专利名称：玻璃基板表面积光量的检测装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种玻璃基板表面积光量的检测装置。
背景技术：
在显示设备制造过程中，玻璃基板在进行制程工艺之前都必须经过紫外线清洗机进行清洗，紫外线清洗机通过紫外线灯管的网状电极施加高压交流电，在内部合成石英玻璃(电离层)之间形成等离子状态，形成电离后放电气体氙原子被激发时瞬间转换为激态准分子状态，激态准分子状态转换为原来状态时发出172纳米的真空紫外线；制程气体(主要成分:氮气和氧气)中的氧气吸收受激紫外线灯发射的172纳米的紫外线生成氧自由基和臭氧，172纳米的紫外线同时破坏玻璃基板上有机(碳氢化合物)的分子结构，氧自由基与分解后的有机物结合，生成水、二氧化碳、一氧化碳等挥发性气体，从而达到去除有机物清洗基板的目的。紫外线清洗机对于基板表面上的有机薄膜具有清洗作用，但如果照射条件高于基板表面有机薄膜可承受的程度，那紫外线清洗机将会对基板表面有机薄膜造成损坏。因此需要对紫外线清洗机照射强度进行监控。目前在显示设备制造领域，例如TFT (薄膜场效应晶体管)IXD、LTPS (低温多晶硅)、OLED (有机发光二极管)生产线上，应用于生产线上的紫外线清洗机照射时，涉及(玻璃)基板表面积光量的检测。一般情况下由于紫外线清洗机与玻璃基板表面距离很近，普通照度计无法放置，所以只能进行灯管表面照度检测而不能进行基板表面积光量的检测。这样检测的数据不是很准确，无法判断出基板实际接收到的有效照射量。另外由于172纳米紫外线具有腐蚀性，当照度如果过高时，将会造成基板表面有机膜的损坏。当照度过低时，又会造成基板清洁不够干净，导致后续工艺出现异物不良。照度高低直接影响到整个工序的良品率。

实用新型内容本实用新型的目的是提供一种玻璃基板表面积光量的检测装置，能够准确检测紫外线灯管的照射强度。一种玻璃基板表面积光量的检测装置，其特别之处在于:包括传送机构，在该传送机构上设有一铝板，在该铝板中间开有一通孔，在该通孔内安装有紫外线传感器。其中传送机构为滚轴传送机或滚轮传送机。其中紫外线传感器的探头与铝板上表面平齐。采用本实用新型的检测装置后，检测到的数据很准确，能确切的判断出基板实际接收到的有效照射量，从而可以通过有效地进行监控、调整来提高玻璃基板良品率。

附图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图1所不,一种玻璃基板表面积光量的检测装置,包括传送机构6,传送机构6可以采用滚轴或滚轮传送机，在该传送机构6上设有一铝板5，在该铝板5中间开有一通孔，在该通孔内安装有紫外线传感器4，紫外线传感器4的探头与铝板5上表面(按图1中方向)平齐，当然也可以略低。本实用新型的使用方法及工作原理如下:如图1所示，紫外线清洗机I安装在上部，紫外线清洗机I下部安装紫外线灯管2。紫外线传感器4连接在铝板5上，其探头顶部与铝板5上表面水平，而紫外线传感器4的其它部分则置于铝板5下。使用时玻璃基板3放置于铝板5之上，紫外线灯管2距离玻璃基板3为2.5
3.5_。铝板5放置在滚轴或滚轮传送机上，紫外线传感器4放置于相邻2个滚轴或滚轮间隙之内，滚轴或滚轮之间的间距为100mm。滚轴或滚轮运动带动铝板5和玻璃基板3运动，通过紫外线清洗机1，同时紫外线传感器4的探头记录紫外线灯管2照射强度。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型之精神的范围内，可作一些更动与改进，因此本实用新型之保护范围当以权利要求为准。
权利要求1.一种玻璃基板表面积光量的检测装置,其特征在于:包括传送机构(6),在该传送机构(6)上设有一铝板(5)，在该铝板(5)中间开有一通孔，在该通孔内安装有紫外线传感器⑷。
2.如权利要求1所述的玻璃基板表面积光量的检测装置，其特征在于:其中传送机构(6)为滚轴传送机或滚轮传送机。
3.如权利要求1或2所述的玻璃基板表面积光量的检测装置，其特征在于:其中紫外线传感器(4)的探头与铝板(5)上表面平齐。
专利摘要本实用新型涉及一种玻璃基板表面积光量的检测装置，其特点是包括传送机构(6)，在该传送机构(6)上设有一铝板(5)，在该铝板(5)中间开有一通孔，在该通孔内安装有紫外线传感器(4)。采用本实用新型的检测装置后，检测到的数据很准确，能确切的判断出基板实际接收到的有效照射量，从而可以通过有效地进行监控、调整来提高玻璃基板良品率。
文档编号G01J1/00GK203037348SQ20122066062
公开日2013年7月3日 申请日期2012年12月4日 优先权日2012年12月4日
发明者史祥 申请人:彩虹(佛山)平板显示有限公司