于包括壳体I、球头导柱2、定位块3、測量装置4 ;其中所述的壳体I上设有导槽11和测量槽12 ;所述的导槽11与测量槽12相连通；所述的球头导柱2的一端设有球形体21 ;所述的球头导柱2设于导槽11内，球形体21 —端朝下；所述的球头导柱2相对于壳体I可上下滑动；所述的定位块3连接于壳体I的末端；所述的测量装置4连接于测量槽12内。所述的壳体I的导槽11上设有导套5 ;所述的球头导柱2连接于导套5上。所述的测量装置4可以是百分表，也可以是千分表。本实用新型的优点在干结构简单、使用简单、轻便、采用了带球头的导拄，利用球头模拟钢珠与中心孔的60度锥面接触，避免了各种累积误差，准确度高；在加工过程中取用方便灵活，快捷，缩短量测エ时，又能保证中心孔深度的一致性。可根据不同精度要求选择配用百分表或者千分表，广泛适用于中心孔深度的比对量测；为后续需要利用中心孔做定位的制程奠定良好基础。

图I本实用新型结构示意图。
具体实施方式
现结合附图，详述本实用新型具体实施方式
如图I所示，ー种用于轴类中心孔深度控制的比对量具，其特征在于包括壳体I、球头导柱2、定位块3、測量装置4 ;其中所述的壳体I上设有导槽11和测量槽12 ;所述的导槽11与测量槽12相连通；[0014]所述的球头导柱2的一端设有球形体21 ;所述的球头导柱2设于导槽11内，球形体21 —端朝下；所述的球头导柱2相对于壳体I可上下滑动；所述的定位块3连接于壳体I的末端；所述的测量装置4连接于测量槽12内。所述的壳体I的导槽11上设有导套5 ;所述的球头导柱2连接于导套5上。[0016]所述的测量装置4可以是百分表，也可以是千分表。使用该量具的前提，先选定ー个已加工出合格中心孔孔深的エ件，作为孔深标准件。量测前，采用孔深标准件将测量装置4归零，然后即可开始量測。将测量装置4连接于壳体I上，然后将壳体I放置于所测エ件端面，使定位块3与エ件端面贴合，球头导柱2在导套5内向下滑动直至球形体21与中心孔6接触，此时便可根据测量装置4刻度位置判断该中心孔6深度与孔深标准件的深度误差，如果超出管控范围，则马上进行修正。
权利要求1.ー种用于轴类中心孔深度控制的比对量具，其特征在干包括壳体(I)、球头导柱⑵、定位块⑶、測量装置⑷；其中所述的壳体⑴上设有导槽(11)和测量槽(12);所述的导槽(11)与测量槽(12)相连通； 所述的球头导柱⑵的一端设有球形体(21);所述的球头导柱⑵设于导槽(11)内，球形体(21) —端朝下；所述的球头导柱(2)相对于壳体(I)可上下滑动；所述的定位块(3)连接于壳体⑴的末端；所述的测量装置⑷连接于测量槽(12)内。
2.根据权利要求I所述的ー种用于轴类中心孔深度控制的比对量具，其特征在于所述的壳体⑴的导槽(11)上设有导套(5);所述的球头导柱⑵连接于导套(5)上。
3.根据权利要求I所述的ー种用于轴类中心孔深度控制的比对量具，其特征在于所述的测量装置(4)可以是百分表，也可以是千分表。
专利摘要本实用新型公开了一种用于轴类中心孔深度控制的比对量具，包括壳体、球头导柱、定位块、测量装置；所述的壳体上设有导槽和测量槽；所述的导槽与测量槽相连通；所述的球头导柱的一端设有球形体；所述的球头导柱设于导槽内，球形体一端朝下；所述的球头导柱相对于壳体可上下滑动；所述的定位块连接于壳体的末端；所述的测量装置连接于测量槽内。本实用新型在加工过程中取用方便灵活，快捷，缩短量测工时，又能保证中心孔深度的一致性；可根据不同精度要求选择配用百分表或者千分表，广泛适用于中心孔深度的比对量测；为后续需要利用中心孔做定位的制程奠定良好基础。
文档编号G01B5/18GK202403651SQ20112057144
公开日2012年8月29日 申请日期2011年12月30日 优先权日2011年12月30日
发明者张群, 骆峰 申请人:大永精机(福州)有限公司