专利名称：一种反应釜测漏装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及反应釜领域，尤其涉及一种高效的反应釜测漏装置。
背景技术：
羰基镍羰化合成反应是在高压下进行，其所用设备为固定式羰化合成反应釜。在 固定式羰化合成反应釜装原料前，需要对放残渣的下口进行测漏，检查合成反应釜下盖是 否漏气，以保证合成反应釜的工作要求。现有的测漏方法是将高压气体打入整个羰化合成 釜中，然后对其进行测漏。这样的测漏方法，需要大量的气体持续打入整个釜体内部，导致 气量消耗大、测漏时间较长，降低了羰化合成釜的工作效率，影响生产。
发明内容有鉴于此，本发明的目的是提供一种高效的反应釜测漏装置。上述目的是通过下述方案实现的一种反应釜测漏装置，其特征在于，所述装置包括过渡法兰，该过渡法兰上方和下方均设有法兰；密封盖，该密封盖为上端封闭的圆管，其安装在所述过渡法兰内部的下方，其底部 与所述过渡法兰的底部齐平，并且所述密封盖与所述过渡法兰的直径匹配；法兰盖，该法兰盖与所述过渡法兰密封连接，在所述法兰盖上开有进气孔，并且该 法兰盖与所述密封盖之间形成密封腔。根据上述装置，其特征在于，所述过渡法兰与所述反应釜的放残渣下口通过螺栓 连接，所述法兰盖与所述过渡法兰通过螺栓连接。根据上述装置，其特征在于，所述密封盖和所述过渡法兰之间设有0形密封圈。根据上述装置，在所述过渡法兰的下方法兰上还设有吊耳。加装本实用新型的测漏装置的合成反应釜解决了测漏时间长、用气量大的问题， 减小了工作周期，保证了羰化合成釜的工作效率。

图1是加装了本实用新型的测漏装置的反应釜的结构示意图。
具体实施方式
参见图1，在反应釜1的下方出口处加装了本实用新型的测漏装置。该测漏装置包 括过渡法兰4，过渡法兰4的上方和下方均设有法兰；密封盖13，其为上端封闭的圆管，密 封盖13安装在过渡法兰4内部的下方，其底部与过渡法兰4的底部齐平，并且密封盖13与 过渡法兰4的直径匹配；法兰盖9，法兰盖9与过渡法兰4密封连接，在法兰盖9上开有进 气孔，并且法兰盖9与密封盖13之间形成密封腔。优选地，过渡法兰4与反应釜1的放残 渣下口通过螺栓2、3连接，法兰盖9与过渡法兰4通过螺栓5、6连接。为了增加密封腔的密封性，可以在密封盖13和过渡法兰4之间设多个0形密封圈11 (嵌在所述密封盖13上 的凹槽内)。此外，为了吊装方便，还可以在在过渡法兰4的下方法兰上设吊耳8。 使用时，将测漏装置加装在现有反应釜的下口。正常使用时候，仅连接过渡法兰4 和法兰盖9。需要进行测漏时，将密封盖13安装在过渡法兰4内，然后安装上法兰盖9，对 密封盖13与法兰盖9之间形成的测漏空腔充气，对反应釜下口进行测漏。以羰化合成釜为 例，经过试验，羰化合成釜下口装设此装置后，对装料后的测漏工作提供了条件，测漏氮气 用气量由IlOOONm13减小到lOOONm13，测漏时间由他减小到lh，从而提高了羰化合成釜的工 作效率。
权利要求1.一种反应釜测漏装置，其特征在于，所述装置包括 过渡法兰，该过渡法兰上方和下方均设有法兰；密封盖，该密封盖为上端封闭的圆管，其安装在所述过渡法兰内部的下方，其底部与所 述过渡法兰的底部齐平，并且所述密封盖与所述过渡法兰的直径匹配；法兰盖，该法兰盖与所述过渡法兰密封连接，在所述法兰盖上开有进气孔，并且该法兰 盖与所述密封盖之间形成密封腔。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述过渡法兰与所述反应釜的放残渣下 口通过螺栓连接，所述法兰盖与所述过渡法兰通过螺栓连接。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述密封盖和所述过渡法兰之间设有0形 密封圈。
4.根据权利要求1所述的装置，在所述过渡法兰的下方法兰上还设有吊耳。
专利摘要本实用新型公开了一种反应釜的测漏装置，其过渡法兰(4)，其上方和下方均设有法兰；密封盖(13)，其为上端封闭的圆管，密封盖(13)安装在过渡法兰(4)内部的下方，其底部与过渡法兰(4)的底部齐平，并且密封盖(13)与过渡法兰(4)的直径匹配；法兰盖(9)，法兰盖(9)与过渡法兰(4)密封连接，在法兰盖(9)上开有进气孔，并且法兰盖(9)与密封盖(13)之间形成密封腔。需要进行测漏时，将密封盖(13)安装在过渡法兰(4)内，然后安装上法兰盖(9)，对密封盖(13)与法兰盖(9)之间形成测漏空腔充气，对反应釜进行测漏。加装本测漏装置的合成反应釜解决了测漏时间长、用气量大的问题。
文档编号G01M3/02GK201892606SQ20102062730
公开日2011年7月6日 申请日期2010年11月23日 优先权日2010年11月23日
发明者李登瑞, 江龙, 禹松涛, 罗世铭 申请人:金川集团有限公司