专利名称：一种平面靶磁场强度的检测装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种磁控溅射装置中平面靶的磁场强度的检测设备，属于磁控溅射镀膜领域的检测技术。
背景技术：
磁控溅射镀膜是通过磁场对电子作用溅射靶材沉积到基片，平面靶的磁场强度直接影响镀膜质量。因此需要测量新靶的磁场强度和分布，以及当靶材消耗一定程度时，在相同位置上的测量磁场变化，寻找镀膜出现问题的原因，以调整磁场。目前镀膜工业领域中平面靶的磁场设计，通常将磁性大小一致的小磁铁通过排列 组合成各种结构的磁场，再投入生产中使用。理论上，由小磁铁组合而成的磁场在同一高度的靶平面上分布均匀，但实际上由于人为组装的失误或靶阴极的平整情况等因素的影响，使得组装之后靶面磁场的分布不均匀，基于这种情况，需要对靶面磁场的大小进行监控测量，以调整磁场分布。磁场的测量一般是由手工操作，得到的数据再现性差，误差大，很容易误导生产。中国专利200980128084. 4公开了一种“用于检测磁性的测量装置”，主要用于识别与有价证券上的图案，例如具有软磁和/或硬磁图案的纸币、支票，不适合用于检测磁控溅射平面靶的磁场强度。
发明内容针对上述现有技术存在的问题，本使用新型设计一种用于测量磁场强度的检测装置，解决如何实现平面靶测量位置的一致性，保证测量数据的准确性和再现性。为了实现以上任务，本实用新型采用的技术方案发明一种平面靶磁场强度的检测装置，包括检测机构、机架及其平台，平面靶放置在机架的平台上，主要技术特征是机架上设有移动装置，检测机构安装在移动装置的滑动架上，滑动架带动检测机构做X向和Y向运动。本实用新型采用的检测机构为磁强计或其他用于测量磁场强度的仪器，磁强计端部的探头具有一定的弹性。移动装置的滑动架包括立柱、滑轨、横梁以及滑块，横梁安装在立柱上，立柱安装在滑轨上做Y向运动，滑块安装在横梁上做X向运动。横梁位于平台上方，且横梁上标有刻度。磁强计安装移动装置的滑块上，该滑块上标有刻度。磁强计可以垂直或倾斜安装在滑块上，磁强计在滑块上的位置可调。平面靶放在平台上，由定位块限定位置。移动装置的滑轨为圆柱轴，其上标有刻度，滑轨由机架两端的支撑块固定。移动装置的立柱上设有滑轨和横梁的安装孔，立柱沿滑轨移动。移动装置的滑动架由电气控制系统控制自动移动及定位。本实用新型产生的积极效果I.由于检测机构是安装在移动装置上，将平面靶放置在检测装置的平台上，测量磁场强度的磁强计可以做X向及Y向移动，通过控制滑动架的移动位置，来控制磁强计的位置，实现测量位置的一致性，保证测量数据的准确性和再现性，操作简便，成本低，可避免人工手握检测的不确定性。2.设计灵活，可用于检测各种大小和规格的平面靶，磁强计可在滑块上下移动，可测试不同厚度的平面靶。 3.测量位置准确，在靶消耗一定程度后，仍然能对同一位置进行准确测量，保证获得准确的磁场分布。4.当所镀膜层出现质量问题时，可以很方便地检测磁场情况，判断是否因磁场变化导致。

图I :本实用新型的结构示意图图2:本实用新型的主视图图中1、平台，2、立柱，3、滑轨，4、滑轨支撑块，5、滑块，6、横梁，7、磁强计，8、定位块，9、机架，10、平面靶。
具体实施方式
本实用新型设计的平面靶磁场强度的检测装置，主要由平台I、立柱2、滑轨3、滑轨支撑块4、滑块5、横梁6、磁强计7、定位块8和机架9组成，平台I安装在机架9上，滑轨3为圆柱轴，滑轨支撑块4固定在机架9的两端，滑轨3安装在滑轨支撑块4的轴孔内，立柱2上的轴孔套在滑轨3上，可在滑轨3上移动，横梁6为两根圆柱轴，两头插接在立柱2的轴孔内，滑块5套在横梁6的轴上，可在横梁6上自由移动，磁强计7安装在滑块5上，调整好位置后由顶丝固定，平台I上安装有定位块9，测量时将平面靶10放在平台I上，由定位块9限定位置，这样实现对平面靶10的任意位置的磁场强度测量。当平面靶10为新靶时，调整磁强计7在滑块5上的高度，使磁强计7的前端探头刚好接触平面靶10表面，记下此时磁强计7在滑块5的刻度值，该值作为这支平面靶10以后测量时磁强计7的参考高度，由于磁强计7前端探头有一定的弹性，同时靶材供应商对靶材平面的平整度有着严格控制，因此可以实现磁强计7的左右前后移动。本实用新型的技术方案不限于上述实施例，在本领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本实用新型宗旨的前提下作出各种变化，从本实用新型公开的内容直接导出或联想到的所有变形，均应认为是本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种平面靶磁场强度的检测装置，包括检测机构、机架及其平台，平面靶放置在机架的平台上，其特征在于机架上设有移动装置，检测机构安装在移动装置的滑动架上，滑动架带动检测机构做X向和Y向运动。
2.根据权利要求I所述的平面靶磁场强度的检测装置，其特征在于所述检测机构为磁强计，其端部的探头具有一定的弹性。
3.根据权利要求2所述的平面靶磁场强度的检测装置，其特征在于所述移动装置的滑动架包括立柱、滑轨、横梁以及滑块，横梁安装在立柱上，立柱安装在滑轨上做Y向运动，滑块安装在横梁上做X向运动。
4.根据权利要求3所述的平面靶磁场强度的检测装置，其特征在于所述移动装置的横梁位于平台上方，且横梁上标有刻度。
5.根据权利要求3所述的平面靶磁场强度的检测装置，其特征在于所述磁强计安装移动装置的滑块上，该滑块上标有刻度。
6.根据权利要求5所述的平面靶磁场强度的检测装置，其特征在于所述磁强计垂直或倾斜安装在滑块上，磁强计在滑块上的位置可调。
7.根据权利要求I所述的平面靶磁场强度的检测装置，其特征在于所述平面靶放在平台上，由定位块限定位置。
8.根据权利要求3所述的平面靶磁场强度的检测装置，其特征在于所述移动装置的滑轨为圆柱轴，其上标有刻度，滑轨由机架两端的支撑块固定。
9.根据权利要求3所述的平面靶磁场强度的检测装置，其特征在于所述移动装置的滑动架由电气控制系统控制自动移动及定位。
10.根据权利要求3所述的平面靶磁场强度的检测装置，其特征在于所述移动装置的立柱上设有滑轨和横梁的安装孔，立柱沿滑轨移动。
专利摘要本实用新型涉及一种磁控溅射装置中平面靶的磁场强度的检测设备，属于磁控溅射镀膜领域的检测技术。平面靶磁场强度的检测装置，包括检测机构、机架及其平台，平面靶放置在机架的平台上，机架上设有移动装置，检测机构安装在移动装置的滑动架上，滑动架带动检测机构做X向和Y向运动，实现测量位置的一致性，保证测量数据的准确性和再现性，操作简便，成本低。
文档编号G01R33/02GK202548307SQ201220108299
公开日2012年11月21日 申请日期2012年3月21日 优先权日2012年3月21日
发明者李毅, 盛国浩 申请人:深圳市创益科技发展有限公司