专利名称：电光分析天平防超量程而损坏的保护装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种电光分析天平，具体涉及一种防止衡量物的质量超过天平量程而损坏的保护装置。
背景技术：
目前在化学分析领域中半机械式、全机械式电光分析天平仍被广泛的应用，但存在由于称量物的质量超过天平量程的失误操作而造成损害天平的缺点。

实用新型内容本实用新型的目的是针对现有在的不足，提供了一种防止称量物的质量超过天平量程而损坏的保护装置。本实用新型的目的是通过以下技术手段实现的包括套设在称物盘盘托外侧的弹簧、锁定杆、升降枢轴上的锁定孔，天平橱底座上设有底座孔，锁定杆的一端固定在弹簧的上端，另一端伸出底座孔并靠近锁定孔的开口。与现有技术相比本实用新型具有以下明显的优点当称量物的质量超过天平的量程时，锁定杆插入到锁定孔中，限制升降枢轴的转动，无法旋转升降枢，保护天平免受损害。

图1为本实用新型的结构示意图；图中，1-称物盘盘托，2-弹簧，3-锁定杆，4-底座孔，5-天平橱底座，6_锁定孔， 7-升降枢轴。
具体实施方式
以下结合附图说明和具体实施方式
对本实用新型作进一步的详细描述如图1所示的电光分析天平防超量程而损坏的保护装置包括弹簧2、锁定杆3、锁定孔6，弹簧2套设在称物盘盘托1的外侧，天平橱底座5上设有底座孔4，升降枢轴7上设有锁定孔6，底座孔4正对锁定孔6，锁定杆3的一端固定在弹簧2的上端，另一端伸出底座孔4并靠近锁定孔6的开口。天平正常工作时，称量物的质量小于天平的量程，弹簧弹性变形小，锁定杆3无法插入锁定孔6中，天平可以正常工作，当称量物的质量大于天平的量程时，弹簧弹性变形变大，锁定杆3插入锁定孔6中，限制升降枢轴7的转动，此时无法旋转升降枢，保护天平免受损害总之，本实用新型提供了一种电光分析天平防超量程而损坏的保护装置。以上所述，仅为本实用新型的一部分具体实施方式
，本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种电光分析天平防超量程而损坏的保护装置，包括套设在称物盘盘托(1)外侧的弹簧O)、锁定杆(3)、升降枢轴(7)上的锁定孔(6)，天平橱底座(5)设有底座孔，其特征在于锁定杆(3)的一端固定在弹簧(2)的上端，锁定杆(3)的另一端伸出底座孔(4)并靠近锁定孔(6)的开口。
2.根据权利要求1所述的电光分析天平防超量程而损坏的保护装置，其特征在于底座孔(4)正对锁定孔(6)。
专利摘要一种电光分析天平防超量程而损坏的保护装置，包括套设在称物盘盘托(1)外侧的弹簧(2)、锁定杆(3)、升降枢轴(7)上的锁定孔(6)，天平橱底座(5)设有底座孔(4)，锁定杆(3)的一端固定在弹簧(2)的上端，另一端伸出底座孔(4)并靠近锁定孔(6)的开口。当称量物的质量超过天平的量程时，锁定杆(3)插入到锁定孔(6)中，限制升降枢轴(7)的转动，无法旋转升降枢，保护天平免受损害。
文档编号G01G23/00GK202083457SQ20112020019
公开日2011年12月21日 申请日期2011年6月15日 优先权日2011年6月15日
发明者刘淑凤 申请人:刘淑凤