专利名称：一种极间距测量装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种极间距测量装置，具体地涉及一种用于PECVD设备，通过最 少三个光电传感器构成平面测量加热盘与喷淋头极间距的测量装置。
背景技术：
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术的原理是利用低温等离子体作为能量 源，晶圆样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电使样品升温到预定的温度，然 后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄 膜。在成膜过程中，加热盘与喷淋头的极间距至关重要，在PECVD系统中，加热盘与喷淋头 分别是设备等离子体放电的两个电极，该距离直接影响等离子体分布的均勻性和放电强 度，从而影响成膜的质量与成膜速度。传统的测量方法是打表或者压铝箔球，打表需要在大 气下完成，与工艺的真实情况不同，压铝箔球测量误差大。目前较先进的方法是通过电容值 测量极间距，但是测量范围窄，在20mm以内，而且成本高。
发明内容本实用新型的目的在于提供一种可在真空环境下精确测量加热盘与喷淋头极间 距的测量装置，以解决极间距测量技术中误差较大，成本高等问题。本实用新型采用的技术方案是一种极间距测量装置，其特征在于在圆形托板 上固定安装至少三个光电传感器，光电传感器与显示装置连接。所述的圆形托板制成大小与晶圆的大小相同。所述的光电传感器为反射式光电传感器。所述的极间距测量装置，所有光电传感器构成一个平面。本实用新型的有益效果是1.精确度高。当PECVD设备需要进行极间距调整时，将本实用新型的测量装置置 于加热盘的中央，根据每个光电传感器测量的反馈值，精确反应极间距的值；2.由于是在PECVD设备腔体内真空状态下不开腔来完成极间距测量，与工艺的真 实情况更接近，测量更精确；3.可靠性高，成本低。

图1为本实用新型的结构示意图。图2为本实用新型的工作原理图。图中，1、喷淋头；2、光电传感器；3、圆形托板；4、加热盘；5、PECVD设备的腔体；6、
显示装置。
具体实施方式
如图1所示，一种极间距测量装置在圆形托板(3)上固定安装三个光电传感器 (2)，光电传感器(2)与显示装置(6)连接。圆形托板(3)制成大小与晶圆的大小相同。光 电传感器(2)采用反射式光电传感器。三个光电传感器(2)固定在圆形托板(3)上构成一 个平面。当PECVD设备需要进行喷淋头(1)与加热盘(4)间极间距调整时，将圆形托板(3) 放置到加热盘(4)上，将PECVD设备的腔体(5)闭合，并抽真空，真空环境下通过三个光电传 感器(2)构成的平面反应出加热盘(4)与喷淋头(1)之间的距离。光电传感器(2)为反射 式，在加热盘(4)向上运动接近喷淋头(1)的过程中，当其中一个光电传感器达到反应距离 时，会向显示装置(6)发出信号，最终通过三个光电传感器的反馈信号测量出加热盘(4)与 喷淋头(1)在真空环境下的真实极间距。
权利要求1.一种极间距测量装置，其特征在于在圆形托板(3)上固定安装至少三个光电传感 器(2)，光电传感器(2)与显示装置(6)连接。
2.按照权利要求1所述的极间距测量装置，其特征在于圆形托板(3)制成大小与晶圆 的大小相同。
3.按照权利要求1或2所述的极间距测量装置，其特征在于所述的光电传感器(2)为 反射式光电传感器。
4.按照权利要求1或2所述的极间距测量装置，其特征在于所有光电传感器(2)构成 一个平面。
5.按照权利要求3所述的极间距测量装置，其特征在于所有光电传感器(2)构成一个平面。
专利摘要本实用新型涉及一种极间距测量装置，以解决极间距测量技术中误差较大，成本高等问题。采用的技术方案是在圆形托板上固定安装至少三个光电传感器，光电传感器与显示装置连接。所述的圆形托板制成大小与晶圆的大小相同。所述的光电传感器为反射式光电传感器。所述的极间距测量装置，所有光电传感器构成一个平面。当PECVD设备需要进行极间距调整时，将本实用新型的测量装置置于加热盘的中央，根据每个光电传感器测量的反馈值，精确反应极间距的值。由于是在PECVD设备腔体内真空状态下不开腔来完成极间距测量，与工艺的真实情况更接近，测量更精确。可靠性高，成本低。
文档编号G01B11/14GK201867176SQ20102063606
公开日2011年6月15日 申请日期2010年12月1日 优先权日2010年12月1日
发明者李忠然 申请人:沈阳拓荆科技有限公司