专利名称：卤素制冷剂检测敏感元件的制作方法
技术领域：
本实用新型属于金属氧化物半导体气敏元件技术领域，具体涉及一种卤素制冷剂 检测敏感元件。
背景技术：
制冷剂是压缩式制冷机中的工作介质。在制冷系统中循环流动，通过低温下汽化 吸热，再在高温下凝结放热达到制冷效果。自20世纪30年代问世以来，氟利昂制冷剂一 直被作为最好的制冷剂，用于冷冻机、汽车和家用空调器、电冰箱等行业。然而，20世纪70 年代科学家发现这些含有氯元素的制冷剂一旦泄漏到大气中，将逐渐积累，并上升到平流 层，破坏那里的臭氧层，使太阳光射到地面的紫外线增多，损害人体的免疫能力，使人类的 皮肤癌发病率增高，并对各种生物造成危害。这一严峻问题引起世界各国的关注，氢代(如 R600aCH3CH(CH3) CH3)和全氟取代的新型卤素制冷剂(如R134a CH2FCF3)逐渐成为制冷剂市 场的新宠。因此现有的制冷剂传感器已不能满足市场的需要。申请号200810195806. 5的 专利申请涉及到卤素制冷剂检测敏感材料的制备方法，但其工艺具有一定局限性。
发明内容本实用新型的目的在于提供一种卤素制冷剂检测敏感元件。本实用新型的目的是以如下技术方案实现的一种卤素制冷剂检测敏感元件，其 特征在于由厚膜元件，涂敷在厚膜元件表面的SnA纳米材料和涂敷在SnA纳米材料上的增 敏材料层层组成。本实用新型的有益效果是用本实用新型制得的气敏元件对卤素制冷剂具有响应 速度快，灵敏度高，稳定性好等优点。
以下结合附图
和实施例对本实用新型进一步说明。附图是本实用新型结构示意图。图中1、厚膜元件，2、SnA纳米材料，3、增敏材料层。
具体实施方式
如附图所示，卤素制冷剂检测敏感元件由厚膜元件1，涂敷在厚膜元件1表面的 SnO2纳米材料2和涂敷在SnA纳米材料2上的增敏材料层3层组成。SnO2纳米材料是将SnA纳米材料水溶液均勻涂敷在厚膜元件表面；经过退火处理 制得。所述的增敏材料层( 层是将增敏材料涂敷在SnO2纳米材料( 上退火处理制得。
权利要求1. 一种卤素制冷剂检测敏感元件，其特征在于由厚膜元件(1)，涂敷在厚膜元件(1)表 面的SnA纳米材料( 和涂敷在SnA纳米材料( 上的增敏材料层( 层组成。
专利摘要本实用新型涉及一种卤素制冷剂检测敏感元件。属气敏元件。由厚膜元件，涂敷在厚膜元件表面的SnO2纳米材料和涂敷在SnO2纳米材料上的增敏材料层层组成。本实用新型的有益效果是制得的敏感元件在卤素制冷剂检测中具有灵敏度高，稳定性好、响应恢复时间短的优点。
文档编号G01N27/00GK201852806SQ201020179790
公开日2011年6月1日 申请日期2010年4月24日 优先权日2010年4月24日
发明者张少刚, 汪家胜, 郝宏雷 申请人:徐州市精英电器技术有限公司