专利名称：用于分析基底的表面的装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于分析基底的镜面表面或透明表面的装置，从而特别地可以检测处于所述基底的表面上或者其体积体内的光学缺陷。
背景技术：
一般地，在工业中希望对所制造产品的质量实现越来越强的控制。特别地，目前需要不变地评价光滑面板的光学质量水平。特别地，会期望选择离开生产线的平板玻璃以便于将其用于特定的应用，举例来说，例如设计用于科学应用的反光镜、设计用于建筑工业的层叠(层压)光滑面板、例如为特别地设计用于高度倾斜的挡风玻璃的汽车的光滑面板，或者设计用于显示屏幕的平板薄玻璃。一般地，现代的机动车辆挡风玻璃针对它们的光学质量被特别地监测。这一标准特别地用于机动车辆驾驶安全性的问题。因此挡风玻璃的形状、它们的倾斜角和制造材料——非常薄的玻璃或甚至是透明的聚合体——需要对光学质量非常仔细的检查，其通常必须是100%检查。汽车的层叠光滑面板需要两个玻璃片，其具有与韧化的或回火的单片光滑面板相比较而言小的厚度。这种薄的玻璃片的生产是复杂的并且可能产生表面上或体积体内的光学缺陷。这些缺陷在形成层叠光滑面板的装配之后可能变得非常麻烦，因为它们引起光学畸变效应，所述光学畸变效应由于结合到其上的第二个玻璃片而被加重。这种光学缺陷的存在通常导致光滑面板报废，因为它们不合格。因为光滑面板已经被层叠，因此难以重复利用它们并且它们的生产成本变得过高。因此还希望的是，在生产线上并且特别是在组装层叠光滑面板之前尽可能迅速地检测这种缺陷。光学缺陷通常是二维缺陷，其可能是例如基底平坦度缺陷，或是例如由于玻璃的成分而引起的基底体积体内的缺陷，这些缺陷使得穿过基底的光偏斜。还发现有沿着单个方向的缺陷，例如为对应于浮法生产线上的成形过程的标记的浮式波，这些缺陷会更严重或者依据成形过程的质量在尺寸上更大/更小。通常被用于检测和评价缺陷的技术在于，例如通过组装层叠光滑面板之后且远离生产线的目测，利用标准化法观察透射或反射中的层叠光滑面板。如以上所解释的那样，这种检查较慢并且特别地提高了生产成本。此外，镜面表面和透明表面检查技术可以在市场上获得，其使得可以通过光滑面板在反射中或透射中的测量检测表面缺陷，所述光滑面板反射参考图案的变形图案。美国专利US 6 509 967描述了一种基于分析在透射中观察的二维参考图案的变形而检测光学缺陷的方法。在有缺陷的情况下，参考图案的图像是扭曲的，所述图像的许多点的变形被测量以便通过校准从其中推导出沿着两个方向的光强度，所述光强度的值表示所述缺陷存在或不存在以及其大小。所述文献坚持认为需要参考图案关于负责透射中图像获取的摄像机的研究的关联。参考图案的每一条线都必须对应于摄像机的像素的线的整数。然而，这件美国专利的方法需要参考图案的特征(其尺寸、其形状以及其位置)已知或适应性改变，以便确保参考图案的图样合适地与摄像机的像素对齐。在工业环境(参考图案的较差的规则性、随天气引起的温度变化而产生的参考图案的扩大、地板振动等等) 中这样的对齐受到制约并且不太可行。专利US 6 208 412提供了另一种测量方法，其中在透射中观察一维参考图案。以上所述文献的测量装置使用产生参考图案的投影机，还有通过待分析的光滑面板显示参考图案的摄像机，其中所述参考图案在始终显著大于被测量的光滑面板的尺寸(典型地为 2X3m)的大屏幕上形成一维周期性图案，其是固定的或可以在时间上变化。尽管在实验室中或在用于通过取样进行质量控制的生产线的边缘，在后一篇文献中描述的装置可能是符合要求的，但它无法用于线上检查，所述线上检查必须是彻底的并且在光滑面板不能被随时停止的情况下执行。由于缺乏空间，在工业生产线上投影机和大屏幕的结合也不太可行或不太理想。 此外，由投影机产生的图像一般都不会非常明亮。因此重要的是，通过大面积地将屏幕覆盖并且甚至将地板涂成黑色来为屏幕遮挡干扰的环境光。此外，为了测量在空间中两个方向上的缺陷，由于参考图案是一维的，因此测量装置需要获取参考图案沿给定方向定向的第一图像、然后获取参考图案沿竖直(vertical) 方向定向的第二图像、需要要求光滑面板在所述获取的过程中停止、需要在例如用于机动车辆的工业生产线上无法设想到的某些东西，其光滑面板输送系统预防临时停止。最后，所描述的是一种公知的相移方法，其利用使光滑面板停止连续地投影出多个、典型地是四个在空间中偏移的参考图案，并且针对每一个参考图案位置获取图像，这些操作被重复第二次以用于另一个测量方向。因此这一系列的获取过程非常费时并且还延长了光滑面板停止所经历的时间。因此，在所述专利US 6 208 412中描述的装置及其测量过程需要过长的测量过程时间，考虑到运用于工业生产线上以用于作出保留或剔除一个光滑面板的非常短的时间，所述测量过程时间过长。

发明内容
由此本申请的申请人的任务是设计一种用于分析镜面基底或透明基底的光学质量的装置，其不具有以上所述技术的缺陷，可以以容易的、精确的和重复的方式并且特别地通过降低生产线上光滑面板一致性检查的成本检测所述基底在透射中或在反射中的缺陷， 同时仍然满足用于彻底地(没有遗漏地)检查光滑面板的工业生产线上实施方案的所有约束条件。所述创新的装置此外必须可以运用使得分析时间被优化的测量方法。根据本发明，用于分析基底的透明表面或镜面表面的装置包括面对待测量的基底的所述表面并且置于具有短尺度(extent)和长尺度的两个尺寸的支撑件上的参考图案、 用于捕捉由测量的基底扭曲的参考图案的至少一个图像的摄像机、与所述摄像机连接的参考图案照明系统和图像处理/数字分析装置，并且其特征在于，所述支撑件具有长形形状， 并且所述参考图案是双向的，包括沿着第一方向和沿着所述支撑件的较短尺度布置的第一图案以及沿着垂直于所述第一图案的第二方向且沿着所述支撑件的较长尺度布置的第二图案，其中所述第一图案横向于所述短尺度呈周期性，并且所述摄像机是矩阵摄像机。将回想起矩阵摄像机由形成像素矩阵的传感器组成。通过利用矩阵摄像机而伴随的参考图案的支撑件的长形形状使得可以高度有利地减小由参考图案占据的区域并且因此限制装置在生产线上所必需的空间。此外，具有沿两个不同方向延伸的两个图案的参考图案的使用允许直接测量在空间中沿着两个方向在基底中定向的缺陷。参考图案的图案大小和参考图案的位置、玻璃和摄像机当然适合于各种类型的测量，其可以只是对测量为an乘an(或更大)的光滑面板或太阳能反射镜的检查，也可以是对在尺寸上不超过5cm乘5cm的玻璃样本的检查。根据一个特征，所述第一图案和所述第二图案彼此不同、彼此紧邻并且彼此不相 、-父。根据另一个特征，所述第一图案由浅色线和深色线的交替序列组成。根据另一个特征，所述第二图案由浅色长形线和深色长形线的序列形成，其较长的尺寸沿着所述支撑件的长尺度布置。根据另一个特征，所述第二图案由单个长形的线形成，其较长尺寸沿着所述支撑件的长尺度布置，所述线具有相对所述参考图案的背景的对比色。在单个线的情况下可以具有一毫米或者在几个线的序列的情况下可以具有几毫米的第二图案意味着参考图案因此的最小化。形成各个图案的元件(例如为线)的宽度实际上根据测量条件和缺陷的大小而适应。优选地，所述第一图案和/或所述第二图案包括至少一个线，所述至少一个线沿着其短尺度具有大约Imm到Icm的宽度。为了测量太阳能反射镜上的反射，图案的线例如具有大约Icm的宽度，而为了测量光滑面板上的透射，线具有大约一毫米的宽度。此外，如果用于参考图案的支撑件包括由照明系统在背部照亮的面板，那么用于参考图案的支撑面板可以不超过15cm宽，因此与现有的装置相比较，显著地减小了用于安装本发明的装置的尺寸。作为背部照亮的面板，所述面板在其朝向待测量的基底的面上是半透明和漫射的。例如，其为白色塑料板。有利地，并且特别地在背部发光的情况下，照明系统由多个发光二极管形成。为了实施在透射中的测量，所述基底位于所述参考图案和所述摄像机之间，而所述基底被设置为面对所述参考图案和所述摄像机以用于在反射中测量，所述摄像机与所述参考图案处于相同的平面中。与其整体都待测量的基底相比较而言参考图案的小的尺寸意味着参考图案或基底可以在测量过程中运动。由此，与用于在例如为光滑面板的大的产品上测量的现有技术相比较，参考图案不需要沿两个方向如光滑面板一样宽大或甚至是更大。根据本发明，提供与矩阵摄像机结合的长形的参考图案就足够了，其长尺度至多对应于待测量的物体的高度，其短尺度与物体的另一个尺寸相比较而言是极小的。为了满足使缺陷沿两个方向(竖直和水平)同时被分析，装置使用背部照亮的双图案参考图案和矩阵摄像机，其中一个参考图案包括单个竖直线或非常少的竖直线，另一个参考图案包括一系列非常短(典型地为5cm)的均勻间隔的水平线，并且矩阵摄像机中只有与两个参考图案中的每一个相关的像素列将在获取图像之后被取样。这些技术既运用到透射的测量上又运用到反射的测量上。本发明还涉及一种利用本发明的装置的分析基底的透明表面或镜面表面的方法， 所述基底或所述参考图案沿着单个移动方向一个相对于另一个运动，其特征在于，所述方法包括-利用矩阵摄像机在透射中或在反射中捕捉被照明的参考图案的多个图像；-以周期性的方式一方面空间地提取与周期性第一图案相关的像素列，另一方面空间地提取与第二图案相关的多个像素列；-在存储器中叠加每一个图案的所述像素列以便重建整个基底的图像；-通过数字处理分析重建的图像以便从其中推导出缺陷的位置并且将它们量化。所提出的方法的原理不再包括通过静止的基底获取投影到大屏幕上的多线参考图案的单个图像，而是包括获取穿过平移中的基底看到的、或从所述基底反射的非常窄的参考图案的一系列多个图像，以及将这些部分图像组合以便重建穿过基底看到或由基底反射的参考图案的完全的图像。然后以已知的方式执行图像的数字处理。这例如包括提取图像的局部相位和从其中推导出相位变化，其使得不仅可以推导出缺陷的位置而且由于校准或变形系数因此可以将它们量化，借此变形的大小或表示缺陷的光强度可以被提供。应该注意的是，可以利用傅里叶变换方法或轮廓线搜索(contour search)方法， 或者以新颖的方式利用小波变换方法来以多种方式执行数字相位提取过程。在没有改变工业生产线的情况下，由于较低的成本，因此根据本发明的方法在工业生产线上给出了令人满意的成果，并且允许比现有技术迅速得多的检查。本发明的装置和实施方案的方法可以应用于例如为单片或层叠的、平坦或弯曲的透明基底，用于各种(建筑学的、汽车的、航空的、铁路的)用途或例如为反光镜或显示屏幕的任意尺寸的光滑面板。特别地，所述装置和方法在透射中可以应用到机动车辆挡风玻璃、 侧窗和加热的后窗，应用到设计用于建筑学应用的平坦光滑面板，或者应用到设计用于电子应用(血浆或IXD显示等等)的特殊光滑面板，以及应用到任何其它透明基底。所述装置在反射中可以用于检验平面玻璃的光学质量、例如在玻璃离开浮抛槽时实时检验，或者用于例如在其离开回火炉时检验弯曲玻璃的光学质量，检验太阳能反射镜的光学质量，等等。


现在将借助于示例并且基于所附附图描述本发明，所述示例仅仅是说明性的，而不以任何方式限制本发明的范围，其中-图1示出了用于在透射中测量的根据本发明的分析装置的示意性剖视图；-图2示出了用于在反射中测量的根据本发明的分析装置的示意性剖视图；-图3示出了根据本发明的参考图案的一个示例；-图4示出了通过摄像机记录的参考图案的图像。
具体实施例方式附图没有按比例描绘以便更容易研究。在图1和2中示出的装置1允许分别在透射中和在反射中分析透明基底2、例如为光滑面板的缺陷。所述装置包括参考图案10、例如为矩阵摄像机的图像捕捉装置3、参考图案照明系统4和适当的处理/计算装置5。参考图案10形成于支撑面板11面对待测量基底的一个面上。后面将更完整地对其进行描述。在透射中(图1)，透明基底2被置于参考图案10和摄像机3之间，摄像机的物镜指向基底。在反射中(图幻，具有镜面表面的基底2置于参考图案10和摄像机3的前部中， 摄像机的物镜处于与参考图案的平面相同的平面中并且指向基底的表面。如果必须施加一个观测角以使其处于待测量的产品最后将被使用的条件下，所述产品例如是用作车辆挡风玻璃的倾斜光滑面板，那么摄像机相对基底的移动平面的夹角对应于参考图案相对于光滑面板的这一移动平面的被施加的夹角。当支撑面板11半透明、例如为白色塑料板时，照明系统4可以是背面照明系统。优选地，照明系统4于是包括多个定位在半透明支撑面板后部的发光二极管。作为一种变化形式，当支撑面板11不透明时，照明系统4由置于参考图案前面的光形成，其例如为被定向为便于对承载参考图案的支撑面板的正面进行照明的光点(未示出)。摄像机3是矩阵摄像机其通过数字处理产生图像框架，所述图像框架被连结以形成基底的总体图像。由于参考图案比基底小，因此如将在后面看到的那样，基底2或参考图案10能够一个相对于另一个平移地移动，以便确保整个基底上图像获取的必需数量。摄像机对于每一次图像获取被触发的频率从属于移动的速度。摄像机定位在适当的距离d处以便显示基底的整个区域，其横向于基底或参考图案的移动方向。由此，如果移动处于水平面中，那么摄像机被定位为便于对基底的整个竖直尺度摄影。摄像机3可以相对竖直呈一定角度以适应于基底将最后使用的条件，例如如果基底然后用作车辆挡风玻璃并且因此相对驾驶员/观察者的竖直平面倾斜。如图3所示，参考图案10置于长方形的支撑件11上。其是双向的并且包括置于紧邻彼此而没有重叠的位置处的第一图案IOa和第二图案10b。根据本发明的参考图案与待测量的基底相比较小。例如，对于测量具有1. 5m乘 1. 5m的尺寸的光滑面板，参考图案对于光滑面板的零度倾斜角延伸15cm乘1. Sm。对于在光滑面板的45°倾斜角处(在挡风玻璃的行驶位置)的测量，高度将是1. :3m。参考图案的第一图案IOa沿着第一方向并且沿着支撑件的较短尺度布置，横向于短尺度周期性地设置、即沿着支撑件的长尺度周期性地设置。第二图案IOb沿着第二方向、 与第一图案垂直并且沿着参考图案的较长尺度布置。参考图案具有紧邻彼此而不重叠并且彼此垂直的两个分离的图案的这一事实使得缺陷的位置可以被确切地诊断并且以微小的细节来量化。图案的这一分离使得特别地可以具有宽度非常窄的图案，例如在宽度上为2mm的深色竖直线。
第一图案IOa由浅色和深色线的交替序列组成。第二图案IOb优选地由有限个有对比的线形成，它们交替但是一起保留小的宽度。由此，第二图案例如由大约十个深色线与大约十个浅色线交替形成。深色线和浅色线在参考图案的整个高度上具有例如在Imm和2mm之间的宽度。作为一个变化形式，第二图案可以在参考图案的高度上包括例如宽度为Imm的单个长形的线，所述线相对于参考图案的背景形成对比(反差)。处理/计算装置5与摄像机连接以便执行连续的图像获取之后的数学处理和分析。图4示出了由摄像机记录的图像，参考图案的图像由于缺陷沿两个方向的存在而被扭曲。装置、基底或参考图案沿着单个移动方向一个相对于另一个运动的实施方案包括-利用具有多个像素30的矩阵摄像机3，在透射中或在反射中捕捉被照明的参考图案的多个图像；-以周期性的方式一方面空间地提取与周期性第一图案相关的像素列31，另一方面空间地提取与第二图案相关的多个像素列32 ；-在存储器中叠加每一个图案的所述像素列以便重建整个基底的图像；-通过数字处理分析重建图像以便从其中推导出缺陷的位置并且确定它们的大小。在基底在参考图案的前面水平移动过程中获取一系列例如形成垂直的第二图案的η个图像，使得可以通过图像的简单连结而重建单个图像，所述单个图像相当于可通过对置于基底后面的η个线组成的参考图案的图像仅仅观察一次而获得的图像。本申请人已经证明了，因为其有限的尺寸，因此所述类型的参考图案特别有利。参考图案是在空间中呈周期性的信号。数学分析在于，在摄像机的像素处以已知的方式通过其局部相位模(local phase modulo) 2 π表征所述信号，并且称为相位图的在透射中或在反射中看到的每一个图像的相位(对应于所有像素)的一维映射图表由此被限定。相位映射图表模2 π的这一提取可以利用各种方法获得。—个公知的方法是傅里叶变换方法，其在文献中被广泛描述。因此其可以划分成-获取通过抽样扭曲的参考图案的图像；-一个像素列一个像素列地(一维变换)计算图像的傅里叶变换；-自动搜索参考图案的基频&的特征峰；-利用高斯带通滤波器或其它这样的滤波器进行这一基频&的带通滤波。所述滤波的效果是移除参考图案的图像的连续背景和参考图案的信号的谐波；-使&滤波的波谱偏移，以便使图像参考图案的特征峰频率为0。所述偏移使得参考图案的网格线消失，仅仅留下参考图案的变形；-一个像素列一个像素列地计算图像的傅里叶逆变换。所获得的图像仅仅显示变形。所述图像是一个复杂的图像，其包括实部R和虚部I;-在像素模2π处计算图像的局部相。所述相位通过一个像素一个像素地计算arctan(I/R)的值被获得。此外，本申请人已经证明了另一种局部相位的计算方法、即“小波变换”计算法的有利用途。以已知的方式用于其它应用中的信号处理的所述类型的计算经证明在本发明的应用中特别有利。这是因为，不同于傅里叶变换方法，小波变换方法使得信号的位置和频率可以同时被分析，所述傅里叶变换方法不是用于对包含在参考图案的图像中的频率进行局部分析的方法。这在图像的边缘处(在基底的边缘处)实现更少的干扰并且实现对小缺陷更好的检测，所述小缺陷通常在利用傅里叶变换方法执行滤波相位过程中“被压碎”。小波变换技术包括多个步骤-获取通过基底扭曲的参考图案的图像；-从图像并且对尺度参数a和平移参数b的各个值一个像素列一个像素列地(一维变换)计算小波系数W(a，b)。根据参考图案的间距和所需分辨率，这些值被审慎地选定。 所获得的是小波尺度图；-对于每一个b值，检索使模|W(a，b)I取最大值的尺度彻；-计算在一个像素处给出所需局部相模2π的W(aQ. b)的幅角；-积分或打开相位映射图表模2π以便于获得绝对相位映射图表。一旦计算图像的相位模2 π的步骤已经通过其中一个方法对每一个像素执行，也被称作梯度映射图表的相位导数映射图表就从其中被容易地推导出。图像的相位梯度的这一计算通过像素到像素的相位的简单的差而获得，2 π相位突变被容易地消除。在完全重建的图像的相位映射图表已经从摄像机捕捉的一系列图像推导出之后， 然后通过利用标准柱面透镜(在透射中)或标准柱面反射镜(在反射中)或者利用使光强度Pi能够从这一相位的导数计算的光学计算模型，可以使相位在图像的每一个点处的导数与导致这些局部相位变化的光滑面板的缺陷的光强度Pi联接。通过确定光强度并且与阈值相比较，可以量化缺陷。作为一种变化形式，相位导数相反将能够比得上局部校准宽度，所述局部校准宽度将提供也表示缺陷大小的变形宽度。通过量化缺陷，由此可以在直接使用于生产线上的实际情况下建立光滑面板的光
学质量。因而，根据本发明的用于分析基底的方法包括-利用矩阵摄像机在透射中或在反射中捕捉所述基底上缩窄的双图案参考图案的一系列图像，而不像现有技术中那样需要参考图案相对于摄像机的研究的关联或者需要使用投影机和大屏幕；-从所述矩阵图像提取与双图案参考图案相关的几个像素列(例如对于水平参考图案为一个并且对于竖直参考图案为五个)；-在用于处理这些像素列的处理部件的两个分离的存储器(一个专用于水平参考图案而另一个专用于竖直参考图案)中进行叠加，以便在光滑面板已经在参考图案的前面完全运动(或反之)之后，重建通过光滑面板看到的每一个参考图案的完全的图像；-通过数字处理提取局部相位、计算这些相位的导数和通过数学计算推导出缺陷的存在(优选地利用光强度计算及其与阈值的比较)。最后，所提出的测量装置允许对处于工业生产线上的光滑面板进行彻底的检查，而不对它们抽样、不使光滑面板停止或减速、不改变它们在传送系统上的位置并且不使用投影两个参考图案的系统。与参考图案的尺寸相比较，所述装置使用小的面积，其远远小于现有的装置；典型地，用于本发明的参考图案的支撑面板为1.8m高度乘15cm宽度。此外， 本发明使得可以限制缺陷的双向分析的获取数量。
权利要求
1.用于分析基底O)的透明表面或镜面表面的装置(1)，所述装置(1)包括面对待测量的基底的所述表面并且置于具有短尺度和长尺度的支撑件(11)上的参考图案(10)、用于捕捉由测量的基底扭曲的参考图案的至少一个图像的摄像机(3)、与所述摄像机(3)连接的参考图案照明系统(4)和图像处理/数字分析装置(5)，其特征在于，所述支撑件(11) 具有长形形状，并且所述参考图案是双向的，包括沿着第一方向且沿着所述支撑件的较短尺度布置的第一图案(IOa)以及沿着垂直于所述第一图案的第二方向且沿着所述支撑件的较长尺度布置的第二图案(10b)，其中所述第一图案横向于所述短尺度呈周期性，并且所述摄像机是矩阵摄像机。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一图案和所述第二图案彼此不同、 彼此紧邻并且彼此不相交。
3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述第二图案由浅色长形线和深色长形线的序列形成，所述浅色长形线和所述深色长形线的较长尺寸沿着所述支撑件的长尺度布置。
4.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述第二图案由单个长形的线形成， 所述单个长形的线的较长尺寸沿着所述支撑件的长尺度布置，所述线具有相对所述参考图案的背景的对比色。
5.根据前述权利要求中的一项所述的装置，其特征在于，所述第一图案和/或所述第二图案包括至少一个线，所述至少一个线沿着其短尺度具有大约Imm到Icm的宽度。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其特征在于，所述第一图案由浅色线和深色线的交替序列组成。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其特征在于，用于所述参考图案的所述支撑件(11)包括由所述照明系统(4)在背部照亮的面板。
8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述支撑件在其朝向待测量的光滑面板的面上是半透明和漫射的，所述支撑件例如为白色塑料板。
9.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其特征在于，所述照明系统由多个发光二极管形成。
10.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其特征在于，所述基底( 位于所述参考图案(10)和所述摄像机C3)之间以用于在透射中测量，而所述基底( 被设置为面对所述参考图案(10)和所述摄像机C3)以用于在反射中测量，所述摄像机与所述参考图案处于相同的平面中。
11.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其特征在于，所述参考图案(10)或所述基底( 能够在测量过程中运动。
12.利用根据前述权利要求中的任一项所述的装置并且使得所述基底( 或所述参考图案(10)沿着单个移动方向一个相对于另一个运动的分析基底O)的透明表面或镜面表面的方法，其特征在于，所述方法包括-利用矩阵摄像机C3)在透射中或在反射中捕捉被照明的参考图案(10)的多个图像；-借助于所述摄像机以周期性的方式一方面空间地提取与周期性第一图案相关的像素列，另一方面空间地提取与第二图案相关的多个像素列；-在存储器中叠加每一个图案的所述像素列以便重建整个基底的图像；-通过数字处理分析重建的图像以便从其中推导出缺陷的位置并且将它们量化。
全文摘要
本发明涉及一种用于分析基底(2)的透明表面或镜面表面的装置(1)，其包括面对待测量的基底的表面的参考图案(10)、用于捕捉由测量的基底扭曲的参考图案的至少一个图像的摄像机(3)、与所述摄像机(3)连接的参考图案照明系统(4)和图像处理和数字分析装置(5)。根据本发明，摄像机(3)是矩阵摄像机，参考图案(10)置于具有长方形形状的支撑件(11)上并且是双向的，包括沿着第一方向和沿着所述基底的最小尺度布置的第一图案(10a)以及沿着垂直于所述第一图案的第二方向且沿着所述支撑件的最大尺度布置的第二图案(10b)，其中所述第一图案横向于所述最小尺寸呈周期性。
文档编号G01N21/958GK102171554SQ200980139156
公开日2011年8月31日 申请日期2009年9月29日 优先权日2008年10月1日
发明者F·达韦纳, M·皮雄 申请人:法国圣-戈班玻璃公司