专利名称：方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种检测仪，尤其涉及一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪。
背景技术：
随着全球微电子产业的迅速发展，集成电路掩膜版基片、各类方形超高质量表面光学基片在该领域的应用越来越大。在这些超高质量表面要求的方形玻璃基片的生产过程中，需要对这些产品的各类尺寸误差进行全面检测。“方形玻璃基片平面度”质量指标对产品的应用十分重要，直接影响到微电子(集成电路掩膜版)行业大批量产品生产的使用效果O在以往的平面度检验测试中，常使用“激光平面干涉仪”(如中科院光机所制PG15-J4型激光平面干涉仪)测量光圈的方法虽然精度高达O. 2 O. 3 μ m，但对于大规模生产使用不便，影响生产效率，特别是在研磨阶段，毛面不能检测，并且对于大面积大尺寸(边长为4、5、6、7英寸)和超薄型的玻璃基片测量十分困难(光圈变形无法数清)，并无法实行数字化直读。

实用新型内容本实用新型提供一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，旨在解决上述缺陷。为解决上述技术问题，本实用新型提供一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，其包括一个三角形工作台面和一个圆盘，在所述工作台面上分别安置三个圆座，每个圆座上安置一个能够转动的小钢球，所述三个圆座分别设置于靠近所述三角形工作台面的三条边处，在所述三角形工作台面的边缘三角位置，均分别设有一小滚珠轴承固定座，所述圆盘与所述三个小滚珠轴承固定座滚动连接，所述圆盘中央设有一开口，所述开口的四个角上均分别设有安置方形玻璃基片的槽座，在所述工作台面的中心位置下方设有一台千分表。
进一步的，所述三个圆座与其相应的所述三个小滚珠轴承固定座均能够分级调整，所述级为2或3或4。与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果与现有技术相比，本实用新型提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的有益效果是克服了各类规格方形玻璃基片由于玻璃自重而产生的变形影响测量精度的不利因素，使测量精度大大提高(可达O. OOlmm)，特别适用于常用大面积(边长为4、5、6、7英寸)超薄型易变性的方形玻璃玻璃基片，该方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪不仅操作方便，检查直观，而且工作效率极高，十几秒钟即可从千分表中读出数值。
以下结合附图对本实用新型作进一步说明

图1为本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的主视图；图2为图1中K处的放大图；[0012]图3为本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的俯视图。在图1至图3中，1:圆座；2 :小滚珠轴承固定座；3 :工作台面；4 :千分表；5 :方形玻璃基片；6 :圆盘；11 :小钢球；61 :槽座。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。本实用新型的核心思想在于，提供一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，其包括一个三角形工作台面和一个圆盘，在所述工作台面上分别安置三个圆座，每个圆座上安置一个能够转动的小钢球，所述三个圆座分别设置于靠近所述三角形工作台面的三条边处，在所述三角形工作台面的边缘三角位置，均分别设有一小滚珠轴承固定座，所述圆盘与所述三个小滚珠轴承固定座滚动连接,所述圆盘中央设有一开口，所述开口的四个角上均分别设有安置方形玻璃基片的槽座，在所述工作台面的中心位置下方设有一台千分表，与现有技术相比，本实用新型提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的有益效果是克服了各类规格方形玻璃基片由于玻璃自重而产生的变形影响测量精度的不利因素，使测量精度大大提高，特别适用于常用大面积超薄型易变性的方形玻璃玻璃基片，该方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪不仅操作方便，检查直观，而且工作效率极高，十几秒钟即可从千分表中读出数值。请参考图1至图3，图1为本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的主视图；图2为图1中K处的放大图；图3为本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的俯视图。如图1至图3所示，本实用新型实施例提供一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，其包括一个三角形工作台面3和一个圆盘6，在所述工作台面3上分别安置三个圆座1，每个圆座I上安置一个能够转动的小钢球11，所述三个圆座I分别设置于靠近所述三角形工作台面3的三条边处，在所述三角形工作台面3的边缘三角位置，均分别设有一小滚珠轴承固定座2，所述圆盘I与所述三个小滚珠轴承固定座2滚动连接，所述圆盘I中央设有一开口，所述开口的四个角上均分别设有安置方形玻璃基片5的槽座61，在所述工作台面3的中心位置下方设有一台千分表4。进一步的，所述三个圆座I与其相应的所述三个小滚珠轴承固定座2均能够分级调整，所述级为2或3或4。在本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪利用三点决定一个平面的科学原理，在工作台面3上中部分布的的三个固定圆座I上分别安放可转动的金属小钢球11 (使平板玻璃成点接触定位)，并且三个圆座I的相对距离是可以分级调整的，以适应不同直径大小方形玻璃基片5的测量要求，另外，在三角形工作台面3是边缘三角位置，分别均布一小滚珠轴承固定座2，它的用途是起旋转测量的靠山作用，在方形玻璃基片5跟随圆盘6 —起旋转并进行测量时防止其离开测量位置导致测量的精度降低，这三个小滚珠轴承固定座2亦可分级调整，以适应不同大小的方形玻璃基片5的测量要求。
在工作台面3中心位置设有一个开孔，在开孔下方安置了一台千分表4(精度为Iym),利用标准平面样板(平面度等于O. 5 μ m)校准零位后放上被测工件(方形玻璃基片5)，转动工件便可测量它的平面度，千分表4读数直观、方便、实用。测量各类方形玻璃基片5 (4、5、6、7英寸)时，将该方形玻璃基片5先放在圆盘6的开口中的四个槽座61上，使其搁置在三定位小钢球11上，圆盘6边缘有台阶分别靠架在三个小滚珠轴承固定座2上，使该圆盘6能够转动带动方形玻璃基片5 —起转动以进行测量，这种设计使在测量过程中方形玻璃基片5的转动灵活，读数方便，并且不同大小方形玻璃基片5规格(4、5、6、7英寸)测量时能够使用相应大小的圆盘6及操作61来进行基片的保护及旋转工作。本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪大大提高了检验工件(方形玻璃基片5)平面度的精度和工作效率，使方形掩膜版玻璃基片生产行业的规范生产得以顺利进行。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变形而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，其特征在于，包括一个三角形工作台面和一个圆盘，在所述工作台面上分别安置三个圆座，每个圆座上安置一个能够转动的小钢球， 所述三个圆座分别设置于靠近所述三角形工作台面的三条边处，在所述三角形工作台面的边缘三角位置，均设有一小滚珠轴承固定座，所述圆盘与所述三个小滚珠轴承固定座滚动连接，所述圆盘中央设有一开口，所述开口的四个角上均设有安置方形玻璃基片的槽座，在所述工作台面的中心位置下方设有一台千分表。
2.根据权利要求1所述的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，其特征在于，所述三个圆座与相对应的所述三个小滚珠轴承固定座均能够分级调整，所述级为2或3或4。
专利摘要本实用新型提供一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，其包括一个三角形工作台面和一个圆盘，在所述工作台面上分别安置三个圆座，每个圆座上安置一个能够转动的小钢球，所述三个圆座分别设置于靠近所述三角形工作台面的三条边处，在所述三角形工作台面的边缘三角位置，均分别设有一小滚珠轴承固定座，所述圆盘与所述三个小滚珠轴承固定座滚动连接，所述圆盘中央设有一开口，所述开口的四个角上均分别设有安置方形玻璃基片的槽座，在所述工作台面的中心位置下方设有一台千分表，本实用新型提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪克服了各类规格方形玻璃基片由于玻璃自重而产生的变形影响测量精度的不利因素，使测量精度大大提高。
文档编号G01B5/28GK202885758SQ201220200390
公开日2013年4月17日 申请日期2012年5月4日 优先权日2012年5月4日
发明者应永伟, 王华龙 申请人:上海申菲激光光学系统有限公司