专利名称：一种检测氮化镓基材料局域光学厚度均匀性的方法
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全文摘要
一种检测GaN基材料局域光学厚度均匀性的方法，该方法采用显微荧光光谱测量，将测得数据进行处理获得振荡干涉谱，再对干涉谱进行干涉峰位线性拟合，进而得到材料的光学厚度，然后用常规的统计方法就可直接得到厚度不均匀性的分布特征。该方法可为材料生长工艺优化研究提供丰富的信息，特别对严重损害器件质量的局域非均匀性检测方面具有明显的意义。
文档编号G01N21/64GK1553169SQ200310109268
公开日2004年12月8日 申请日期2003年12月11日 优先权日2003年12月11日
发明者陆卫, 陈贵宾, 李宁, 王少伟, 陈效双, 李志锋, 周均铭, 陈明法, 陆 卫 申请人:中国科学院上海技术物理研究所, 上海蓝宝光电材料有限公司